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1. 发明专利

TWI431019B 新穎共聚物有权
简体标题：新颖共聚物
公开(公告)号：TWI431019B
公开(公告)日：2014-03-21
申请号：TW100112692
申请日：2011-04-12
申请人：日本曹達股份有限公司 , NIPPON SODA CO., LTD. , JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：新谷武士 , NIITANI, TAKESHI , 立石祐一 , TATEISHI, YUICHI , 岡戶俊明 , OKADO, TOSHIAKI , 成瀨秀則 , NARUSE, HIDENORI , 尾田徹 , KAJITA, TOORU
IPC分类号： C08F220/34 , C08F220/28 , C08F220/18 , C08F220/06 , B01F17/36
CPC分类号： C08F283/06 , C08F220/10

2. 发明专利

TW201326235A 新穎共聚物审中-公开
简体标题：新颖共聚物
公开(公告)号：TW201326235A
公开(公告)日：2013-07-01
申请号：TW101138505
申请日：2012-10-18
申请人：日本曹達股份有限公司 , NIPPON SODA CO., LTD.
发明人：新谷武士 , NIITANI, TAKESHI , 岡戶俊明 , OKADO, TOSHIAKI , 丹藤泉 , TANDO, IZUMI , 成瀨秀則 , NARUSE, HIDENORI , 尾田徹 , KAJITA, TOORU
IPC分类号： C08F297/00 , C08F293/00 , C09D17/00 , G02B5/20
CPC分类号： C08F299/04 , C08F290/062 , C08F297/026 , C09B67/0002 , C09B67/009 , G02B5/223 , C08F220/18 , C08F2220/285 , C08F2220/281
摘要：本發明之課題在於提供一種具有優異之顏料分散性能之新穎共聚物，尤其提供一種於彩色濾光片中可用作可達成綠色像素之高亮度化及高對比度化之顏料分散劑的新穎共聚物。本發明之新穎共聚物含有：嵌段鏈(A)，其包含具有三級胺基之重複單元；及嵌段鏈(B)，其包含下述式(I)所示之重複單元(式中，R1表示氫原子或C1~C3烷基，R2及R3分別獨立地表示氫原子或C1~C6烷基，Q表示可具有烷基作為取代基之含氧飽和雜環基、或C2~C20烯基，n表示0~6之任一整數)；且該共聚物之胺值為80 mgKOH/g以上且250 mgKOH/g以下。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种具有优异之颜料分散性能之新颖共聚物，尤其提供一种于彩色滤光片中可用作可达成绿色像素之高亮度化及高对比度化之颜料分散剂的新颖共聚物。本发明之新颖共聚物含有：嵌段链(A)，其包含具有三级胺基之重复单元；及嵌段链(B)，其包含下述式(I)所示之重复单元(式中，R1表示氢原子或C1~C3烷基，R2及R3分别独立地表示氢原子或C1~C6烷基，Q表示可具有烷基作为取代基之含氧饱和杂环基、或C2~C20烯基，n表示0~6之任一整数)；且该共聚物之胺值为80 mgKOH/g以上且250 mgKOH/g以下。

3. 发明专利

TW201434936A 無機粒子用分散劑、含有該分散劑之組成物、硬化性組成物、硬化物及薄膜审中-公开
简体标题：无机粒子用分散剂、含有该分散剂之组成物、硬化性组成物、硬化物及薄膜
公开(公告)号：TW201434936A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW102149234
申请日：2013-12-31
申请人：日本曹達股份有限公司 , NIPPON SODA CO., LTD.
发明人：新谷武士 , NIITANI, TAKESHI , 岡戶俊明 , OKADO, TOSHIAKI , 山手太軌 , YAMATE, TAIKI
IPC分类号： C08L53/00 , C08F293/00 , B01F17/52
CPC分类号： C08F297/026 , C08L53/00 , C08K3/00
摘要：本發明提供一種無機粒子用分散劑，由含有聚合物嵌段(a)及聚合物嵌段(b)之嵌段共聚物構成，其中，聚合物嵌段(a)含有選自由具有三級胺基的重複單位及具有四級銨鹽結構的重複單位組成之群中至少1種重複單位，聚合物嵌段(b)含有選自由具有交聯性官能基的重複單位及具有具備捕捉自由基之功能之結構的重複單位組成之群中至少1種重複單位，上述自由基係利用光之氧化所產生。
简体摘要：本发明提供一种无机粒子用分散剂，由含有聚合物嵌段(a)及聚合物嵌段(b)之嵌段共聚物构成，其中，聚合物嵌段(a)含有选自由具有三级胺基的重复单位及具有四级铵盐结构的重复单位组成之群中至少1种重复单位，聚合物嵌段(b)含有选自由具有交联性官能基的重复单位及具有具备捕捉自由基之功能之结构的重复单位组成之群中至少1种重复单位，上述自由基系利用光之氧化所产生。

4. 发明专利

TWI423992B 嵌段共聚物之製造方法及共聚物前驅體有权
简体标题：嵌段共聚物之制造方法及共聚物前驱体
公开(公告)号：TWI423992B
公开(公告)日：2014-01-21
申请号：TW100123181
申请日：2011-06-30
申请人：日本曹達股份有限公司 , NIPPON SODA CO., LTD.
发明人：新谷武士 , NIITANI, TAKESHI , 三島豪 , MISHIMA, GOU , 立石祐一 , TATEISHI, YUICHI , 岡戶俊明 , OKADO, TOSHIAKI
IPC分类号： C08F299/00 , C08F20/06 , C08F12/00 , C08F10/00 , C08G61/12 , C09B67/46
CPC分类号： C08F293/005

5. 发明专利

TWI423990B 新穎共聚物有权
简体标题：新颖共聚物
公开(公告)号：TWI423990B
公开(公告)日：2014-01-21
申请号：TW100123180
申请日：2011-06-30
申请人：日本曹達股份有限公司 , NIPPON SODA CO., LTD. , JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：新谷武士 , NIITANI, TAKESHI , 三島豪 , MISHIMA, GOU , 立石祐一 , TATEISHI, YUICHI , 岡戶俊明 , OKADO, TOSHIAKI , 成瀨秀則 , NARUSE, HIDENORI , 尾田徹 , KAJITA, TOORU
IPC分类号： C08F297/02 , B01F17/52 , C09B67/46
CPC分类号： C08F265/06 , C08F297/026 , C09D11/106 , C09D11/107 , C09D11/326

6. 发明专利

TWI425012B 嵌段共聚物之製造方法及共聚物前驅體有权
简体标题：嵌段共聚物之制造方法及共聚物前驱体
公开(公告)号：TWI425012B
公开(公告)日：2014-02-01
申请号：TW100112691
申请日：2011-04-12
申请人：日本曹達股份有限公司 , NIPPON SODA CO., LTD.
发明人：新谷武士 , NIITANI, TAKESHI , 立石祐一 , TATEISHI, YUICHI , 岡戶俊明 , OKADO, TOSHIAKI
IPC分类号： C08F293/00 , C08G81/02
CPC分类号： C08F293/00 , C09D153/00 , G02F1/13

7. 发明专利

TWI473825B 新穎共聚物有权
简体标题：新颖共聚物
公开(公告)号：TWI473825B
公开(公告)日：2015-02-21
申请号：TW101138505
申请日：2012-10-18
申请人：日本曹達股份有限公司 , NIPPON SODA CO., LTD.
发明人：新谷武士 , NIITANI, TAKESHI , 岡戶俊明 , OKADO, TOSHIAKI , 丹藤泉 , TANDO, IZUMI , 成瀨秀則 , NARUSE, HIDENORI , 尾田徹 , KAJITA, TOORU
IPC分类号： C08F297/00 , C08F293/00 , C09D17/00 , G02B5/20
CPC分类号： C08F299/04 , C08F290/062 , C08F297/026 , C09B67/0002 , C09B67/009 , G02B5/223 , C08F220/18 , C08F2220/285 , C08F2220/281

8. 发明专利

TWI458746B 新穎共聚物有权
简体标题：新颖共聚物
公开(公告)号：TWI458746B
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW100140429
申请日：2011-11-04
申请人：日本曹達股份有限公司 , NIPPON SODA CO., LTD. , JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：新谷武士 , NIITANI, TAKESHI , 岡戶俊明 , OKADO, TOSHIAKI , 成瀨秀則 , NARUSE, HIDENORI , 尾田徹 , KAJITA, TOORU
IPC分类号： C08F293/00 , C08L53/00 , C09D17/00 , G02B5/20
CPC分类号： C08F265/04 , C08F297/026 , C09D11/326

9. 发明专利

TW201204754A 嵌段共聚物之製造方法及共聚物前驅體审中-公开
简体标题：嵌段共聚物之制造方法及共聚物前驱体
公开(公告)号：TW201204754A
公开(公告)日：2012-02-01
申请号：TW100112691
申请日：2011-04-12
申请人：日本曹達股份有限公司
发明人：新谷武士 , 立石祐一 , 岡戶俊明
IPC分类号： C08F , C08G
CPC分类号： C08F293/00 , C09D153/00 , G02F1/13
摘要：本發明之目的在於提供一種用作顏料之分散劑等之新穎共聚物之製造方法。本發明之製造方法如下所述。藉由加熱含有下述嵌段鏈(A)、(B)之共聚物前驅體，而製造含有下述嵌段鏈(A)、(B1)之嵌段共聚物：包含含有選自由具有三級胺基之重複單元及具有四級銨鹽基之重複單元所組成之群中之至少一種重複單元之聚合物的嵌段鏈(A)、包含含有具有聚氧伸烷基鏈之重複單元及式(I)所表示之具有經保護之酸性基之重複單元之共聚物的嵌段鏈(B)、包含含有具有聚氧伸烷基鏈之重複單元及式(II)所表示之具有酸基之重複單元之共聚物的嵌段鏈(B1)。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种用作颜料之分散剂等之新颖共聚物之制造方法。本发明之制造方法如下所述。借由加热含有下述嵌段链(A)、(B)之共聚物前驱体，而制造含有下述嵌段链(A)、(B1)之嵌段共聚物：包含含有选自由具有三级胺基之重复单元及具有四级铵盐基之重复单元所组成之群中之至少一种重复单元之聚合物的嵌段链(A)、包含含有具有聚氧伸烷基链之重复单元及式(I)所表示之具有经保护之酸性基之重复单元之共聚物的嵌段链(B)、包含含有具有聚氧伸烷基链之重复单元及式(II)所表示之具有酸基之重复单元之共聚物的嵌段链(B1)。

10. 发明专利

TW201213359A 嵌段共聚物之製造方法及共聚物前驅體审中-公开
简体标题：嵌段共聚物之制造方法及共聚物前驱体
公开(公告)号：TW201213359A
公开(公告)日：2012-04-01
申请号：TW100123181
申请日：2011-06-30
申请人：日本曹達股份有限公司
发明人：新谷武士 , 三島豪 , 立石祐一 , 岡戶俊明
IPC分类号： C08F , C08G , C09B
CPC分类号： C08F293/005
摘要：本發明之目的在於提供一種用作顏料之分散劑等的新穎共聚物之製造方法。本發明之製造方法係如下之方法：使用含有嵌段鏈(A)與嵌段鏈(B)之共聚物前驅體並加熱，藉此製造含有嵌段鏈(A)與嵌段鏈(B1)之嵌段共聚物，上述嵌段鏈(A)係含有選自由含有3級胺基之重複單元及含有4級銨鹽基之重複單元所組成之群中至少一種重複單元者，上述嵌段鏈(B)係含有式(I)所示之含有經保護之酸性基之重複單元及式(II)所示之重複單元者，上述嵌段鏈(B1)係含有式(III)所示之含有酸性基之重複單元及式(II)所示之重複單元者。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种用作颜料之分散剂等的新颖共聚物之制造方法。本发明之制造方法系如下之方法：使用含有嵌段链(A)与嵌段链(B)之共聚物前驱体并加热，借此制造含有嵌段链(A)与嵌段链(B1)之嵌段共聚物，上述嵌段链(A)系含有选自由含有3级胺基之重复单元及含有4级铵盐基之重复单元所组成之群中至少一种重复单元者，上述嵌段链(B)系含有式(I)所示之含有经保护之酸性基之重复单元及式(II)所示之重复单元者，上述嵌段链(B1)系含有式(III)所示之含有酸性基之重复单元及式(II)所示之重复单元者。

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