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1. 发明专利

TW201921576A 吸引裝置审中-公开
简体标题：吸引设备
公开(公告)号：TW201921576A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107132001
申请日：2018-09-12
申请人：日商哈莫技術股份有限公司 , HARMOTEC CO., LTD.
发明人：岩坂斉 , IWASAKA, HITOSHI , 徳永英幸 , TOKUNAGA, HIDEYUKI , 河西裕二 , KASAI, YUJI , 輿石克洋 , KOSHIISHI, KATSUHIRO , 田中秀光 , TANAKA, HIDEMITSU , 小野浩彦 , ONO, HIROHIKO , 箕浦勝利 , MINOURA, KATSUTOSHI , 岩坂斉然 , IWASAKA, NAONARI
IPC分类号： H01L21/68 , B65G49/07 , B25J15/06
摘要：提供一種可將被吸引物更穩定地吸引的吸引裝置。　　吸引裝置，是具備：柱狀的本體、及形成於本體的平坦狀的端面、及形成於端面的凹部、及藉由在凹部內將流體吐出形成迴旋流使負壓發生而吸引被吸引物的流體流形成手段、及沿著使朝凹部內被吐出的流體從凹部流出的方向地形成於端面的直線狀的導引溝。
简体摘要：提供一种可将被吸引物更稳定地吸引的吸引设备。　　吸引设备，是具备：柱状的本体、及形成于本体的平坦状的端面、及形成于端面的凹部、及借由在凹部内将流体吐出形成回旋流使负压发生而吸引被吸引物的流体流形成手段、及沿着使朝凹部内被吐出的流体从凹部流出的方向地形成于端面的直线状的导引沟。

2. 发明专利

TW201919972A 吸引裝置审中-公开
简体标题：吸引设备
公开(公告)号：TW201919972A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107131175
申请日：2018-09-05
申请人：日商哈莫技術股份有限公司 , HARMOTEC CO., LTD.
发明人：岩坂斉 , IWASAKA, HITOSHI , 徳永英幸 , TOKUNAGA, HIDEYUKI , 河西裕二 , KASAI, YUJI , 輿石克洋 , KOSHIISHI, KATSUHIRO , 田中秀光 , TANAKA, HIDEMITSU , 小野浩彦 , ONO, HIROHIKO , 箕浦勝利 , MINOURA, KATSUTOSHI , 岩坂然 , IWASAKA, NAONARI
IPC分类号： B65G49/07 , B25J15/06 , H01L21/677
摘要：本發明的課題為提供一種吸引裝置，可吸引存在於從負壓產生區域遠離的位置的被吸引物。其解決手段為吸引裝置，具備：柱狀的主體；形成於主體的平坦狀的端面；形成於端面的凹部；在凹部內形成流體的旋渦流的旋渦流形成手段；以負壓吸引的流體可通過的方式所形成的板體；一端側固定於主體，另一端側保持使板體與端面相對的保持構件，並在端面與板體之間保持著板體，以形成有從凹部流出的流體流動用的間隙的保持構件；及使得藉負壓吸引的流體一邊通過，阻礙被吸引物進入凹部內地將其一端固定於板體的一個以上的筒體。
简体摘要：本发明的课题为提供一种吸引设备，可吸引存在于从负压产生区域远离的位置的被吸引物。其解决手段为吸引设备，具备：柱状的主体；形成于主体的平坦状的端面；形成于端面的凹部；在凹部内形成流体的旋涡流的旋涡流形成手段；以负压吸引的流体可通过的方式所形成的板体；一端侧固定于主体，另一端侧保持使板体与端面相对的保持构件，并在端面与板体之间保持着板体，以形成有从凹部流出的流体流动用的间隙的保持构件；及使得藉负压吸引的流体一边通过，阻碍被吸引物进入凹部内地将其一端固定于板体的一个以上的筒体。

3. 发明专利

TWI698312B 迴旋流形成體有权
简体标题：回旋流形成体
公开(公告)号：TWI698312B
公开(公告)日：2020-07-11
申请号：TW108112133
申请日：2019-04-08
申请人：日商哈莫技術股份有限公司 , HARMOTEC CO., LTD.
发明人：徳永英幸 , TOKUNAGA, HIDEYUKI , 輿石克洋 , KOSHIISHI, KATSUHIRO , 田中秀光 , TANAKA, HIDEMITSU , 岩坂斉 , IWASAKA, HITOSHI
IPC分类号： B25J15/06 , H01L21/677 , B65G49/07

4. 发明专利

TW201829141A 擋板审中-公开
简体标题：挡板
公开(公告)号：TW201829141A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106136645
申请日：2017-10-25
申请人：日商哈莫技術股份有限公司 , HARMOTEC CO., LTD.
发明人：岩坂斉 , IWASAKA, HITOSHI , 徳永英幸 , TOKUNAGA, HIDEYUKI , 河西裕二 , KASAI, YUJI , 輿石克洋 , KOSHIISHI, KATSUHIRO , 田中秀光 , TANAKA, HIDEMITSU
IPC分类号： B25J15/06 , H01L21/683 , H01L21/677 , B65G49/07
摘要：安裝於旋轉流形成體(1)之擋板(2)，係具備有：擋板本體(21)，被設置為可從旋轉流形成體(1)裝卸，且一面使藉由旋轉流形成體(1)產生之負壓所吸引的流體通過，一面阻礙被吸引物進入旋轉流形成體(1)之凹部(13)內；及支撐構件(22)，一端側被固定於旋轉流形成體(1)之本體(11)，另一端側以與旋轉流形成體(1)之端面(12)相對向的方式支撐擋板本體(21)，且以在端面(12)與擋板本體(21)之間保持間隙，並且形成用以流動有從凹部(13)流出之流體的流路之方式，支撐擋板本體(21)。
简体摘要：安装于旋转流形成体(1)之挡板(2)，系具备有：挡板本体(21)，被设置为可从旋转流形成体(1)装卸，且一面使借由旋转流形成体(1)产生之负压所吸引的流体通过，一面阻碍被吸引物进入旋转流形成体(1)之凹部(13)内；及支撑构件(22)，一端侧被固定于旋转流形成体(1)之本体(11)，另一端侧以与旋转流形成体(1)之端面(12)相对向的方式支撑挡板本体(21)，且以在端面(12)与挡板本体(21)之间保持间隙，并且形成用以流动有从凹部(13)流出之流体的流路之方式，支撑挡板本体(21)。

5. 发明专利

TWI683390B 吸引裝置有权
简体标题：吸引设备
公开(公告)号：TWI683390B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW107132001
申请日：2018-09-12
申请人：日商哈莫技術股份有限公司 , HARMOTEC CO., LTD.
发明人：岩坂斉 , IWASAKA, HITOSHI , 徳永英幸 , TOKUNAGA, HIDEYUKI , 河西裕二 , KASAI, YUJI , 輿石克洋 , KOSHIISHI, KATSUHIRO , 田中秀光 , TANAKA, HIDEMITSU , 小野浩彦 , ONO, HIROHIKO , 箕浦勝利 , MINOURA, KATSUTOSHI , 岩坂然 , IWASAKA, NAONARI
IPC分类号： H01L21/68 , B65G49/07 , B25J15/06

6. 发明专利

TWI615340B 吸引裝置有权
简体标题：吸引设备
公开(公告)号：TWI615340B
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：TW105122434
申请日：2016-07-15
申请人：哈莫技術股份有限公司 , HARMOTEC CO., LTD.
发明人：岩坂 , IWASAKA, HITOSHI , 徳永英幸 , TOKUNAGA, HIDEYUKI , 河西裕二 , KASAI, YUJI
IPC分类号： B65G47/91 , B25J15/06 , H01L21/677
CPC分类号： A47L9/00 , A47L9/16 , B25J15/06 , B65G49/07

7. 发明专利

TW201706093A 吸引裝置审中-公开
简体标题：吸引设备
公开(公告)号：TW201706093A
公开(公告)日：2017-02-16
申请号：TW105106342
申请日：2016-03-02
申请人：哈莫技術股份有限公司 , HARMOTEC CO., LTD.
发明人：岩坂斉 , IWASAKA, HITOSHI , 徳永英幸 , TOKUNAGA, HIDEYUKI , 河西裕二 , KASAI, YUJI
IPC分类号： B25J15/06 , B65G49/07 , H01L21/677
CPC分类号： B25J15/0683 , B65G49/061 , B65G2201/022 , B65G2249/045 , H01L21/67086 , H01L21/67092 , H01L21/67712 , H01L21/67766 , H01L21/67778 , H01L21/67781 , H01L21/6838
摘要：本發明之吸引裝置(10)，係具備：迴旋流形成體(1)、阻礙板(2)、以及用以連結迴旋流形成體(1)與阻礙板(2)的連結構件(3)。阻礙板(2)，是用以妨礙被吸引構件(W)朝向迴旋流形成體(1)所具備的凹部(12)進入。連結構件(3)，是在迴旋流形成體(1)所具備的端面(13)與阻礙板(2)之間，形成用以使從凹部(12)流出之流體流動的流路。
简体摘要：本发明之吸引设备(10)，系具备：回旋流形成体(1)、阻碍板(2)、以及用以链接回旋流形成体(1)与阻碍板(2)的链接构件(3)。阻碍板(2)，是用以妨碍被吸引构件(W)朝向回旋流形成体(1)所具备的凹部(12)进入。链接构件(3)，是在回旋流形成体(1)所具备的端面(13)与阻碍板(2)之间，形成用以使从凹部(12)流出之流体流动的流路。

8. 发明专利

TW201318945A 非接觸搬送裝置审中-公开
简体标题：非接触搬送设备
公开(公告)号：TW201318945A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101130850
申请日：2012-08-24
申请人：哈莫技術股份有限公司 , HARMOTEC CO., LTD.
发明人：岩阪齊 , IWASAKA, HITOSHI , 德永英幸 , TOKUNAGA, HIDEYUKI , 輿石克洋 , KOSHIISHI, KATSUHIRO
IPC分类号： B65G51/02 , B65G49/02 , H01L21/677
CPC分类号： B65G25/00 , H01L21/6838 , H01L21/68707 , H01L21/68728
摘要：抑制以非接觸搬送板狀構件之時所產生的該板狀構件旋轉。以非接觸搬送板狀構件之非接觸搬送裝置具備有板狀基體和被設置在該基體之複數的渦漩流動形成體。各渦漩流動形成體具備：柱狀之本體；被形成本體之內部，其一端開口的圓筒室；被形成在本體之上述圓筒室開口之側的面之平坦狀端面；被設置在圓筒室之內周面的噴出口；被設置在本體之外面的流體導入口；及連結噴出口和流體導入口的流體通路。各渦漩流動形成體之流體通路係被配置成從其圓筒室沿著端面而流出之流體之方向，與從被搬送之板狀構件之重心朝向外周而延伸之直線略平行。
简体摘要：抑制以非接触搬送板状构件之时所产生的该板状构件旋转。以非接触搬送板状构件之非接触搬送设备具备有板状基体和被设置在该基体之复数的涡漩流动形成体。各涡漩流动形成体具备：柱状之本体；被形成本体之内部，其一端开口的圆筒室；被形成在本体之上述圆筒室开口之侧的面之平坦状端面；被设置在圆筒室之内周面的喷出口；被设置在本体之外面的流体导入口；及链接喷出口和流体导入口的流体通路。各涡漩流动形成体之流体通路系被配置成从其圆筒室沿着端面而流出之流体之方向，与从被搬送之板状构件之重心朝向外周而延伸之直线略平行。

9. 发明专利

TW201716308A 吸引裝置审中-公开
简体标题：吸引设备
公开(公告)号：TW201716308A
公开(公告)日：2017-05-16
申请号：TW105122434
申请日：2016-07-15
申请人：哈莫技術股份有限公司 , HARMOTEC CO., LTD.
发明人：岩坂 , IWASAKA, HITOSHI , 徳永英幸 , TOKUNAGA, HIDEYUKI , 河西裕二 , KASAI, YUJI
IPC分类号： B65G47/91 , B25J15/06 , H01L21/677
CPC分类号： A47L9/00 , A47L9/16 , B25J15/06 , B65G49/07
摘要：本發明的吸引裝置(10)，具備：形成渦流藉伯努利效應吸引被吸引物(F)的渦流形成體(1)，及收容渦流形成體(1)，引導從渦流形成體(1)的凹部(12)流出之流體的流動的外殼(2)。外殼(2)具備引導部(21)、凸緣部(22)及蓋部(23)。引導部(21)是限制從渦流形成體(1)的凹部(12)沿端面(13)流出之流體的流動，朝著遠離被吸引物(F)的位置的方向引導該流體。凸緣部(22)在與端面(13)之間，形成從凹部(12)流出的流體的流路。蓋部(23)是固定於渦流形成體(1)的主體(11)的上面。
简体摘要：本发明的吸引设备(10)，具备：形成涡流藉伯努利效应吸引被吸引物(F)的涡流形成体(1)，及收容涡流形成体(1)，引导从涡流形成体(1)的凹部(12)流出之流体的流动的外壳(2)。外壳(2)具备引导部(21)、凸缘部(22)及盖部(23)。引导部(21)是限制从涡流形成体(1)的凹部(12)沿端面(13)流出之流体的流动，朝着远离被吸引物(F)的位置的方向引导该流体。凸缘部(22)在与端面(13)之间，形成从凹部(12)流出的流体的流路。盖部(23)是固定于涡流形成体(1)的主体(11)的上面。

10. 发明专利

TWI564232B 保持裝置、保持系統、控制方法及搬送裝置有权
简体标题：保持设备、保持系统、控制方法及搬送设备
公开(公告)号：TWI564232B
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW103141793
申请日：2014-12-02
申请人：哈莫技術股份有限公司 , HARMOTEC CO., LTD.
发明人：岩坂 , IWASAKA, HITOSHI , 徳永英幸 , TOKUNAGA, HIDEYUKI , 河西裕二 , KASAI, YUJI , 輿石克洋 , KOSHIISHI, KATSUHIRO
IPC分类号： B65G51/02 , B65G49/07
CPC分类号： H01L21/6838 , B65G47/911 , B65G49/061 , B65G2249/045

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