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    • 2. 发明专利
    • 液晶配向劑、液晶配向膜及液晶顯示元件
    • 液晶配向剂、液晶配向膜及液晶显示组件
    • TW201835316A
    • 2018-10-01
    • TW106144785
    • 2017-12-20
    • 日商日產化學工業股份有限公司NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    • 永井健太郎NAGAI, KENTARO鉄谷尚士TETSUTANI, HISASHI石井秀則ISHII, HIDENORI
    • C09K19/56C08G73/10C07C217/84C07C217/60G02F1/1337G02F1/13
    • 本發明係關於液晶配向劑、液晶配向膜及液晶顯示元件,該液晶配向劑係含有由具有以下述式(1)所表示的構造的二胺所得到的聚合物、與有機溶媒。前述式(1)中,X為單鍵或2價之有機基,Y及Z係各自獨立地包含伸烷基的2價之有機基,R1及R2係各自獨立的1價之有機基,R3係碳數1~4之烷基,m及n係各自獨立的0~4之整數。藉由本發明,則可提供高效率地賦予配向控制功能、殘影特性優異之具有橫向電場驅動型液晶顯示元件用液晶配向膜的基板及具有該基板的橫向電場驅動型液晶顯示元件,以及賦予該特性的化合物,更具體而言係可提供一種以少量添加而不會對配向性帶來影響並使信賴性提昇的新的二胺。
    • 本发明系关于液晶配向剂、液晶配向膜及液晶显示组件,该液晶配向剂系含有由具有以下述式(1)所表示的构造的二胺所得到的聚合物、与有机溶媒。前述式(1)中,X为单键或2价之有机基,Y及Z系各自独立地包含伸烷基的2价之有机基,R1及R2系各自独立的1价之有机基,R3系碳数1~4之烷基,m及n系各自独立的0~4之整数。借由本发明,则可提供高效率地赋予配向控制功能、残影特性优异之具有横向电场驱动型液晶显示组件用液晶配向膜的基板及具有该基板的横向电场驱动型液晶显示组件,以及赋予该特性的化合物,更具体而言系可提供一种以少量添加而不会对配向性带来影响并使信赖性提升的新的二胺。
    • 5. 发明专利
    • 具有液晶配向膜之基板之製造方法及液晶顯示元件
    • 具有液晶配向膜之基板之制造方法及液晶显示组件
    • TW201823309A
    • 2018-07-01
    • TW106131658
    • 2017-09-15
    • 日商日產化學工業股份有限公司NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.
    • 鉄谷尚士TETSUTANI, HISASHI石井秀則ISHII, HIDENORI名木達哉NAGI, TATSUYA
    • C08G73/10G02F1/1337
    • 本發明係提供具有以高效率賦予配向控制能、且燒灼特性為優異的橫向電場驅動型液晶顯示元件用液晶配向膜之基板及具有該基板之橫向電場驅動型液晶顯示元件。   本發明係提供一種具有下述液晶配向膜之基板之製造方法,其係藉由具有下述步驟從而得到被賦予配向控制能之橫向電場驅動型液晶顯示元件用液晶配向膜,包括:   [I] 將含有(A)由二胺成分與酸二酐成分所得之聚合物、及(B)有機溶劑之聚合物組成物塗佈至具有橫向電場驅動用導電膜之基板上後,進行乾燥從而形成塗膜之步驟,前述二胺成分包含下述式(1)(式(1)中,L係碳數2以上的二價有機基且同時包含伸烷基、與選自醚鍵及酯鍵之鍵結中之任1種,R1及R2係分別獨立為一價有機基,p1及p2係分別獨立為0~4的整數,p係0或1,q1及q2係分別獨立為1或2)所表示之二胺,前述酸二酐成分包含下述式(2)(式(2)中,R6~R9係分別獨立為氫原子、烷基、鹵素原子或苯基)所表示之四羧酸二酐;   [II] 對[I]所得之塗膜照射偏光的紫外線之步驟;及   [III] 將[II]所得之塗膜進行加熱之步驟;。
    • 本发明系提供具有以高效率赋予配向控制能、且烧灼特性为优异的横向电场驱动型液晶显示组件用液晶配向膜之基板及具有该基板之横向电场驱动型液晶显示组件。   本发明系提供一种具有下述液晶配向膜之基板之制造方法,其系借由具有下述步骤从而得到被赋予配向控制能之横向电场驱动型液晶显示组件用液晶配向膜,包括:   [I] 将含有(A)由二胺成分与酸二酐成分所得之聚合物、及(B)有机溶剂之聚合物组成物涂布至具有横向电场驱动用导电膜之基板上后,进行干燥从而形成涂膜之步骤,前述二胺成分包含下述式(1)(式(1)中,L系碳数2以上的二价有机基且同时包含伸烷基、与选自醚键及酯键之键结中之任1种,R1及R2系分别独立为一价有机基,p1及p2系分别独立为0~4的整数,p系0或1,q1及q2系分别独立为1或2)所表示之二胺,前述酸二酐成分包含下述式(2)(式(2)中,R6~R9系分别独立为氢原子、烷基、卤素原子或苯基)所表示之四羧酸二酐;   [II] 对[I]所得之涂膜照射偏光的紫外线之步骤;及   [III] 将[II]所得之涂膜进行加热之步骤;。