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1. 发明专利

TW201334982A 噴墨塗布裝置及噴墨塗布方法审中-公开
简体标题：喷墨涂布设备及喷墨涂布方法
公开(公告)号：TW201334982A
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW101141294
申请日：2012-11-07
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC. , 住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：井口真介 , IGUCHI, SHINSUKE , 池本定信 , IKEMOTO, SADANOBU , 雨宮聰 , AMAMIYA, SATOSHI
IPC分类号： B41J2/07 , B41J2/135
CPC分类号： H05B33/10 , H01L51/0005 , H01L51/56
摘要：本發明之課題在於抑制塗布在基板上的印墨之乾燥斑痕。本發明解決手段之一形態之噴墨塗布裝置具備有具有第1噴頭群12A與第2噴頭群12B的噴墨頭模組12。第1噴頭群12A係當將基板S之表面全區域劃分為沿著前述X軸方向排列之複數列區域R1~R6時，使印墨的液滴塗布於指定的第1區域群(R1、R3、R5)。第2噴頭群12B係配置於對第1噴頭群12A於Y軸方向離開指定距離(H)之位置，並且使印墨的液滴塗布於上述複數列的區域中之剩餘的第2區域群(R2、R4、R6)。此時，係將支持基板S的平台11之移動控制為使得出自前述第1噴頭群12A的液滴噴抵前述基板S上時開始至出自第2噴頭群12B的液滴噴抵基板上為止的時間在指定時間以內。
简体摘要：本发明之课题在于抑制涂布在基板上的印墨之干燥斑痕。本发明解决手段之一形态之喷墨涂布设备具备有具有第1喷头群12A与第2喷头群12B的喷墨头模块12。第1喷头群12A系当将基板S之表面全区域划分为沿着前述X轴方向排列之复数列区域R1~R6时，使印墨的液滴涂布于指定的第1区域群(R1、R3、R5)。第2喷头群12B系配置于对第1喷头群12A于Y轴方向离开指定距离(H)之位置，并且使印墨的液滴涂布于上述复数列的区域中之剩余的第2区域群(R2、R4、R6)。此时，系将支持基板S的平台11之移动控制为使得出自前述第1喷头群12A的液滴喷抵前述基板S上时开始至出自第2喷头群12B的液滴喷抵基板上为止的时间在指定时间以内。

2. 发明专利

TW201332788A 噴墨裝置及液滴測定方法审中-公开
简体标题：喷墨设备及液滴测定方法
公开(公告)号：TW201332788A
公开(公告)日：2013-08-16
申请号：TW101141295
申请日：2012-11-07
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC. , 住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：井口真介 , IGUCHI, SHINSUKE , 馬場惠 , BABA, KEI , 西新貴人 , NISHIARA, TAKAHITO , 汲田健太郎 , KUMITA, KENTAROU , 池本定信 , IKEMOTO, SADANOBU , 雨宮聰 , AMAMIYA, SATOSHI
IPC分类号： B41J2/12 , B41J2/07 , H01L27/32
CPC分类号： B41J2/2142
摘要：本發明之課題在於提供一種可高精確度地測定印墨的液滴量的噴墨裝置及液滴測定方法。本發明解決手段之一實施形態的噴墨裝置1具有攝像單元20。攝像單元20具有光源27、攝像機26、機體25、與發光控制部29。光源27用來對自複數的噴嘴所吐出的各個印墨液滴D照射照明光L。攝像機26用來取得以照明光L照明的液滴D的圖像。機體25係構成為支持光源27及攝像機26，並可沿著噴嘴的排列方向移動。發光控制部29係構成為控制照明光L的光量，以使進入攝像機26的光量於每次各個液滴的攝影時為固定。控制器15係依據基於攝像機26的輸出來測定液滴D的體積，並基於所得之結果來控制壓電驅動部V。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种可高精确度地测定印墨的液滴量的喷墨设备及液滴测定方法。本发明解决手段之一实施形态的喷墨设备1具有摄像单元20。摄像单元20具有光源27、摄像机26、机体25、与发光控制部29。光源27用来对自复数的喷嘴所吐出的各个印墨液滴D照射照明光L。摄像机26用来取得以照明光L照明的液滴D的图像。机体25系构成为支持光源27及摄像机26，并可沿着喷嘴的排列方向移动。发光控制部29系构成为控制照明光L的光量，以使进入摄像机26的光量于每次各个液滴的摄影时为固定。控制器15系依据基于摄像机26的输出来测定液滴D的体积，并基于所得之结果来控制压电驱动部V。

3. 发明专利

TWI511862B 製造有機電子或光電子裝置之方法有权
简体标题：制造有机电子或光电子设备之方法
公开(公告)号：TWI511862B
公开(公告)日：2015-12-11
申请号：TW097119870
申请日：2008-05-29
申请人：新加坡科技研究局 , AGENCY FOR SCIENCE, TECHNOLOGY AND RESEARCH , 住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：劉鳳儀 , LOW, HONG YEE , 莊秀菱 , CHONG, SIEW LING KAREN , 山本恭子 , YAMAMOTO, KYOKO , 雨宮聰 , AMAMIYA, SATOSHI , 都蒙德傑瑞特 , DUMOND, JARRETT
IPC分类号： B29C59/00 , H01L51/00
CPC分类号： H01L27/3246 , H01L27/3283 , H01L51/0005

4. 发明专利

TWI455642B 有機電激發光元件及其製造方法有权
简体标题：有机电激发光组件及其制造方法
公开(公告)号：TWI455642B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW097129064
申请日：2008-07-31
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：雨宮聰 , AMAMIYA, SATOSHI , 松江照行 , MATSUE, TERUYUKI , 小野善伸 , ONO, YOSHINOBU
IPC分类号： H05B33/12 , H05B33/22 , H05B33/10
CPC分类号： H01L27/3246 , H01L27/3283 , H01L51/0005 , H01L51/0012 , H01L51/50 , H01L51/5004 , H01L51/56 , H01L2251/5392

5. 发明专利

TWI495388B 發光裝置及其製造方法有权
简体标题：发光设备及其制造方法
公开(公告)号：TWI495388B
公开(公告)日：2015-08-01
申请号：TW098140496
申请日：2009-11-27
申请人：住友化學股份有限公司 , SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
发明人：栗原直 , KURIHARA, TAKASHI , 西岡幸也 , NISHIOKA, YUKIYA , 梶谷優 , KAJITANI, MASARU , 藤澤拓司 , FUJISAWA, TAKUJI , 赤津光俊 , AKATSU, MITSUTOSHI , 雨宮聰 , AMAMIYA, SATOSHI
IPC分类号： H05B33/02 , H05B33/10
CPC分类号： H01L27/3246 , H01L27/3283 , H01L51/0004 , H01L51/0005 , H05B33/10 , H05B33/22

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