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    • 3. 发明专利
    • 微細氣泡產生裝置及旋回通路形成裝置
    • 微细气泡产生设备及旋回通路形成设备
    • TW201336582A
    • 2013-09-16
    • TW101150435
    • 2012-12-27
    • 霓達股份有限公司NITTA CORPORATION
    • 嵯峨秀一SAGA, SHUICHI淺里信之ASARI, NOBUYUKI
    • B01F5/02B01F3/04B01F15/02
    • B01F5/0426B01F3/04503B01F2003/04858B01F2005/0017B01F2005/0436
    • 本發明係在微細氣泡產生裝置10中形成縱向通過其本體11之孔12。孔12之一方作為噴嘴15,配置氣液混合空間16,在另一端設置液體供給部17。在氣液混合空間16與液體供給部17之間設置收容旋回流形成體18之旋回流形成體收容空間19。在旋回流形成體18之外周部181的外周面設置一對環狀突起部184、185,並將其兩側以O形環25、26氣密。本體11中,在對應於以突起部184、185氣密性劃分之環狀空間22的位置設置橫孔13,並且在旋回流形成體18之本體180中設置通向氣液混合空間16之氣體通路。從設於旋回流形成體18之螺旋斜坡186(187)噴出高壓液體至氣液混合空間16內。
    • 本发明系在微细气泡产生设备10中形成纵向通过其本体11之孔12。孔12之一方作为喷嘴15,配置气液混合空间16,在另一端设置液体供给部17。在气液混合空间16与液体供给部17之间设置收容旋回流形成体18之旋回流形成体收容空间19。在旋回流形成体18之外周部181的外周面设置一对环状突起部184、185,并将其两侧以O形环25、26气密。本体11中,在对应于以突起部184、185气密性划分之环状空间22的位置设置横孔13,并且在旋回流形成体18之本体180中设置通向气液混合空间16之气体通路。从设于旋回流形成体18之螺旋斜坡186(187)喷出高压液体至气液混合空间16内。