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1. 发明专利

TW200402253A 磁中性線放電電漿處理系統 MAGNETIC NEUTRAL LINE DISCHARGE PLASMA PROCESSING SYSTEM 失效
简体标题：磁中性线放电等离子处理系统 MAGNETIC NEUTRAL LINE DISCHARGE PLASMA PROCESSING SYSTEM
公开(公告)号：TW200402253A
公开(公告)日：2004-02-01
申请号：TW092115747
申请日：2003-06-10
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：內田岱二郎 UCHIDA, TAIJIRO
IPC分类号： H05H , C23C
CPC分类号： H01J37/32082 , H01J37/32623 , H01J37/3266
摘要：本發明提供一磁中性線放電電漿處理系統，其可以同時施加多數線性磁中性線放電電漿，以均質均勻地處理在一大矩形基板之所有表面區域。磁中性線放電電漿處理系統之磁場產生機構具有至少兩線性電流棒安排在真空室外，與在真空室內之處理物體之予以處理之表面平行，以在相鄰定位之線性電流棒間之真空室內，形成至少一線性磁中性線。
简体摘要：本发明提供一磁中性线放电等离子处理系统，其可以同时施加多数线性磁中性线放电等离子，以均质均匀地处理在一大矩形基板之所有表面区域。磁中性线放电等离子处理系统之磁场产生机构具有至少两线性电流棒安排在真空室外，与在真空室内之处理物体之予以处理之表面平行，以在相邻定位之线性电流棒间之真空室内，形成至少一线性磁中性线。

2. 发明专利

TWI236865B 磁中性線放電電漿處理系統 MAGNETIC NEUTRAL LINE DISCHARGE PLASMA PROCESSING SYSTEM 失效
简体标题：磁中性线放电等离子处理系统 MAGNETIC NEUTRAL LINE DISCHARGE PLASMA PROCESSING SYSTEM
公开(公告)号：TWI236865B
公开(公告)日：2005-07-21
申请号：TW092115747
申请日：2003-06-10
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：內田岱二郎 UCHIDA, TAIJIRO
IPC分类号： H05H , C23C
CPC分类号： H01J37/32082 , H01J37/32623 , H01J37/3266
摘要：本發明提供一磁中性線放電電漿處理系統，其可以同時施加多數線性磁中性線放電電漿，以均質均勻地處理在一大矩形基板之所有表面區域。磁中性線放電電漿處理系統之磁場產生機構具有至少兩線性電流棒安排在真空室外，與在真空室內之處理物體之予以處理之表面平行，以在相鄰定位之線性電流棒間之真空室內，形成至少一線性磁中性線。
简体摘要：本发明提供一磁中性线放电等离子处理系统，其可以同时施加多数线性磁中性线放电等离子，以均质均匀地处理在一大矩形基板之所有表面区域。磁中性线放电等离子处理系统之磁场产生机构具有至少两线性电流棒安排在真空室外，与在真空室内之处理物体之予以处理之表面平行，以在相邻定位之线性电流棒间之真空室内，形成至少一线性磁中性线。

3. 发明专利

TWI270939B 放電電漿處理系統 DISCHARGE PLASMA PROCESSING SYSTEM 失效
简体标题：放电等离子处理系统 DISCHARGE PLASMA PROCESSING SYSTEM
公开(公告)号：TWI270939B
公开(公告)日：2007-01-11
申请号：TW092115746
申请日：2003-06-10
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：內田岱二郎 UCHIDA, TAIJIRO , 國部利壽 KUNIBE, TOSHIJYU
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01J37/32082 , H01J37/32623 , H01J37/3266
摘要：揭示一種放電電漿處理系統，能夠不再需要在真空室內使用一絕緣體壁，而也可以改用不鏽鋼等金屬，且相對於欲產生之低壓、低溫及高密度電漿之尺寸與位置，仍然可以維持住時間/空間之可控制性。因此，系統的成本會顯著降低。因此，可以增進並擴大放電電漿系統的應用範圍。本發明的放電電漿處理系統包含一磁場產生機構，用以產生一磁性中和線，該磁性中和線是藉由在真空室內一連串連續存在的零磁場位置所形成的，且能夠對應出欲處理物體的形狀與尺寸；且包含一電場產生機構，用以藉由以一傾斜角度施加射頻電場至該磁場產生機構於真空室內所產生的磁性中和線，以便在磁性中和線內所包含的空間中產生出放電電漿，該角度也可以是直角。
简体摘要：揭示一种放电等离子处理系统，能够不再需要在真空室内使用一绝缘体壁，而也可以改用不锈钢等金属，且相对于欲产生之低压、低温及高密度等离子之尺寸与位置，仍然可以维持住时间/空间之可控制性。因此，系统的成本会显着降低。因此，可以增进并扩大放电等离子系统的应用范围。本发明的放电等离子处理系统包含一磁场产生机构，用以产生一磁性中和线，该磁性中和线是借由在真空室内一连串连续存在的零磁场位置所形成的，且能够对应出欲处理物体的形状与尺寸；且包含一电场产生机构，用以借由以一倾斜角度施加射频电场至该磁场产生机构于真空室内所产生的磁性中和线，以便在磁性中和线内所包含的空间中产生出放电等离子，该角度也可以是直角。

4. 发明专利

TW200400556A 放電電漿處理系統 DISCHARGE PLASMA PROCESSING SYSTEM 失效
简体标题：放电等离子处理系统 DISCHARGE PLASMA PROCESSING SYSTEM
公开(公告)号：TW200400556A
公开(公告)日：2004-01-01
申请号：TW092115746
申请日：2003-06-10
申请人：愛發科股份有限公司 ULVAC, INC.
发明人：內田岱二郎 UCHIDA, TAIJIRO , 國部利壽 KUNIBE, TOSHIJYU
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01J37/32082 , H01J37/32623 , H01J37/3266
摘要：揭示一種放電電漿處理系統，能夠不再需要在真空室內使用一絕緣體壁，而也可以改用不鏽鋼等金屬，且相對於欲產生之低壓、低溫及高密度電漿之尺寸與位置，仍然可以維持住時間／空間之可控制性。因此，系統的成本會顯著降低。因此，可以增進並擴大放電電漿系統的應用範圍。本發明的放電電漿處理系統包含一磁場產生機構，用以產生一磁性中和線，該磁性中和線是藉由在真空室內一連串連續存在的零磁場位置所形成的，且能夠對應出欲處理物體的形狀與尺寸；且包含一電場產生機構，用以藉由以一傾斜角度施加射頻電場至該磁場產生機構於真空室內所產生的磁性中和線，以便在磁性中和線內所包含的空間中產生出放電電漿，該角度也可以是直角。
简体摘要：揭示一种放电等离子处理系统，能够不再需要在真空室内使用一绝缘体壁，而也可以改用不锈钢等金属，且相对于欲产生之低压、低温及高密度等离子之尺寸与位置，仍然可以维持住时间／空间之可控制性。因此，系统的成本会显着降低。因此，可以增进并扩大放电等离子系统的应用范围。本发明的放电等离子处理系统包含一磁场产生机构，用以产生一磁性中和线，该磁性中和线是借由在真空室内一连串连续存在的零磁场位置所形成的，且能够对应出欲处理物体的形状与尺寸；且包含一电场产生机构，用以借由以一倾斜角度施加射频电场至该磁场产生机构于真空室内所产生的磁性中和线，以便在磁性中和线内所包含的空间中产生出放电等离子，该角度也可以是直角。

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