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1. 发明专利

TW552272B 氧雜環丁烷化合物及氧雜環丁烷共聚物,以及氧雜環丁烷化合物之製造方法有权
简体标题：氧杂环丁烷化合物及氧杂环丁烷共聚物,以及氧杂环丁烷化合物之制造方法
公开(公告)号：TW552272B
公开(公告)日：2003-09-11
申请号：TW088110827
申请日：1999-06-28
申请人：捷時雅股份有限公司
发明人：杉山直樹 , 關口學 , 佐藤穗積
IPC分类号： C08F
CPC分类号： C07D407/04 , C07D305/06 , C07D409/04 , C08F16/26 , C08F216/14 , C08G61/12 , C08G65/18 , C08G65/22
摘要：本發明提供一種游離基聚合反應性及陽離子聚合反應性優越、同時與其他共聚單體之相容性、共聚性優越之下述一般式(Ⅰ)所示之氧雜環丁烷化合物及其製造法，以及一種與共聚成分相容性優越、低吸水率、透明性優越之氧雜環丁烷共聚物。
[一般式(1)中，取代基R1係氫原子、烷基、氟原子、氟烷基、烯丙基、芳基、喃基或吩基，取代基R2、R3及R4各自獨立為氫原子或碳原子數1至6之烷基，m及 n各為1至10之整數(但，取代基R2、R3及R4均為氫原子時除外)]。
简体摘要：本发明提供一种游离基聚合反应性及阳离子聚合反应性优越、同时与其他共聚单体之兼容性、共聚性优越之下述一般式(Ⅰ)所示之氧杂环丁烷化合物及其制造法，以及一种与共聚成分兼容性优越、低吸水率、透明性优越之氧杂环丁烷共聚物。 [一般式(1)中，取代基R1系氢原子、烷基、氟原子、氟烷基、烯丙基、芳基、喃基或吩基，取代基R2、R3及R4各自独立为氢原子或碳原子数1至6之烷基，m及 n各为1至10之整数(但，取代基R2、R3及R4均为氢原子时除外)]。

2. 发明专利

TW482817B 光硬化性組成物及光硬化物有权
简体标题：光硬化性组成物及光硬化物
公开(公告)号：TW482817B
公开(公告)日：2002-04-11
申请号：TW088110061
申请日：1999-06-16
申请人：捷時雅股份有限公司
发明人：關口學 , 杉山直樹 , 佐藤穗積
IPC分类号： C09D
CPC分类号： G03F7/0757 , C09D4/00 , C09D183/06 , C08G77/04 , C08L2666/28
摘要：本發明係有關含有下列(A)至(C)組成分為特徵之光硬化性組成物。
(A)一般式(1)所示加水分解性矽烷化合物和其加水分解產物或其中之任意一種化合物，
(R1)pSi(X)4-p (1)
[一般式(1)中，R1示碳數為1至12之非加水分解性有機基，X示加水分解性基，p示0至3之整數。]
(B)光產酸劑
(C)脫水劑
據上述組成可提供具備光硬化速度迅速，具優異保存安定性、耐熱性、耐氣候性、耐擦傷性等特性，且能適用於塑膠等耐熱性低之基材的光硬化性組成物和由其製成之光硬化物。
简体摘要：本发明系有关含有下列(A)至(C)组成分为特征之光硬化性组成物。 (A)一般式(1)所示加水分解性硅烷化合物和其加水分解产物或其中之任意一种化合物， (R1)pSi(X)4-p (1) [一般式(1)中，R1示碳数为1至12之非加水分解性有机基，X示加水分解性基，p示0至3之整数。] (B)光产酸剂 (C)脱水剂据上述组成可提供具备光硬化速度迅速，具优异保存安定性、耐热性、耐气候性、耐擦伤性等特性，且能适用于塑胶等耐热性低之基材的光硬化性组成物和由其制成之光硬化物。

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