专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW202022414A 光學濾波器及其用途审中-公开
简体标题：光学滤波器及其用途
公开(公告)号：TW202022414A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108132865
申请日：2019-09-11
申请人：日商JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：岸田寛之 , KISHIDA, HIROYUKI , 長屋勝也 , NAGAYA, KATSUYA , 山本達之 , YAMAMOTO, TATSUYUKI , 長尾敦記 , NAGAO, ATSUKI
IPC分类号： G02B5/22 , B32B7/02 , H01L27/14 , C08K5/34 , C08L101/00
摘要：本發明的課題在於提供一種光學濾波器，兼具近紅外線區域的入射角依存性低與紅色的透過率特性優異，且改善了重影。本發明的光學濾波器的特徵在於，滿足下述必要條件（A）～（D）：（A）於波長430 nm～580 nm的範圍內，從垂直方向測定時的透過率的平均值為75%以上；（B）於波長800 nm～1000 nm的範圍內，從垂直方向測定時的透過率的平均值為10%以下；（C）於波長700 nm～750 nm的範圍內，從垂直方向測定時的透過率的平均值超過46%；（D）於波長560 nm～800 nm的範圍內，從垂直方向測定時的透過率為50%的最短波長的值（Ya）與從相對於垂直方向以30°的角度測定時的透過率為50%的最短波長的值（Yb）之差的絕對值小於15 nm。
简体摘要：本发明的课题在于提供一种光学滤波器，兼具近红外线区域的入射角依存性低与红色的透过率特性优异，且改善了重影。本发明的光学滤波器的特征在于，满足下述必要条件（A）～（D）：（A）于波长430 nm～580 nm的范围内，从垂直方向测定时的透过率的平均值为75%以上；（B）于波长800 nm～1000 nm的范围内，从垂直方向测定时的透过率的平均值为10%以下；（C）于波长700 nm～750 nm的范围内，从垂直方向测定时的透过率的平均值超过46%；（D）于波长560 nm～800 nm的范围内，从垂直方向测定时的透过率为50%的最短波长的值（Ya）与从相对于垂直方向以30°的角度测定时的透过率为50%的最短波长的值（Yb）之差的绝对值小于15 nm。

2. 发明专利

TWI649338B 嵌段共聚物及其製造方法以及膜有权
简体标题：嵌段共聚物及其制造方法以及膜
公开(公告)号：TWI649338B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW104129584
申请日：2015-09-08
申请人：日商JSR股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：江畑琢磨 , EBATA, TAKUMA , 寺島勇輝 , TERAJIMA, YUUKI , 山本達之 , YAMAMOTO, TATSUYUKI , 中村和洋 , NAKAMURA, KAZUHIRO , 鈴木義信 , SUZUKI, YOSHINOBU , 安藤嘉彦 , ANDOU, YOSHIHIKO
IPC分类号： C08F212/32 , C08F232/08 , C08F293/00 , C08J5/18

3. 发明专利

TW201609829A 嵌段共聚物及其製造方法以及膜审中-公开
简体标题：嵌段共聚物及其制造方法以及膜
公开(公告)号：TW201609829A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104129584
申请日：2015-09-08
申请人： JSR 股份有限公司 , JSR CORPORATION
发明人：江畑琢磨 , EBATA, TAKUMA , 寺島勇輝 , TERAJIMA, YUUKI , 山本達之 , YAMAMOTO, TATSUYUKI , 中村和洋 , NAKAMURA, KAZUHIRO , 鈴木義信 , SUZUKI, YOSHINOBU , 安藤嘉彦 , ANDOU, YOSHIHIKO
IPC分类号： C08F212/32 , C08F232/08 , C08F293/00 , C08J5/18
摘要：本發明提供一種透明性高、在光學領域中有用的嵌段共聚物及其製造方法以及膜。本發明的嵌段共聚物包括：包含下式（1）所表示的結構單元的嵌段部（A）、以及包含下式（2）所表示的結構單元的嵌段部（B）。此外，式中，R1 及R2 表示氫原子或者甲基，R3 及R4 表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、羥基、烷基、環烷基、烷基酯基或者烷氧基，X表示亞甲基、氧原子或者硫原子，A1 ～A4 表示特定的基團或者原子等，p為0～3的整數，q為0～4的整數，r為0或1，m為0～3的整數，n為0或者正整數。
简体摘要：本发明提供一种透明性高、在光学领域中有用的嵌段共聚物及其制造方法以及膜。本发明的嵌段共聚物包括：包含下式（1）所表示的结构单元的嵌段部（A）、以及包含下式（2）所表示的结构单元的嵌段部（B）。此外，式中，R1 及R2 表示氢原子或者甲基，R3 及R4 表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、羟基、烷基、环烷基、烷基酯基或者烷氧基，X表示亚甲基、氧原子或者硫原子，A1 ～A4 表示特定的基团或者原子等，p为0～3的整数，q为0～4的整数，r为0或1，m为0～3的整数，n为0或者正整数。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式