专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201815692A 水處理裝置审中-公开
简体标题：水处理设备
公开(公告)号：TW201815692A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106136897
申请日：2017-10-26
申请人：日商美得華水務股份有限公司 , METAWATER CO., LTD. , 日商扇港理研有限公司 , SENKO RIKEN CO., LTD. , 日商日機裝股份有限公司 , NIKKISO CO., LTD.
发明人：志賀淳一 , SHIGA, JUNICHI , 草野吏 , KUSANO, TSUKASA , 越智鉄美 , OCHI, TETSUMI , 渡邊真也 , WATANABE, SHINYA , 津賀栄一 , TSUGA, EIICHI , 川上佑介 , KAWAKAMI, YUSUKE
IPC分类号： C02F1/32
摘要：本發明的水處理裝置100為利用自LED元件31所照射的紫外光對被處理水進行紫外線處理的水處理裝置。水處理裝置100具有被處理水流動的流路10、介隔包含透明構件的窗部20而配置於流路10的外側的LED元件收容室30、及配置於LED元件收容室30內的多個LED元件31，LED元件收容室30具有乾燥氣體的流入口34及流出口35，LED元件31的發光面於LED元件收容室30內的空間中露出。
简体摘要：本发明的水处理设备100为利用自LED组件31所照射的紫外光对被处理水进行紫外线处理的水处理设备。水处理设备100具有被处理水流动的流路10、介隔包含透明构件的窗部20而配置于流路10的外侧的LED组件收容室30、及配置于LED组件收容室30内的多个LED组件31，LED组件收容室30具有干燥气体的流入口34及流出口35，LED组件31的发光面于LED组件收容室30内的空间中露出。

2. 发明专利

TW201815693A 水處理裝置审中-公开
简体标题：水处理设备
公开(公告)号：TW201815693A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106137016
申请日：2017-10-27
申请人：日商美得華水務股份有限公司 , METAWATER CO., LTD. , 日商扇港理研有限公司 , SENKO RIKEN CO., LTD. , 日商日機裝股份有限公司 , NIKKISO CO., LTD.
发明人：志賀淳一 , SHIGA, JUNICHI , 草野吏 , KUSANO, TSUKASA , 越智鉄美 , OCHI, TETSUMI , 渡邊真也 , WATANABE, SHINYA , 津賀栄一 , TSUGA, EIICHI , 川上佑介 , KAWAKAMI, YUSUKE
IPC分类号： C02F1/32 , C02F1/36
摘要：本發明提供一種可對被處理水以充分的照射量均勻地照射紫外線並且容易安裝清洗設備等的水處理裝置。本發明的水處理裝置使用紫外線對被處理水進行紫外線處理，並且所述水處理裝置包括：被處理水流動的流路；以及紫外線照射部，設於流路的與流入口側相反之側，且對在流路內流動的被處理水介隔包含透明構件的窗部向流入口側照射紫外線；流路具有擴徑部，於擴徑部中設有用於清洗窗部的清洗設備及感測器的至少一者。
简体摘要：本发明提供一种可对被处理水以充分的照射量均匀地照射紫外线并且容易安装清洗设备等的水处理设备。本发明的水处理设备使用紫外线对被处理水进行紫外线处理，并且所述水处理设备包括：被处理水流动的流路；以及紫外线照射部，设于流路的与流入口侧相反之侧，且对在流路内流动的被处理水介隔包含透明构件的窗部向流入口侧照射紫外线；流路具有扩径部，于扩径部中设有用于清洗窗部的清洗设备及传感器的至少一者。

3. 发明专利

TW201819315A 水處理裝置及水處理方法审中-公开
简体标题：水处理设备及水处理方法
公开(公告)号：TW201819315A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106136716
申请日：2017-10-25
申请人：日商日機裝股份有限公司 , NIKKISO CO., LTD. , 日商美德華水務股份有限公司 , METAWATER CO., LTD. , 日商扇港理研股份有限公司 , SENKO RIKEN CO., LTD.
发明人：越智鉄美 , OCHI, TETSUMI , 渡邊真也 , WATANABE, SHINYA , 志賀淳一 , SHIGA, JUNICHI , 草野吏 , KUSANO, TSUKASA , 津賀栄一 , TSUGA, EIICHI , 川上佑介 , KAWAKAMI, YUSUKE
IPC分类号： C02F9/08 , E02B9/06 , C02F1/32 , F16L55/00 , F16L47/14
摘要：水處理裝置10係具備：雙重管構造單元12，具有：外管20，自第一端部21朝向第二端部22沿著軸向延伸；內管30，配置於外管20的內部且沿著軸向延伸；以及限制構件，配置於外管20與內管30之間，且防止內管30相對於外管20之徑向的位移；以及光源單元14，係以液密地堵塞外管20的第一端部21的開口的方式配置，且於軸向朝向流動於內管30的內部的被處理水照射紫外光。內管30具有：對向端部31，係以隔著設置於對向端部31與光源單元14之間的間隙76與光源單元14相對向；以及流入端部32，係位於對向端部31的相反側，用於流入被處理水。外管20具有設置於外管20之外周面23的流出口26，且使通過間隙76並自內管30之內朝外流動的被處理水自流出口26流出。
简体摘要：水处理设备10系具备：双重管构造单元12，具有：外管20，自第一端部21朝向第二端部22沿着轴向延伸；内管30，配置于外管20的内部且沿着轴向延伸；以及限制构件，配置于外管20与内管30之间，且防止内管30相对于外管20之径向的位移；以及光源单元14，系以液密地堵塞外管20的第一端部21的开口的方式配置，且于轴向朝向流动于内管30的内部的被处理水照射紫外光。内管30具有：对向端部31，系以隔着设置于对向端部31与光源单元14之间的间隙76与光源单元14相对向；以及流入端部32，系位于对向端部31的相反侧，用于流入被处理水。外管20具有设置于外管20之外周面23的流出口26，且使通过间隙76并自内管30之内朝外流动的被处理水自流出口26流出。

4. 发明专利

TWI635053B 流體殺菌裝置有权
简体标题：流体杀菌设备
公开(公告)号：TWI635053B
公开(公告)日：2018-09-11
申请号：TW105140424
申请日：2016-12-07
申请人：日機裝股份有限公司 , NIKKISO CO., LTD.
发明人：望月洋明 , MOCHIZUKI, HIROAKI , 渡邊真也 , WATANABE, SHINYA
IPC分类号： C02F1/32

5. 发明专利

TW201726556A 流體殺菌裝置审中-公开
简体标题：流体杀菌设备
公开(公告)号：TW201726556A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW105140424
申请日：2016-12-07
申请人：日機裝股份有限公司 , NIKKISO CO., LTD.
发明人：望月洋明 , MOCHIZUKI, HIROAKI , 渡邊真也 , WATANABE, SHINYA
IPC分类号： C02F1/32
CPC分类号： A61L2/10 , A61L9/20 , C02F1/32
摘要：一種流體殺菌裝置10係具備：流路管20，其具有第一端部21以及與第一端部21為相反側的第二端部22，且劃分沿著軸方向延伸的處理流路12；光源(第一光源50)，其設置於第一端部21的附近，且朝向處理流路12從第一端部21沿著軸方向照射紫外光；以及框體(第一框體30)，用以劃分包圍第一端部21之徑向外側的整流室(第一整流室13)。整流室係具有作為流動於處理流路12的流體之入口或出口的流通口(流出口37)，且透過第一端部21、以及與第一端部21沿著軸方向對向的對向構件(第一窗部36)之間的間隙(第一間隙15)來與處理流路12連通。
简体摘要：一种流体杀菌设备10系具备：流路管20，其具有第一端部21以及与第一端部21为相反侧的第二端部22，且划分沿着轴方向延伸的处理流路12；光源(第一光源50)，其设置于第一端部21的附近，且朝向处理流路12从第一端部21沿着轴方向照射紫外光；以及框体(第一框体30)，用以划分包围第一端部21之径向外侧的整流室(第一整流室13)。整流室系具有作为流动于处理流路12的流体之入口或出口的流通口(流出口37)，且透过第一端部21、以及与第一端部21沿着轴方向对向的对向构件(第一窗部36)之间的间隙(第一间隙15)来与处理流路12连通。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式