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    • 4. 发明专利
    • 紅外線處理裝置以及紅外線處理方法
    • 红外线处理设备以及红外线处理方法
    • TW201524251A
    • 2015-06-16
    • TW103126146
    • 2014-07-31
    • 日本碍子股份有限公司NGK INSULATORS, LTD.
    • 藤田雄樹
    • H05B3/40H05B3/62
    • 在乾燥裝置10,藉紅外線加熱器30對以輥對輥方式所搬運之片狀的塗膜82放射紅外線,進行乾燥,而該紅外線加熱器30具有:燈絲32,係藉加熱放射紅外線;及內管36、外管40,係吸收波長超過3.5μm之紅外線,並覆蓋燈絲32。又,藉第2冷媒冷卻塗膜82中被照射來自紅外線加熱器30之紅外線的部分(爐體12內的部分)。冷卻機構60係藉皮帶輸送帶61將塗膜82支撐成可搬運。水冷輥65係以第2冷媒通過比皮帶62之環更內側的方式形成第2流路65a。
    • 在干燥设备10,藉红外线加热器30对以辊对辊方式所搬运之片状的涂膜82放射红外线,进行干燥,而该红外线加热器30具有:灯丝32,系藉加热放射红外线;及内管36、外管40,系吸收波长超过3.5μm之红外线,并覆盖灯丝32。又,藉第2冷媒冷却涂膜82中被照射来自红外线加热器30之红外线的部分(炉体12内的部分)。冷却机构60系藉皮带输送带61将涂膜82支撑成可搬运。水冷辊65系以第2冷媒通过比皮带62之环更内侧的方式形成第2流路65a。
    • 6. 发明专利
    • 紅外線加熱裝置及乾燥爐
    • 红外线加热设备及干燥炉
    • TW201429316A
    • 2014-07-16
    • TW102135631
    • 2013-10-02
    • 日本碍子股份有限公司NGK INSULATORS, LTD.
    • 藤田雄樹
    • H05B7/18H01L21/324
    • F26B3/30F26B13/10H05B3/44
    • 從燈絲41放射包含紅外線之電磁波時,紅外線透過內管42,到達以與內管42分開之方式設置成僅覆蓋燈絲41之周圍的一部分的反射層46,並反射。在此時,以與內管42分開之方式設置反射層46,而且反射層46係可藉在冷媒流路49流通之冷媒冷卻。藉此,例如與將反射層46形成於內管42上的情況相比,可更抑制反射層46的過熱。又,將使紅外線透過之第1外管44設置於內管42與反射層46之間。藉此,因為在燈絲41與反射層46之間存在內管42與第1外管44之雙層,所以可更抑制反射層46的過熱。
    • 从灯丝41放射包含红外线之电磁波时,红外线透过内管42,到达以与内管42分开之方式设置成仅覆盖灯丝41之周围的一部分的反射层46,并反射。在此时,以与内管42分开之方式设置反射层46,而且反射层46系可藉在冷媒流路49流通之冷媒冷却。借此,例如与将反射层46形成于内管42上的情况相比,可更抑制反射层46的过热。又,将使红外线透过之第1外管44设置于内管42与反射层46之间。借此,因为在灯丝41与反射层46之间存在内管42与第1外管44之双层,所以可更抑制反射层46的过热。