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1. 发明专利

TW201816518A 塗佈膜形成方法、塗佈膜形成裝置及電腦可讀取的記錄媒體审中-公开
简体标题：涂布膜形成方法、涂布膜形成设备及电脑可读取的记录媒体
公开(公告)号：TW201816518A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106124476
申请日：2017-07-21
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：岡本芳樹 , OKAMOTO, YOSHIKI , 宮本哲嗣 , MIYAMOTO, TETSUSHI , 大村和久 , OOMURA, KAZUHISA
IPC分类号： G03F7/16 , H01L21/027 , B05D1/02 , B05D3/02 , B05B7/04 , B05B7/16
摘要： [課題]沿著包含凸部之被處理體之表面均勻地形成塗佈膜。　　[解決手段]塗佈膜形成方法包含：對包含基板(W1)，和被設置在基板(W1)的表面之凸部(W2)的被處理體(W)進行加熱的第1工程，和加熱塗佈液而取得加熱液體的第2工程，和對在第1工程中被加熱之後的被處理體(W)之表面，在液滴之狀態下從噴嘴(N)噴吹加熱液體的第3工程。
简体摘要： [课题]沿着包含凸部之被处理体之表面均匀地形成涂布膜。　　[解决手段]涂布膜形成方法包含：对包含基板(W1)，和被设置在基板(W1)的表面之凸部(W2)的被处理体(W)进行加热的第1工程，和加热涂布液而取得加热液体的第2工程，和对在第1工程中被加热之后的被处理体(W)之表面，在液滴之状态下从喷嘴(N)喷吹加热液体的第3工程。

2. 发明专利

TW201903860A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201903860A
公开(公告)日：2019-01-16
申请号：TW107110402
申请日：2018-03-27
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：宮本哲嗣 , MIYAMOTO, TETSUSHI , 稲田博一 , INADA, HIROICHI
IPC分类号： H01L21/30 , B08B1/04 , B08B3/04
摘要： [課題]抑制「在對旋轉的基板供給了處理液之際而產生的絲狀物沈積於回收部」之情形。　　[解決手段]液處理單元(U1)，係具備有：旋轉卡盤(61)，保持晶圓(W)；旋轉驅動部(64)，使旋轉卡盤(61)旋轉；塗佈液供給噴嘴(62)，對旋轉卡盤(61)所保持之晶圓(W)供給塗佈液，該旋轉卡盤(61)，係藉由旋轉驅動部(64)而旋轉；杯基座(65)，回收從晶圓(W)中之供給有塗佈液的面(表面W1)之相反側的面即背面(W2)落下的塗佈液；及捕捉板(30)，被配置於背面(W2)及杯基座(65)之間，捕捉因塗佈液被供給至旋轉之晶圓(W)而產生的絲狀物。
简体摘要： [课题]抑制“在对旋转的基板供给了处理液之际而产生的丝状物沉积于回收部”之情形。　　[解决手段]液处理单元(U1)，系具备有：旋转卡盘(61)，保持晶圆(W)；旋转驱动部(64)，使旋转卡盘(61)旋转；涂布液供给喷嘴(62)，对旋转卡盘(61)所保持之晶圆(W)供给涂布液，该旋转卡盘(61)，系借由旋转驱动部(64)而旋转；杯基座(65)，回收从晶圆(W)中之供给有涂布液的面(表面W1)之相反侧的面即背面(W2)落下的涂布液；及捕捉板(30)，被配置于背面(W2)及杯基座(65)之间，捕捉因涂布液被供给至旋转之晶圆(W)而产生的丝状物。

3. 发明专利

TWI495963B 顯像處理方法，程式，電腦記憶媒體及顯像處理系統有权
简体标题：显像处理方法，进程，电脑记忆媒体及显像处理系统
公开(公告)号：TWI495963B
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：TW100100817
申请日：2011-01-10
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：佐藤禮史 , SATO, NORIFUMI , 木場幸生 , KIBA, YUKIO , 宮本哲嗣 , MIYAMOTO, TETSUSHI , 長谷部和久 , HASEBE, KAZUHISA
IPC分类号： G03F7/30
CPC分类号： H01L21/6715 , G03F7/3021 , H01L21/67109 , H01L21/67178 , H01L21/67742 , H01L21/67748

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