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1. 发明专利

TW201120244A 預塗覆金屬板用基底處理劑、經塗佈其之塗裝基底處理金屬板及經使用其之具優異塗膜加工密著性的預塗覆金屬板审中-公开
简体标题：预涂覆金属板用基底处理剂、经涂布其之涂装基底处理金属板及经使用其之具优异涂膜加工密着性的预涂覆金属板
公开(公告)号：TW201120244A
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：TW099125709
申请日：2010-08-03
申请人：新日本製鐵股份有限公司 , 日本帕卡瀨精股份有限公司
发明人：古川博康 , 植田浩平 , 高橋彰 , 野村廣正 , 木全芳夫 , 木下康弘 , 水野賢輔 , 小西知義
IPC分类号： C23C , C09D , B05D
CPC分类号： C09D167/00 , B05D7/14 , B05D7/51 , C08K3/36 , C08K5/54 , C09D5/082 , C09D7/62 , C09D7/63
摘要：本發明係一種預塗覆金屬板用基底處理劑,其於水中含有作為固形分之單寧或單寧酸、矽烷耦合劑及微粒二氧化矽,並含有粒子徑為50~150nm、玻璃轉移溫度(Tg)為0~30℃且羥基價為5~13之聚酯樹脂,而且處理劑之pH為2.0~6.5。藉此,可提供一種於預塗覆金屬板生產之長期恆定狀態下的實際操作中不會產生沉澱且穩定之預塗覆金屬板用基底處理劑。
简体摘要：本发明系一种预涂覆金属板用基底处理剂,其于水中含有作为固形分之单宁或单宁酸、硅烷耦合剂及微粒二氧化硅,并含有粒子径为50~150nm、玻璃转移温度(Tg)为0~30℃且羟基价为5~13之聚酯树脂,而且处理剂之pH为2.0~6.5。借此,可提供一种于预涂覆金属板生产之长期恒定状态下的实际操作中不会产生沉淀且稳定之预涂覆金属板用基底处理剂。

2. 发明专利

TWI431160B 預塗覆金屬板用基底處理劑、經塗佈其之塗裝基底處理金屬板及經使用其之具優異塗膜加工密著性的預塗覆金屬板有权
简体标题：预涂覆金属板用基底处理剂、经涂布其之涂装基底处理金属板及经使用其之具优异涂膜加工密着性的预涂覆金属板
公开(公告)号：TWI431160B
公开(公告)日：2014-03-21
申请号：TW099125709
申请日：2010-08-03
申请人：新日鐵住金股份有限公司 , NIPPON STEEL & SUMITOMO METAL CORPORATION , 日本帕卡瀨精股份有限公司 , NIHON PARKERIZING CO., LTD.
发明人：古川博康 , FURUKAWA, HIROYASU , 植田浩平 , UEDA, KOHEI , 高橋彰 , TAKAHASHI, AKIRA , 野村廣正 , NOMURA, HIROMASA , 木全芳夫 , KIMATA, YOSHIO , 木下康弘 , KINOSHITA, YASUHIRO , 水野賢輔 , MIZUNO, KENSUKE , 小西知義 , KONISHI, TOMOYOSHI
IPC分类号： C23C22/48 , C23C22/68 , C09D167/00 , C09D7/12 , B05D7/14
CPC分类号： C09D167/00 , B05D7/14 , B05D7/51 , C08K3/36 , C08K5/54 , C09D5/082 , C09D7/62 , C09D7/63

3. 发明专利

TW201104016A 耐污染性優異之預塗金屬板及其製造方法以及表面處理液审中-公开
简体标题：耐污染性优异之预涂金属板及其制造方法以及表面处理液
公开(公告)号：TW201104016A
公开(公告)日：2011-02-01
申请号：TW099115470
申请日：2010-05-14
申请人：新日本製鐵股份有限公司
发明人：金井隆雄 , 野村廣正
IPC分类号： C23C , B32B , C09D
CPC分类号： C23C26/00 , B05D5/00 , B05D7/16 , B05D7/58 , C08G77/14 , C08K3/34 , C09D5/1618 , C09D5/1675 , C09D5/1693 , C09D7/70
摘要：本發明係提供一種可長時間地維持因光觸媒產生之耐污染性、及自淨化機能的預塗金屬板。又，提供用以較佳地製造前述預塗金屬板之方法及表面處理液。本發明之預塗金屬板，係於基底金屬板及其表面具有機樹脂被覆層之基材預塗金屬板上形成至少2層之具有光觸媒活性的皮膜者，其特徵在於，該至少2層之具有光觸媒活性的皮膜含有無機-有機複合體樹脂、具有光觸媒活性之物質、及無機系平板狀粒子，前述無機-有機複合體樹脂係由下述所構成：具有碳數1以上12以下之烷基、芳基、羧基、羥基、及選自於由該等之組合所構成之群之有機基的烷氧矽烷、具有環氧基之烷氧矽烷、具有胺基之烷氧矽烷、四烷氧矽烷、及選自於由該等之組合所構成之群之烷氧矽烷的縮合物，且含有之具有光觸媒活性之物質的含有量係於位於最外層之皮膜為最多，越內層側之皮膜越少。
简体摘要：本发明系提供一种可长时间地维持因光触媒产生之耐污染性、及自净化机能的预涂金属板。又，提供用以较佳地制造前述预涂金属板之方法及表面处理液。本发明之预涂金属板，系于基底金属板及其表面具有机树脂被覆层之基材预涂金属板上形成至少2层之具有光触媒活性的皮膜者，其特征在于，该至少2层之具有光触媒活性的皮膜含有无机-有机复合体树脂、具有光触媒活性之物质、及无机系平板状粒子，前述无机-有机复合体树脂系由下述所构成：具有碳数1以上12以下之烷基、芳基、羧基、羟基、及选自于由该等之组合所构成之群之有机基的烷氧硅烷、具有环氧基之烷氧硅烷、具有胺基之烷氧硅烷、四烷氧硅烷、及选自于由该等之组合所构成之群之烷氧硅烷的缩合物，且含有之具有光触媒活性之物质的含有量系于位于最外层之皮膜为最多，越内层侧之皮膜越少。

4. 发明专利

TW201036810A 表面處理預鍍敷金屬板及其製造方法以及表面處理液审中-公开
简体标题：表面处理预镀敷金属板及其制造方法以及表面处理液
公开(公告)号：TW201036810A
公开(公告)日：2010-10-16
申请号：TW099104956
申请日：2010-02-12
申请人：新日本製鐵股份有限公司 , 日鐵住金鋼板股份有限公司
发明人：金井隆雄 , 野村廣正 , 濱村知成 , 金井洋 , 及川廣行
IPC分类号： B32B , C09D , C23C
CPC分类号： C09D183/04 , B01J35/004 , B01J37/0217 , B01J37/0244 , B05D5/08 , B05D2202/00 , C08K3/22 , C09D5/08 , C09D7/61 , Y10T428/31663
摘要：本發明提供一種可以歷經長時間地維持由光觸媒產生的耐污染性及自潔機能之表面處理預鍍敷金屬板。另外，提供一種用以合適地製造上述表面處理預鍍敷金屬板之方法及表面處理液。本發明的表面處理預鍍敷金屬板，其特徵為，是在基體金屬板及其表面具有有機樹脂被覆層之預鍍敷金屬板上，形成至少2層有光觸媒活性之皮膜的表面處理預鍍敷金屬板，該至少2層的皮膜含有，有選自碳數1以上12以下的烷基、芳基、羧基、羥基及該等之組合組成之族群的有機基團之烷氧基矽烷，有環氧基的烷氧基矽烷，有胺基的烷氧基矽烷，四烷氧基矽烷，以及該等之組合組成之族群中選出的烷氧基矽烷之縮合物形成的無機-有機複合體樹脂，而且以其含量在最外層皮膜最多，到內層皮膜愈少的狀態含有有光觸媒活性的物質。
简体摘要：本发明提供一种可以历经长时间地维持由光触媒产生的耐污染性及自洁机能之表面处理预镀敷金属板。另外，提供一种用以合适地制造上述表面处理预镀敷金属板之方法及表面处理液。本发明的表面处理预镀敷金属板，其特征为，是在基体金属板及其表面具有有机树脂被覆层之预镀敷金属板上，形成至少2层有光触媒活性之皮膜的表面处理预镀敷金属板，该至少2层的皮膜含有，有选自碳数1以上12以下的烷基、芳基、羧基、羟基及该等之组合组成之族群的有机基团之烷氧基硅烷，有环氧基的烷氧基硅烷，有胺基的烷氧基硅烷，四烷氧基硅烷，以及该等之组合组成之族群中选出的烷氧基硅烷之缩合物形成的无机-有机复合体树脂，而且以其含量在最外层皮膜最多，到内层皮膜愈少的状态含有有光触媒活性的物质。

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