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1. 发明专利

TW565532B 排水處理裝置失效
简体标题：排水处理设备
公开(公告)号：TW565532B
公开(公告)日：2003-12-11
申请号：TW087106131
申请日：1998-04-21
申请人：日本觸媒股份有限公司
发明人： 田介 , 石井徹 , 三井紀一郎
IPC分类号： C02F
CPC分类号： C02F1/725 , C02F1/025 , C02F1/28 , C02F1/281 , C02F1/283 , C02F1/74
摘要：本發明的排水處理裝置，其特徵在於，在固體觸媒及/或固體吸附材的填充層上設置對於該填充層表面的變形或移動具有追隨能力的壓制層。具體言之，本發明之裝置為，在上述填充層上設置對於該填充層表面的移動具有追隨移動能力之壓制層的裝置；或是在上述填充層上設置對於該填充層表面的變形具有追隨變形能力之透水性壓制層的裝置。藉由設置如上所述之壓制層，可有效地防止固體觸媒填充層之固體觸媒的運動，且可解決主要由固體觸媒的運動產生的固體觸媒摩損所引起的性能變差、壓力損失上昇等各種問題，故可長期安定地進行排水處理。
简体摘要：本发明的排水处理设备，其特征在于，在固体触媒及/或固体吸附材的填充层上设置对于该填充层表面的变形或移动具有追随能力的压制层。具体言之，本发明之设备为，在上述填充层上设置对于该填充层表面的移动具有追随移动能力之压制层的设备；或是在上述填充层上设置对于该填充层表面的变形具有追随变形能力之透水性压制层的设备。借由设置如上所述之压制层，可有效地防止固体触媒填充层之固体触媒的运动，且可解决主要由固体触媒的运动产生的固体触媒摩损所引起的性能变差、压力损失上升等各种问题，故可长期安定地进行排水处理。

2. 发明专利

TW315315B 廢水處理用觸媒之製造方法以及使用此觸媒之廢水處理方法失效
简体标题：废水处理用触媒之制造方法以及使用此触媒之废水处理方法
公开(公告)号：TW315315B
公开(公告)日：1997-09-11
申请号：TW083112298
申请日：1994-12-28
申请人：日本觸媒股份有限公司
发明人：三井紀一郎 , 石井徹 , 鹽田?介
IPC分类号： B01J , C02F
CPC分类号： C02F1/725 , B01J23/34 , B01J23/8892 , C02F1/025 , C02F1/72 , C02F11/08
摘要：一種錳之氧化物及／或複合氧化物和選自鐵、鈦及鋯群之至少一種金屬之氧化物及／或複合氧化物，有必要時復含有貴金屬所形成之廢水處理用觸媒，其製造方法以及使用該觸媒將廢水保持在液相之壓力下經由含氧氣體使廢水施加濕式氧化處理之廢水處理方法。
简体摘要：一种锰之氧化物及／或复合氧化物和选自铁、钛及锆群之至少一种金属之氧化物及／或复合氧化物，有必要时复含有贵金属所形成之废水处理用触媒，其制造方法以及使用该触媒将废水保持在液相之压力下经由含氧气体使废水施加湿式氧化处理之废水处理方法。

3. 发明专利

TW256824B 處理廢水用之觸媒、產製此觸媒之方法、以及以此觸媒處理水之方法失效
简体标题：处理废水用之触媒、产制此触媒之方法、以及以此触媒处理水之方法
公开(公告)号：TW256824B
公开(公告)日：1995-09-11
申请号：TW081103521
申请日：1992-05-05
申请人：日本觸媒股份有限公司
发明人：三井紀一郎 , 石井徹 , 佐野邦夫 , 宋田健一 , 殟田祐介
IPC分类号： C02F , B01J
摘要：本發明係提供廢水處理方法中所用之觸媒，在該廢水處理方法中不僅不包含氮，硫或鹵原子之有機化合物被分解，而且，含氮化合物，含硫化合物及有機鹵化物亦有效地被分解，因而廢水長時間經優異效率處理。本發明亦提供觸媒之製法以及前述廢水處理方法。第一種觸媒包含：鐵之氧化物（Ａ成份）及選自鈷、鎳、銫、銀、金、鉑、鈀、佬、釕及銥之至少一種元素（Ｂ成份）。第二種觸媒包含：包含鐵及選自鈦，矽及鋯之至少一種元素的氧化物（Ａ成份）；以及選自鈷、鎳、銫、銀、金、鉑、鈀、銠、釕及銥之至少一種元素（Ｂ成份）。
简体摘要：本发明系提供废水处理方法中所用之触媒，在该废水处理方法中不仅不包含氮，硫或卤原子之有机化合物被分解，而且，含氮化合物，含硫化合物及有机卤化物亦有效地被分解，因而废水长时间经优异效率处理。本发明亦提供触媒之制法以及前述废水处理方法。第一种触媒包含：铁之氧化物（Ａ成份）及选自钴、镍、铯、银、金、铂、钯、佬、钌及铱之至少一种元素（Ｂ成份）。第二种触媒包含：包含铁及选自钛，硅及锆之至少一种元素的氧化物（Ａ成份）；以及选自钴、镍、铯、银、金、铂、钯、铑、钌及铱之至少一种元素（Ｂ成份）。

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