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1. 发明专利

TWI669543B 偏光膜、偏光板及偏光膜的製造方法有权
简体标题：偏光膜、偏光板及偏光膜的制造方法
公开(公告)号：TWI669543B
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：TW104143099
申请日：2015-12-22
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：中谷昭彦 , NAKATANI, AKIHIKO
IPC分类号： G02B5/30 , B29D11/00

2. 发明专利

TW201946951A 積層體及其製造方法审中-公开
简体标题：积层体及其制造方法
公开(公告)号：TW201946951A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108112537
申请日：2019-04-10
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：福井仁之 , FUKUI, HITOSHI , 野殿光紀 , NODONO, MITSUNORI , 中谷昭彦 , NAKATANI, AKIHIKO , 大松一喜 , DAIMATSU, KAZUKI , 唐澤真義 , KARASAWA, MASAYOSHI
IPC分类号： C08G73/10 , C08J5/18
摘要：本發明提供一種防止透明聚醯亞胺膜所產生之白濁之技術。本發明提供一種積層體及其製造方法，該積層體係將支持體與透明樹脂膜可剝離地積層而成者，將上述支持體之與上述透明樹脂膜之積層面之對水接觸角設為A，且將利用γ-丁內酯將該積層面洗淨並乾燥後所測得之對水接觸角設為B時，|B－A|為8.0°以下。
简体摘要：本发明提供一种防止透明聚酰亚胺膜所产生之白浊之技术。本发明提供一种积层体及其制造方法，该积层体系将支持体与透明树脂膜可剥离地积层而成者，将上述支持体之与上述透明树脂膜之积层面之对水接触角设为A，且将利用γ-丁内酯将该积层面洗净并干燥后所测得之对水接触角设为B时，|B－A|为8.0°以下。

3. 发明专利

TW202010641A 積層體及其製造方法审中-公开
简体标题：积层体及其制造方法
公开(公告)号：TW202010641A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108113601
申请日：2019-04-18
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：福井仁之 , FUKUI, HITOSHI , 野殿光紀 , NODONO, MITSUNORI , 中谷昭彦 , NAKATANI, AKIHIKO , 大松一喜 , DAIMATSU, KAZUKI , 唐澤真義 , KARASAWA, MASAYOSHI
IPC分类号： B32B27/08 , B32B27/28 , B32B7/022 , B32B7/023 , B32B7/06 , C08G73/10 , C08J5/18
摘要：本發明提供一種防止將支持體自透明聚醯亞胺膜剝離時所產生之剝離不均之技術。本發明提供一種積層體及其製造方法，該積層體包含支持體、形成於該支持體上之硬塗層、及可剝離地積層於該硬塗層上之透明樹脂膜。
简体摘要：本发明提供一种防止将支持体自透明聚酰亚胺膜剥离时所产生之剥离不均之技术。本发明提供一种积层体及其制造方法，该积层体包含支持体、形成于该支持体上之硬涂层、及可剥离地积层于该硬涂层上之透明树脂膜。

4. 发明专利

TW201946786A 積層體及其製造方法审中-公开
简体标题：积层体及其制造方法
公开(公告)号：TW201946786A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108112485
申请日：2019-04-10
申请人：日商住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL CO., LTD.
发明人：福井仁之 , FUKUI, HITOSHI , 野殿光紀 , NODONO, MITSUNORI , 大松一喜 , DAIMATSU, KAZUKI , 中谷昭彦 , NAKATANI, AKIHIKO , 唐澤真義 , KARASAWA, MASAYOSHI
IPC分类号： B32B27/34 , B32B27/32 , B32B27/24 , B32B27/08 , B32B7/06
摘要：本發明提供一種防止導輥等輥表面之傷痕經由支持體轉印至聚醯亞胺膜表面之技術。本發明提供一種積層體及其製造方法，該積層體之特徵在於：其係將支持體與透明樹脂膜可剝離地積層而成者，上述支持體與上述透明樹脂膜接觸側之馬氏硬度為300 N/mm以上。
简体摘要：本发明提供一种防止导辊等辊表面之伤痕经由支持体转印至聚酰亚胺膜表面之技术。本发明提供一种积层体及其制造方法，该积层体之特征在于：其系将支持体与透明树脂膜可剥离地积层而成者，上述支持体与上述透明树脂膜接触侧之马氏硬度为300 N/mm以上。

5. 发明专利

TW201400269A 聚丙烯系樹脂製相位差膜之製造方法审中-公开
简体标题：聚丙烯系树脂制相位差膜之制造方法
公开(公告)号：TW201400269A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102109624
申请日：2013-03-19
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：石上佳照 , ISHIGAMI, YOSHIAKI , 鈴木俊彦 , SUZUKI, TOSHIHIKO , 中谷昭彦 , NAKATANI, AKIHIKO , 蔭山仁志 , KAGEYAMA, HITOSHI
IPC分类号： B29C55/04 , G02B5/30 , B29K23/00 , B29L7/00 , B29L11/00
摘要： [課題]提供具有二軸性，且具有高光學均勻性的聚丙烯系樹脂製相位差膜之製造方法。[解決手段]一種聚丙烯系樹脂製相位差膜之製造方法，係包含：加熱熔融聚丙烯系樹脂得到膜狀熔融樹脂，藉由以1根輥冷卻固化該膜狀熔融樹脂，得到以R0表示的面內相位差值滿足下式(1)的膜F的步驟，以及加熱該膜F，藉由在膜F的寬幅方向，延伸加熱的膜F至1.9倍以上3.0倍以下，而得到NZ係數1.3以上4.0以下的聚丙烯系樹脂製相位差膜的步驟之方法。1.5×10-4×d≦R0 式(1) (式(1)中、d為膜F的厚度(nm))。
简体摘要： [课题]提供具有二轴性，且具有高光学均匀性的聚丙烯系树脂制相位差膜之制造方法。[解决手段]一种聚丙烯系树脂制相位差膜之制造方法，系包含：加热熔融聚丙烯系树脂得到膜状熔融树脂，借由以1根辊冷却固化该膜状熔融树脂，得到以R0表示的面内相位差值满足下式(1)的膜F的步骤，以及加热该膜F，借由在膜F的宽幅方向，延伸加热的膜F至1.9倍以上3.0倍以下，而得到NZ系数1.3以上4.0以下的聚丙烯系树脂制相位差膜的步骤之方法。1.5×10-4×d≦R0 式(1) (式(1)中、d为膜F的厚度(nm))。

6. 发明专利

TW201629547A 偏光膜、偏光板及偏光膜的製造方法审中-公开
简体标题：偏光膜、偏光板及偏光膜的制造方法
公开(公告)号：TW201629547A
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：TW104143099
申请日：2015-12-22
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：中谷昭彦 , NAKATANI, AKIHIKO
IPC分类号： G02B5/30 , B29D11/00
摘要：本發明係提供一種具有厚度薄之偏光膜(厚度≦10μm)的偏光板，可抑制安裝於顯示裝置時之光洩漏的偏光板。又，提供一種偏光膜之製造方法，其係厚度為10μm以下，面內之吸收軸之擺幅為0.2°以下，並含有以下之步驟(1)的偏光膜之製造方法。該步驟(1)係準備基材膜之步驟，該基材膜係含有熱塑性樹脂之長條狀之基材膜，從朝MD方向測定基材膜之厚度所得的波形所算出之標準偏差σ 1為0.80μm以下，且將前述波形經傅立葉轉換之後，從將波數為1/3(1/m)以上之區域的光譜進行逆傅立葉轉換所得之厚度的波形所算出之標準偏差σ 2為0.65μm以下。
简体摘要：本发明系提供一种具有厚度薄之偏光膜(厚度≦10μm)的偏光板，可抑制安装于显示设备时之光泄漏的偏光板。又，提供一种偏光膜之制造方法，其系厚度为10μm以下，面内之吸收轴之摆幅为0.2°以下，并含有以下之步骤(1)的偏光膜之制造方法。该步骤(1)系准备基材膜之步骤，该基材膜系含有热塑性树脂之长条状之基材膜，从朝MD方向测定基材膜之厚度所得的波形所算出之标准偏差σ 1为0.80μm以下，且将前述波形经傅里叶转换之后，从将波数为1/3(1/m)以上之区域的光谱进行逆傅里叶转换所得之厚度的波形所算出之标准偏差σ 2为0.65μm以下。

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