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1. 发明专利

TW202030520A 抬頭顯示器裝置及其製造方法审中-公开
简体标题：抬头显示器设备及其制造方法
公开(公告)号：TW202030520A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108142610
申请日：2019-11-22
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：淵田岳仁 , FUCHIDA, TAKEHITO , 麻野井祥明 , ASANOI, YOSHIAKI , 伊崎章典 , IZAKI, AKINORI
IPC分类号： G02B27/01 , G02B1/10 , G02B5/30
摘要：本發明係提供一種耐熱性佳且經已抑制在高溫環境下產生氣泡之抬頭顯示器裝置。本發明之抬頭顯示器裝置具有：顯示器，可射出投影光；至少一個反射器，可反射投影光；框體，其具有開口部，且該框體係將顯示器及反射器收容於內部者；覆蓋構件，係覆蓋開口部；及偏光板，係設於覆蓋構件之框體內部側，且從覆蓋構件側起依序包含黏著劑層與偏光件；並且，覆蓋構件與黏著劑層之層間接著力為39N/25mm以上。
简体摘要：本发明系提供一种耐热性佳且经已抑制在高温环境下产生气泡之抬头显示器设备。本发明之抬头显示器设备具有：显示器，可射出投影光；至少一个反射器，可反射投影光；框体，其具有开口部，且该框体系将显示器及反射器收容于内部者；覆盖构件，系覆盖开口部；及偏光板，系设于覆盖构件之框体内部侧，且从覆盖构件侧起依序包含黏着剂层与偏光件；并且，覆盖构件与黏着剂层之层间接着力为39N/25mm以上。

2. 发明专利

TW202022049A 抬頭顯示器裝置审中-公开
简体标题：抬头显示器设备
公开(公告)号：TW202022049A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108135564
申请日：2019-10-01
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：麻野井祥明 , ASANOI, YOSHIAKI , 淵田岳仁 , FUCHIDA, TAKEHITO , 高田勝則 , TAKADA, KATSUNORI
IPC分类号： C09B31/08 , G02B5/30 , G02B27/01 , B60K35/00
摘要：提供一種透過偏光太陽眼鏡目視時之視辨性佳且耐熱性優異之抬頭顯示器裝置。本發明之抬頭顯示器裝置包含顯示單元與附第1相位差層之偏光板，該附第1相位差層之偏光板在該顯示單元之射出側，從顯示單元側起依序包含偏光件與第1相位差層；並且，該抬頭顯示器裝置具有：顯示器，其可射出投影光；至少1個反射器，其可反射投影光；及附第2相位差層之偏光板，其設在反射器之反射面，且從反射器側起依序包含偏光件與第2相位差層；該第1相位差層及第2相位差層之面內相位差Re(550)分別為100nm~200nm。
简体摘要：提供一种透过偏光太阳眼镜目视时之视辨性佳且耐热性优异之抬头显示器设备。本发明之抬头显示器设备包含显示单元与附第1相位差层之偏光板，该附第1相位差层之偏光板在该显示单元之射出侧，从显示单元侧起依序包含偏光件与第1相位差层；并且，该抬头显示器设备具有：显示器，其可射出投影光；至少1个反射器，其可反射投影光；及附第2相位差层之偏光板，其设在反射器之反射面，且从反射器侧起依序包含偏光件与第2相位差层；该第1相位差层及第2相位差层之面内相位差Re(550)分别为100nm~200nm。

3. 发明专利

TW201837508A 偏光板审中-公开
公开(公告)号：TW201837508A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107108586
申请日：2018-03-14
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：竹田哲郎 , TAKEDA, TETSURO , 高田勝則 , TAKADA, KATSUNORI , 末房映子 , SUEFUSA, EIKO , 河村亮 , KAWAMURA, RYO , 武本博之 , TAKEMOTO, HIROYUKI , 麻野井祥明 , ASANOI, YOSHIAKI
IPC分类号： G02B5/30 , G02C7/12 , G02F1/13
摘要：本發明提供一種透過率較高、平滑性優異、且反射特性得到改善之偏光板。本發明之偏光板依序具有：基材、偏光元件、及高折射率層，且於將偏光元件之吸收軸方向之折射率設為na、將透射軸方向之折射率設為nt時，至少na具有波長相依性。於一實施形態中，於偏光板中，波長450 nm下之偏光元件之吸收軸方向之折射率na(450)與波長650 nm下之偏光元件之吸收軸方向之折射率na(650)之差之絕對值為1.0以上。
简体摘要：本发明提供一种透过率较高、平滑性优异、且反射特性得到改善之偏光板。本发明之偏光板依序具有：基材、偏光组件、及高折射率层，且于将偏光组件之吸收轴方向之折射率设为na、将透射轴方向之折射率设为nt时，至少na具有波长相依性。于一实施形态中，于偏光板中，波长450 nm下之偏光组件之吸收轴方向之折射率na(450)与波长650 nm下之偏光组件之吸收轴方向之折射率na(650)之差之绝对值为1.0以上。

4. 发明专利

TW201427816A 光學積層體之製造方法及光學積層體审中-公开
简体标题：光学积层体之制造方法及光学积层体
公开(公告)号：TW201427816A
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：TW102146376
申请日：2013-12-16
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：松田祥一 , MATSUDA, SHOICHI , 麻野井祥明 , ASANOI, YOSHIAKI
IPC分类号： B29D11/00 , B29C55/02 , B05D7/04 , G02B5/30
CPC分类号： B29D11/00644 , B29C55/04 , B29D11/0073 , B29K2023/38 , B29K2105/0079 , B29K2995/0034 , G02B5/3016 , G02F1/133528
摘要：本發明之目的，係提供一種不對當作基材之樹脂薄膜進行摩擦處理等表面定向處理，即能簡便地形成具有所需光學特性的偏光膜之光學積層體之製造方法。本發明係有關於一種光學積層體之製造方法，係含有經延伸的樹脂薄膜及偏光膜的光學積層體之製造方法，其特徵在於含有：準備經延伸的樹脂薄膜之步驟；在前述經延伸的樹脂薄膜上塗覆各向同性相狀態的液晶化合物溶液之步驟；及使前述所塗覆的液晶化合物溶液固化來形成液晶化合物定向而成之偏光膜之步驟；前述經延伸的樹脂薄膜的遲相軸與前述偏光膜的吸收軸為大略平行，而且，前述經延伸的樹脂薄膜2未經表面定向處理。
简体摘要：本发明之目的，系提供一种不对当作基材之树脂薄膜进行摩擦处理等表面定向处理，即能简便地形成具有所需光学特性的偏光膜之光学积层体之制造方法。本发明系有关于一种光学积层体之制造方法，系含有经延伸的树脂薄膜及偏光膜的光学积层体之制造方法，其特征在于含有：准备经延伸的树脂薄膜之步骤；在前述经延伸的树脂薄膜上涂覆各向同性相状态的液晶化合物溶液之步骤；及使前述所涂覆的液晶化合物溶液固化来形成液晶化合物定向而成之偏光膜之步骤；前述经延伸的树脂薄膜的迟相轴与前述偏光膜的吸收轴为大略平行，而且，前述经延伸的树脂薄膜2未经表面定向处理。

5. 发明专利

TW201339660A 光學積層體及光學積層體之製造方法审中-公开
简体标题：光学积层体及光学积层体之制造方法
公开(公告)号：TW201339660A
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW101147531
申请日：2012-12-14
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：松田祥一 , MATSUDA, SHOICHI , 龜山忠幸 , KAMEYAMA, TADAYUKI , 友久寬 , TOMOHISA, HIROSHI , 麻野井祥明 , ASANOI, YOSHIAKI , 廣瀨閥 , HIROSE, ISAO , 北村喜弘 , KITAMURA, YOSHIHIRO , 西田幹司 , NISHIDA, KANJI
IPC分类号： G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3016 , B05D5/06 , G02B5/3033
摘要：本發明係提供具有能設定更複雜圖案之圖案化偏光元件層的光學積層體。本發明的光學積層體係具備有：圖案化偏光元件層，其具有單體穿透率不同之至少2個偏光區域；及，基材。前述2個偏光區域係厚度不同。
简体摘要：本发明系提供具有能设置更复杂图案之图案化偏光组件层的光学积层体。本发明的光学积层体系具备有：图案化偏光组件层，其具有单体穿透率不同之至少2个偏光区域；及，基材。前述2个偏光区域系厚度不同。

6. 发明专利

TWI538799B 光學積層體之製造方法及光學積層體有权
简体标题：光学积层体之制造方法及光学积层体
公开(公告)号：TWI538799B
公开(公告)日：2016-06-21
申请号：TW102146376
申请日：2013-12-16
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：松田祥一 , MATSUDA, SHOICHI , 麻野井祥明 , ASANOI, YOSHIAKI
IPC分类号： B29D11/00 , B29C55/02 , B05D7/04 , G02B5/30
CPC分类号： B29D11/00644 , B29C55/04 , B29D11/0073 , B29K2023/38 , B29K2105/0079 , B29K2995/0034 , G02B5/3016 , G02F1/133528

7. 发明专利

TWI465760B 長條狀圓偏光板之製造方法有权
简体标题：长条状圆偏光板之制造方法
公开(公告)号：TWI465760B
公开(公告)日：2014-12-21
申请号：TW101114323
申请日：2012-04-20
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：麻野井祥明 , ASANOI, YOSHIAKI , 松田祥一 , MATSUDA, SHOICHI , 龜山忠幸 , KAMEYAMA, TADAYUKI
IPC分类号： G02B1/12 , G02B1/10 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3016

8. 发明专利

TW201523041A 光學積層體及調光窗审中-公开
简体标题：光学积层体及调光窗
公开(公告)号：TW201523041A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103135644
申请日：2014-10-15
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：麻野井祥明 , ASANOI, YOSHIAKI , 松田祥一 , MATSUDA, SHOICHI , 武本博之 , TAKEMOTO, HIROYUKI , 龜山忠幸 , KAMEYAMA, TADAYUKI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/00
CPC分类号： E06B9/24 , B32B2551/00 , E06B2009/2405 , E06B2009/2417 , G02B27/281 , G02B27/286
摘要：本發明之課題在於提供一種光學積層體，其具有圖案化偏光層，且偏光區的吸收軸難偏移，適合用於調光用途。本發明之解決手段為一種光學積層體，包含有：基材；及圖案化偏光層，其設於前述基材上且具有吸收軸方向相異之數個偏光區；又，前述基材是使用以80℃加熱24小時後之尺寸變化率的絕對值不到1%之基材。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种光学积层体，其具有图案化偏光层，且偏光区的吸收轴难偏移，适合用于调光用途。本发明之解决手段为一种光学积层体，包含有：基材；及图案化偏光层，其设于前述基材上且具有吸收轴方向相异之数个偏光区；又，前述基材是使用以80℃加热24小时后之尺寸变化率的绝对值不到1%之基材。

9. 发明专利

TW201300822A 長條狀圓偏光板之製造方法审中-公开
简体标题：长条状圆偏光板之制造方法
公开(公告)号：TW201300822A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101114323
申请日：2012-04-20
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：麻野井祥明 , ASANOI, YOSHIAKI , 松田祥一 , MATSUDA, SHOICHI , 龜山忠幸 , KAMEYAMA, TADAYUKI
IPC分类号： G02B1/12 , G02B1/10 , G02B5/30
CPC分类号： G02B5/3016
摘要：本發明係一種長條狀圓偏光板之製造方法，該長條狀圓偏光板係包括：長條狀相位差膜，其於面內之一方向上具有遲相軸；及長條狀偏光膜，其於相對於相位差膜之遲相軸方向為25°~65°之範圍內之一方向上具有吸收軸；且該長條狀圓偏光板之製造方法包括：步驟A，其一面使上述長條狀相位差膜移動，一面藉由第1導輥及沿著長條狀相位差膜之移動方向而配置於較第1導輥更下游側之第2導輥而支撐長條狀相位差膜之背面，且於第1導輥與第2導輥之間，將摩擦輥按壓於長條狀相位差膜之表面，從而進行摩擦處理；及步驟B，其於在步驟A中經摩擦處理之長條狀相位差膜之表面，塗佈含有二色性物質之液晶性溶液，並且使二色性物質配向，從而形成長條狀偏光膜。
简体摘要：本发明系一种长条状圆偏光板之制造方法，该长条状圆偏光板系包括：长条状相位差膜，其于面内之一方向上具有迟相轴；及长条状偏光膜，其于相对于相位差膜之迟相轴方向为25°~65°之范围内之一方向上具有吸收轴；且该长条状圆偏光板之制造方法包括：步骤A，其一面使上述长条状相位差膜移动，一面借由第1导辊及沿着长条状相位差膜之移动方向而配置于较第1导辊更下游侧之第2导辊而支撑长条状相位差膜之背面，且于第1导辊与第2导辊之间，将摩擦辊按压于长条状相位差膜之表面，从而进行摩擦处理；及步骤B，其于在步骤A中经摩擦处理之长条状相位差膜之表面，涂布含有二色性物质之液晶性溶液，并且使二色性物质配向，从而形成长条状偏光膜。

10. 发明专利

TWI619974B 光學積層體及調光窗有权
简体标题：光学积层体及调光窗
公开(公告)号：TWI619974B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW103135644
申请日：2014-10-15
申请人：日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION
发明人：麻野井祥明 , ASANOI, YOSHIAKI , 松田祥一 , MATSUDA, SHOICHI , 武本博之 , TAKEMOTO, HIROYUKI , 龜山忠幸 , KAMEYAMA, TADAYUKI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B27/00
CPC分类号： E06B9/24 , B32B2551/00 , E06B2009/2405 , E06B2009/2417 , G02B27/281 , G02B27/286

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