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2. 发明专利

TW201632149A 牙科用構件审中-公开
简体标题：牙科用构件
公开(公告)号：TW201632149A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW105104292
申请日：2016-02-15
申请人：新特科股份有限公司 , SYNTEC CORPORATION
发明人：赤津和三 , AKATSU, KAZUMI , 阿部 , ABE, TAKASHI , 蛭田仁 , HIRUTA, JIN
IPC分类号： A61C5/00
CPC分类号： A61K6/04 , A61C5/77 , A61C7/14 , A61C7/20 , A61C13/00 , A61C13/267
摘要：為了提供一種具有與真正牙齒的色調類似的色調之牙科用構件。牙科用構件(1)係具備：母材(2)、第1氧化被膜層(3)、第2氧化被膜層(4)以及被覆層(5)，母材(2)，是由選自Ni合金、Ti、Ti合金或不鏽鋼所組成的群之1種金屬所構成；第1氧化被膜層(3)，是經由空氣中的氧化形成於母材(2)的表面；第2氧化被膜層(4)，是藉由在離子鍍裝置內於氧存在下進行放電，以和第1氧化被膜層(3)之合計厚度成為10~500nm的範圍的方式形成於第1氧化被膜層(3)上；被覆層(5)，是藉由離子鍍形成於第2氧化被膜層(4)上。被覆層(5)，是至少包含Zr的金屬、和選自N、C、O之1種以上的元素之化合物。
简体摘要：为了提供一种具有与真正牙齿的色调类似的色调之牙科用构件。牙科用构件(1)系具备：母材(2)、第1氧化被膜层(3)、第2氧化被膜层(4)以及被覆层(5)，母材(2)，是由选自Ni合金、Ti、Ti合金或不锈钢所组成的群之1种金属所构成；第1氧化被膜层(3)，是经由空气中的氧化形成于母材(2)的表面；第2氧化被膜层(4)，是借由在离子镀设备内于氧存在下进行放电，以和第1氧化被膜层(3)之合计厚度成为10~500nm的范围的方式形成于第1氧化被膜层(3)上；被覆层(5)，是借由离子镀形成于第2氧化被膜层(4)上。被覆层(5)，是至少包含Zr的金属、和选自N、C、O之1种以上的元素之化合物。

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