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    • 1. 发明专利
    • 半導體的封裝方法
    • 半导体的封装方法
    • TW279255B
    • 1996-06-21
    • TW084105059
    • 1995-05-20
    • 日本朋諾股份有限公司台灣通用器材股份有限公司
    • 山村勳稻垣彰宏
    • H01L
    • C08G59/68H01L23/293H01L2924/0002H01L2924/00
    • 一種封裝半導體的方法,其包括:
      將半導體封裝在可固化之環氧樹脂組合物中,該組合物包含
      (A)液體環氧樹脂或可固化液體混合物,其包含環氧樹脂和稀釋劑;
      (B)無機填料;
      (C)如式(I)或(II)所表示之__鹽化合物CC (I)CC (II)
      其中E為硫、氮或磷;Ar為芳環;當a為2,R1為相同或不同之經取代或未經取代之單價烴基、羥基、烷氧基、硝基、氰基或鹵素原子;每個R2和R3分別為氫原子或甲基;R4為相同或不同之經取代或未經取代之單價烴基;R5為經取代或未經取代之呲啶__基;a為0至2的整數;且當E為硫時b為2,或當E為氮或磷時b為3;和
      (D)內部脫模劑,
      且實質上不含有固化劑,其後模製上述組合物。
    • 一种封装半导体的方法,其包括: 将半导体封装在可固化之环氧树脂组合物中,该组合物包含 (A)液体环氧树脂或可固化液体混合物,其包含环氧树脂和稀释剂; (B)无机填料; (C)如式(I)或(II)所表示之__盐化合物CC (I)CC (II) 其中E为硫、氮或磷;Ar为芳环;当a为2,R1为相同或不同之经取代或未经取代之单价烃基、羟基、烷氧基、硝基、氰基或卤素原子;每个R2和R3分别为氢原子或甲基;R4为相同或不同之经取代或未经取代之单价烃基;R5为经取代或未经取代之呲啶__基;a为0至2的整数;且当E为硫时b为2,或当E为氮或磷时b为3;和 (D)内部脱模剂, 且实质上不含有固化剂,其后模制上述组合物。