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2. 发明专利

TW201947186A 三維形狀測量系統、探測器、攝像裝置、電腦裝置以及測量時間設定方法审中-公开
简体标题：三维形状测量系统、探测器、摄像设备、电脑设备以及测量时间设置方法
公开(公告)号：TW201947186A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108111545
申请日：2019-04-01
申请人：日商歐姆龍股份有限公司 , OMRON CORPORATION
发明人：和澄南 , WAZUMI, MINAMI , 木村和哉 , KIMURA, KAZUYA , 早川雅之 , HAYAKAWA, MASAYUKI
IPC分类号： G01B11/00 , G01B11/24
摘要：本發明提供一種即便於探測器中產生位置偏離，亦可高精度地測量被測量對象的三維形狀的技術。設定曝光時間（步驟11），進行多次探測器的位置測量（步驟12）。算出多個圖案的平均次數中的位置測量誤差（步驟13）。算出測量時間與已算出的定位誤差的對應表（步驟14）。使用所準備的測量時間與手抖誤差的對應表，算出設定曝光時間內的測量時間與（手抖誤差＋定位誤差）的對應表（步驟15）。對於設定候補的所有曝光時間，重覆步驟11～步驟15，算出測量時間與位置測量誤差的對應表（步驟16）。設定位置測量誤差變成最小的曝光時間與平均次數（步驟17）。
简体摘要：本发明提供一种即便于探测器中产生位置偏离，亦可高精度地测量被测量对象的三维形状的技术。设置曝光时间（步骤11），进行多次探测器的位置测量（步骤12）。算出多个图案的平均次数中的位置测量误差（步骤13）。算出测量时间与已算出的定位误差的对应表（步骤14）。使用所准备的测量时间与手抖误差的对应表，算出设置曝光时间内的测量时间与（手抖误差＋定位误差）的对应表（步骤15）。对于设置候补的所有曝光时间，重复步骤11～步骤15，算出测量时间与位置测量误差的对应表（步骤16）。设置位置测量误差变成最小的曝光时间与平均次数（步骤17）。

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