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    • 1. 发明专利
    • 用於檢查圖案化樣本之光學系統及方法(一)
    • 用于检查图案化样本之光学系统及方法(一)
    • TW201323862A
    • 2013-06-16
    • TW101135126
    • 2012-09-25
    • 應用材料以色列公司APPLIED MATERIALS ISRAEL, LTD.
    • 巴爾拉提凱尤夫BERLATZKY, YOAV高佛拉爾艾杜KOFLER, IDO梅許拉奇多倫MESHULACH, DORON貝肯卡比BARKAN, KOBI
    • G01N21/956
    • G01N21/956G01N21/4788G01N2021/8822
    • 所提出的一種光學檢查系統係定義了一檢查平面,以檢查位於該檢查平面中的一圖案化樣本。該系統包含一照射單元和一光線收集單元;該照射單元定義了對該檢查平面呈一特定角度取向之一照射路徑,該光線收集單元定義了對該檢查平面呈一特定角度取向之一收集路徑。該照射單元包含一照射遮罩,該照射遮罩位於關於該檢查平面之一第一光譜平面中且包含一第一預定不連續圖案之一光線穿透區域陣列。該光線收集單元包含一收集遮罩,該收集遮罩位於關於該檢查平面之一第二光譜平面中,該第二光譜平面係與該第一光譜平面共軛,該收集遮罩包含一第二預定圖案之分隔光線阻擋區域。該第一與第二圖案的特徵排列係根據從該圖案化樣本沿著由該照射與收集通道的角度取向所定義之收集通道的一繞射反應而加以選擇,使得該第一圖案之該光線穿透區域對該第二圖案之該光線阻擋區域係呈一預定對準。
    • 所提出的一种光学检查系统系定义了一检查平面,以检查位于该检查平面中的一图案化样本。该系统包含一照射单元和一光线收集单元;该照射单元定义了对该检查平面呈一特定角度取向之一照射路径,该光线收集单元定义了对该检查平面呈一特定角度取向之一收集路径。该照射单元包含一照射遮罩,该照射遮罩位于关于该检查平面之一第一光谱平面中且包含一第一预定不连续图案之一光线穿透区域数组。该光线收集单元包含一收集遮罩,该收集遮罩位于关于该检查平面之一第二光谱平面中,该第二光谱平面系与该第一光谱平面共轭,该收集遮罩包含一第二预定图案之分隔光线阻挡区域。该第一与第二图案的特征排列系根据从该图案化样本沿着由该照射与收集信道的角度取向所定义之收集信道的一绕射反应而加以选择,使得该第一图案之该光线穿透区域对该第二图案之该光线阻挡区域系呈一预定对准。
    • 3. 发明专利
    • 用於檢查圖案化樣本之光學系統及方法(二)
    • 用于检查图案化样本之光学系统及方法(二)
    • TW201323863A
    • 2013-06-16
    • TW101135127
    • 2012-09-25
    • 應用材料以色列公司APPLIED MATERIALS ISRAEL, LTD.
    • 巴爾拉提凱尤夫BERLATZKY, YOAV高佛拉爾艾杜KOFLER, IDO梅許拉奇多倫MESHULACH, DORON貝肯卡比BARKAN, KOBI
    • G01N21/956
    • G01N21/956G01N21/4788G01N2021/8822
    • 提出一種光學檢查系統,該光學檢查系統定義了一檢查平面以檢查位於該檢查平面中之一圖案化樣本。該系統包含一照射單元與一光線收集單元,該照射單元係定義了具有一預定數值孔徑與關於該檢查平面之預定角度取向的一照射通道,該光線收集單元定義了具有關於該檢查平面之預定角度取向的一收集通道。該照射單元包含一照射遮罩,該照射遮罩位於關於該檢查平面之一第一光譜平面中且定義了包含一第一圖案之一照射光瞳,該第一圖案是由至少一長形光線穿透區域所形成,該光線穿透區域在一軸上所具有之一物理尺寸係大於在一垂直軸上者。該光線收集單元包含一收集遮罩,該收集遮罩位於與該第一光譜平面共軛之關於該檢查平面之一第二光譜平面,該收集遮罩包含由分隔光線阻擋區域組成之一第二預定圖案。
    • 提出一种光学检查系统,该光学检查系统定义了一检查平面以检查位于该检查平面中之一图案化样本。该系统包含一照射单元与一光线收集单元,该照射单元系定义了具有一预定数值孔径与关于该检查平面之预定角度取向的一照射信道,该光线收集单元定义了具有关于该检查平面之预定角度取向的一收集信道。该照射单元包含一照射遮罩,该照射遮罩位于关于该检查平面之一第一光谱平面中且定义了包含一第一图案之一照射光瞳,该第一图案是由至少一长形光线穿透区域所形成,该光线穿透区域在一轴上所具有之一物理尺寸系大于在一垂直轴上者。该光线收集单元包含一收集遮罩,该收集遮罩位于与该第一光谱平面共轭之关于该检查平面之一第二光谱平面,该收集遮罩包含由分隔光线阻挡区域组成之一第二预定图案。