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    • 3. 发明专利
    • 圖案形成方法、以及使用其而成之電子裝置的製造方法及電子裝置
    • 图案形成方法、以及使用其而成之电子设备的制造方法及电子设备
    • TW201510646A
    • 2015-03-16
    • TW103127420
    • 2014-08-11
    • 富士軟片股份有限公司FUJIFILM CORPORATION
    • 二橋亘NIHASHI, WATARU森弘喜MORI, HIROKI
    • G03F7/004G03F7/038H01L21/027
    • G03F7/325G03F7/0045G03F7/0046G03F7/0392G03F7/0395G03F7/0397G03F7/11G03F7/2041
    • 一種圖案形成方法,其係依順序具有:使用含有(A)具有通式(I)所示的重複單元之樹脂、及通式(II)所示的化合物之感活性光線性或感放射線性樹脂組成物,形成膜之步驟(1),使用電子射線或極紫外線將膜予以曝光之步驟(2),及於曝光後使用含有有機溶劑的顯像液進行顯像之步驟(3)。藉由該方法可提供在極微細(例如,線寬50nm以下)之圖案形成中,能以高次元滿足優異的圖案倒塌性能、優異的粗糙性能及優異的顯像缺陷性能之圖案形成方法,以及使用其而成之電子裝置的製造方法及電子裝置。 通式(I)中,R01、R02及R03各自獨立地表示氫原子、烷基、環烷基、鹵素原子、氰基或烷氧羰基;R03可與Ar1鍵結而形成5員或6員環,該情況的R03表示伸烷基;Ar1表示(n+1)價的芳香環基,於與R03鍵結而形成環時,表示 (n+2)價的芳香環基;n個Y各自獨立地表示氫原子或酸不穩定性基;惟,Y之至少1個表示酸不穩定性基;n表示1~4之整數; 通式(II)中,X+表示相對陽離子;Xf1表示氟原子或經至少1個氟原子取代的烷基,複數存在時的Xf1係可相同或相異;R11及R12各自獨立地表示氫原子、氟原子或烷基,複數存在時的R11及R12各自可相同或相異;L1表示二價的連結基,複數存在時的L1係可相同或相異;Cy1表示含有下述式(ST)所示的脂環結構之基;作為下述式(ST)所示的脂環結構中之環員的碳原子,可為羰基碳原子; x1表示1~20之整數;y1表示0~10之整數;z1表示0~10之整數。
    • 一种图案形成方法,其系依顺序具有:使用含有(A)具有通式(I)所示的重复单元之树脂、及通式(II)所示的化合物之感活性光线性或感放射线性树脂组成物,形成膜之步骤(1),使用电子射线或极紫外线将膜予以曝光之步骤(2),及于曝光后使用含有有机溶剂的显像液进行显像之步骤(3)。借由该方法可提供在极微细(例如,线宽50nm以下)之图案形成中,能以高次元满足优异的图案倒塌性能、优异的粗糙性能及优异的显像缺陷性能之图案形成方法,以及使用其而成之电子设备的制造方法及电子设备。 通式(I)中,R01、R02及R03各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、卤素原子、氰基或烷氧羰基;R03可与Ar1键结而形成5员或6员环,该情况的R03表示伸烷基;Ar1表示(n+1)价的芳香环基,于与R03键结而形成环时,表示 (n+2)价的芳香环基;n个Y各自独立地表示氢原子或酸不稳定性基;惟,Y之至少1个表示酸不稳定性基;n表示1~4之整数; 通式(II)中,X+表示相对阳离子;Xf1表示氟原子或经至少1个氟原子取代的烷基,复数存在时的Xf1系可相同或相异;R11及R12各自独立地表示氢原子、氟原子或烷基,复数存在时的R11及R12各自可相同或相异;L1表示二价的链接基,复数存在时的L1系可相同或相异;Cy1表示含有下述式(ST)所示的脂环结构之基;作为下述式(ST)所示的脂环结构中之环员的碳原子,可为羰基碳原子; x1表示1~20之整数;y1表示0~10之整数;z1表示0~10之整数。