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    • 4. 发明专利
    • 基板處理裝置
    • 基板处理设备
    • TW201539618A
    • 2015-10-16
    • TW104102624
    • 2015-01-27
    • 東京威力科創股份有限公司TOKYO ELECTRON LIMITED
    • 綠川洋平MIDORIKAWA, YOHEI田中厚士TANAKA, ATSUSHI
    • H01L21/67
    • H01L21/6719H01L21/31116
    • 基板處理裝置具有對處理容器內進行排氣之排氣機構,該處理容器具有:本體部,上面開口且有底;圓筒形狀之圓筒部,具備有將本體部上面予以氣密阻塞之凸緣以及直徑小於本體部且直徑大於載置台外側面的側壁;以及蓋體,設置於凸緣上面,將本體部之開口予以氣密阻塞;於凸緣上面形成有往下方凹陷之溝槽部;於該溝槽部配置著加熱器;圓筒部之側壁相對於載置台上面往下方延伸形成,且於側壁之下端設置有往側壁中心方向突出之卡固構件;於卡固構件上面配置有形成了複數開口之擋板。
    • 基板处理设备具有对处理容器内进行排气之排气机构,该处理容器具有:本体部,上面开口且有底;圆筒形状之圆筒部,具备有将本体部上面予以气密阻塞之凸缘以及直径小于本体部且直径大于载置台外侧面的侧壁;以及盖体,设置于凸缘上面,将本体部之开口予以气密阻塞;于凸缘上面形成有往下方凹陷之沟槽部;于该沟槽部配置着加热器;圆筒部之侧壁相对于载置台上面往下方延伸形成,且于侧壁之下端设置有往侧壁中心方向突出之卡固构件;于卡固构件上面配置有形成了复数开口之挡板。