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1. 发明专利

TWI664687B 使用多個機械平台掃描物體有权
简体标题：使用多个机械平台扫描物体
公开(公告)号：TWI664687B
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：TW104118818
申请日：2015-06-10
申请人：以色列商應用材料以色列公司 , APPLIED MATERIALS ISRAEL, LTD. , 美商應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：烏茲爾尤拉 , UZIEL, YORAM , 聖德班遜 , SENDER, BENZION , 阿斯皮爾多榮 , ASPIR, DORON , 麥德蒙亞哈南 , MADMON, YAHANAN , 納夫塔利榮恩 , NAFTALI, RON , 白蘭奇尤瑞 , BELENKI, YURI
IPC分类号： H01L21/66

2. 发明专利

TW201611144A 使用多個機械平台掃描物體审中-公开
简体标题：使用多个机械平台扫描物体
公开(公告)号：TW201611144A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104118818
申请日：2015-06-10
申请人：應用材料以色列公司 , APPLIED MATERIALS ISRAEL, LTD. , 應用材料股份有限公司 , APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：烏茲爾尤拉 , UZIEL, YORAM , 聖德班遜 , SENDER, BENZION , 阿斯皮爾多榮 , ASPIR, DORON , 麥德蒙亞哈南 , MADMON, YAHANAN , 納夫塔利榮恩 , NAFTALI, RON , 白蘭奇尤瑞 , BELENKI, YURI
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： H01J37/28 , G06T7/0004 , G06T2207/30148 , H01J37/20 , H01J2237/20228 , H01J2237/2817
摘要：一種用於掃描一物體的方法，該方法可包括下述步驟：藉由遵循第一掃描圖案的第一機械平台來移動一物體；藉由第二機械平台在該物體與第一機械平台之間引入多個運動，同時第一機械平台遵循第一掃描圖案；以及藉由光學系統獲得多個疑似缺陷的影像，同時第一機械平台遵循第一掃描圖案；其中第一機械平台的重量超過第二機械平台的重量。
简体摘要：一种用于扫描一物体的方法，该方法可包括下述步骤：借由遵循第一扫描图案的第一机械平台来移动一物体；借由第二机械平台在该物体与第一机械平台之间引入多个运动，同时第一机械平台遵循第一扫描图案；以及借由光学系统获得多个疑似缺陷的影像，同时第一机械平台遵循第一扫描图案；其中第一机械平台的重量超过第二机械平台的重量。

3. 发明专利

TWI546877B 腔室元件與用於放置腔室於負載位置處之方法有权
简体标题：腔室组件与用于放置腔室于负载位置处之方法
公开(公告)号：TWI546877B
公开(公告)日：2016-08-21
申请号：TW101101977
申请日：2012-01-18
申请人：應用材料以色列公司 , APPLIED MATERIALS ISRAEL, LTD.
发明人：柯瑞維茨(柯利伍茨)伊格 , KRAYVITZ (KRIVTS), IGOR , 艾納瑞以色雷 , AVNERI, ISRAEL , 烏茲爾尤拉 , UZIEL, YORAM , 史利莫夫耐坦 , SCHLIMOFF, NATAN , 史瓦茲吉拉德 , SCHWARTZ, GILAD , 麥蒙約漢南 , MADMON, YOCHANAN
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/6719 , H01L21/67126

4. 发明专利

TWI515427B 基於高電子能量的覆蓋誤差測量方法及系統有权
简体标题：基于高电子能量的覆盖误差测量方法及系统
公开(公告)号：TWI515427B
公开(公告)日：2016-01-01
申请号：TW100125161
申请日：2011-07-15
申请人：應用材料以色列公司 , APPLIED MATERIALS ISRAEL, LTD.
发明人：蘭哲穆謝 , LANGER, MOSHE , 阿丹歐佛 , ADAN, OFER , 珮爾蒂諾蘭姆 , PELTINOV, RAM , 烏茲爾尤拉 , UZIEL, YORAM , 薛佛歐里 , SHOVAL, ORI
IPC分类号： G01N23/225 , G03F7/20
CPC分类号： G01N23/2251 , G01N2223/61 , G01N2223/611

5. 发明专利

TW201317718A 用於將ＥＵＶＬ遮罩電耦接至支撐夾盤的導電元件审中-公开
简体标题：用于将ＥＵＶＬ遮罩电耦接至支撑夹盘的导电组件
公开(公告)号：TW201317718A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW101135534
申请日：2012-09-27
申请人：應用材料以色列公司 , APPLIED MATERIALS ISRAEL, LTD.
发明人：柯利伍茨(柯瑞維茨)伊格 , KRIVTS (KRAYVITZ), IGOR , 艾納瑞以色雷 , AVNERI, ISRAEL , 烏茲爾尤拉 , UZIEL, YORAM , 班大衛尼爾 , BEN-DAVID, NIR , 霍克曼伊多 , HOLCMAN, IDO , 葉爾伊札克 , YAIR, ITZAK , 巴松尤西 , BASSON, YOSI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： H01J37/20 , F16B17/00 , G01N23/18 , G03F1/22 , G03F1/40 , H01J2237/0044 , H01J2237/20 , H01J2237/2008 , H01L21/6831 , Y10T279/23 , Y10T403/70
摘要：一種耦接模組可包括：上部部分，該上部部分界定孔隙；遮罩接觸元件；夾盤接觸元件；和中間元件，該中間元件連接於該遮罩接觸元件與該上部部分之間。孔隙的形狀和尺寸可對應於極紫外(EUVL)遮罩的圖案轉移區域的形狀和尺寸。耦接模組可經成形並經確定尺寸，使得一旦遮罩接觸元件接觸EUVL遮罩的上部部分，那麼夾盤接觸元件接觸支撐該遮罩的夾盤。當EUVL遮罩定位於夾盤上時，耦接模組可在EUVL遮罩的上部部分與夾盤之間進一步提供至少一個導電路徑。
简体摘要：一种耦接模块可包括：上部部分，该上部部分界定孔隙；遮罩接触组件；夹盘接触组件；和中间组件，该中间组件连接于该遮罩接触组件与该上部部分之间。孔隙的形状和尺寸可对应于极紫外(EUVL)遮罩的图案转移区域的形状和尺寸。耦接模块可经成形并经确定尺寸，使得一旦遮罩接触组件接触EUVL遮罩的上部部分，那麽夹盘接触组件接触支撑该遮罩的夹盘。当EUVL遮罩定位于夹盘上时，耦接模块可在EUVL遮罩的上部部分与夹盘之间进一步提供至少一个导电路径。

6. 发明专利

TWI486725B 用於將ＥＵＶＬ遮罩電耦接至支撐夾盤的導電元件有权
简体标题：用于将ＥＵＶＬ遮罩电耦接至支撑夹盘的导电组件
公开(公告)号：TWI486725B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW101135534
申请日：2012-09-27
申请人：應用材料以色列公司 , APPLIED MATERIALS ISRAEL, LTD.
发明人：柯利伍茨(柯瑞維茨)伊格 , KRIVTS (KRAYVITZ), IGOR , 艾納瑞以色雷 , AVNERI, ISRAEL , 烏茲爾尤拉 , UZIEL, YORAM , 班大衛尼爾 , BEN-DAVID, NIR , 霍克曼伊多 , HOLCMAN, IDO , 葉爾伊札克 , YAIR, ITZAK , 巴松尤西 , BASSON, YOSI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： H01J37/20 , F16B17/00 , G01N23/18 , G03F1/22 , G03F1/40 , H01J2237/0044 , H01J2237/20 , H01J2237/2008 , H01L21/6831 , Y10T279/23 , Y10T403/70

7. 发明专利

TW201250894A 腔室元件與用於放置腔室於負載位置處之方法 CHAMBER ELEMENTS AND A METHOD FOR PLACING A CHAMBER AT A LOAD POSITION 审中-公开
简体标题：腔室组件与用于放置腔室于负载位置处之方法 CHAMBER ELEMENTS AND A METHOD FOR PLACING A CHAMBER AT A LOAD POSITION
公开(公告)号：TW201250894A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101101977
申请日：2012-01-18
申请人：應用材料以色列公司
发明人：柯瑞維茨(柯利伍茨)伊格 , 艾納瑞以色雷 , 烏茲爾尤拉 , 史利莫夫耐坦 , 史瓦茲吉拉德 , 麥蒙約漢南
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/6719 , H01L21/67126
摘要：限定腔室之腔室元件係包含了具有第一表面之第一元件、第二元件、第一動力密封件與負載機構。該第二元件包含外浮動元件與內浮動元件,該外浮動元件包含在該腔室周邊周圍之第二表面。當該腔室位於負載位置時以及當該腔室關閉時,該第二表面與該第一表面係保持為鄰近於彼此。該負載機構係自該外浮動元件移動該內浮動元件,直到該內浮動元件與該第二元件之間的間隙可促進該裝置負載至該腔室為止。移動系統係產生該第一元件與該第二元件間之相對移動。
简体摘要：限定腔室之腔室组件系包含了具有第一表面之第一组件、第二组件、第一动力密封件与负载机构。该第二组件包含外浮动组件与内浮动组件,该外浮动组件包含在该腔室周边周围之第二表面。当该腔室位于负载位置时以及当该腔室关闭时,该第二表面与该第一表面系保持为邻近于彼此。该负载机构系自该外浮动组件移动该内浮动组件,直到该内浮动组件与该第二组件之间的间隙可促进该设备负载至该腔室为止。移动系统系产生该第一组件与该第二组件间之相对移动。

8. 发明专利

TW201248140A 基於高電子能量的覆蓋誤差測量方法及系統 HIGH ELECTRON ENERGY BASED OVERLAY ERROR MEASUREMENT METHODS AND SYSTEMS 审中-公开
简体标题：基于高电子能量的覆盖误差测量方法及系统 HIGH ELECTRON ENERGY BASED OVERLAY ERROR MEASUREMENT METHODS AND SYSTEMS
公开(公告)号：TW201248140A
公开(公告)日：2012-12-01
申请号：TW100125161
申请日：2011-07-15
申请人：應用材料以色列公司
发明人：蘭哲穆謝 , 阿丹歐佛 , 珮爾蒂諾蘭姆 , 烏茲爾尤拉 , 薛佛歐里
IPC分类号： G01N , G03F
CPC分类号： G01N23/2251 , G01N2223/61 , G01N2223/611
摘要：本發明提供一種基於高電子能量的覆蓋誤差測量方法、系統和電腦可讀取媒體。所述方法可以包括:獲得或接收第一區域資訊,所述第一區域資訊表示檢查物的第一層的第一區域;其中所述檢查物進一步包含第二層,所述第二層包含第二區域;其中所述第二層是埋在所述第一層下面的;引導原始電子束的電子與所述第一區域相互作用;引導所述原始電子束的電子與所述第二區域相互作用;響應於從所述第一區域和所述第二區域中的至少一個區域散射或反射的電子,產生檢測信號;及基於所述檢測信號和所述第一區域資訊,來決定所述第一區域的至少一個特徵與所述第二區域的至少一個特徵之間的至少一個空間關係。
简体摘要：本发明提供一种基于高电子能量的覆盖误差测量方法、系统和电脑可读取媒体。所述方法可以包括:获得或接收第一区域信息,所述第一区域信息表示检查物的第一层的第一区域;其中所述检查物进一步包含第二层,所述第二层包含第二区域;其中所述第二层是埋在所述第一层下面的;引导原始电子束的电子与所述第一区域相互作用;引导所述原始电子束的电子与所述第二区域相互作用;响应于从所述第一区域和所述第二区域中的至少一个区域散射或反射的电子,产生检测信号;及基于所述检测信号和所述第一区域信息,来决定所述第一区域的至少一个特征与所述第二区域的至少一个特征之间的至少一个空间关系。

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