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1. 发明专利

TWI479670B 成膜裝置、成膜裝置之維護方法有权
简体标题：成膜设备、成膜设备之维护方法
公开(公告)号：TWI479670B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW100122312
申请日：2011-06-24
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：林卓郎 , HAYASHI, TAKURO , 曾我部浩二 , SOGABE, KOUJI , 松本浩一 , MATSUMOTO, KOICHI , 橋本征典 , HASHIMOTO, MASANORI , 中村久三 , NAKAMURA, KYUZO , 萩原宗源 , HAGIWARA, MUNEMOTO , 內田寬人 , UCHIDA, HIROTO , 森勝彥 , MORI, KATSUHIKO , 清水康男 , SHIMIZU, YASUO , 坂元盛昭 , SAKAMOTO, MORIAKI
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/042 , H01L21/205
CPC分类号： B08B7/00 , C23C16/24 , C23C16/4405 , C23C16/4412 , C23C16/50 , C23C16/545 , H01L31/1876 , Y02E10/50 , Y02P70/521

2. 发明专利

TW201108448A 光電轉換裝置之製造系統及光電轉換裝置之製造方法 METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE 审中-公开
简体标题：光电转换设备之制造系统及光电转换设备之制造方法 METHOD AND SYSTEM FOR MANUFACTURING PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE
公开(公告)号：TW201108448A
公开(公告)日：2011-03-01
申请号：TW099110593
申请日：2010-04-06
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：野口恭史 , 小形英之 , 森勝彥 , 清水康男 , 內田寬人 , 淺利伸
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L31/1876 , H01L21/67173 , H01L21/67207 , H01L21/6776 , H01L31/076 , H01L31/18 , H01L31/1824 , H01L31/202 , H01L31/206 , Y02E10/545 , Y02E10/548 , Y02P70/521
摘要：本發明之光電轉換裝置之製造系統係在形成於基板上之透明導電膜上依序積層有p型半導體層、i型半導體層、及n型半導體層之光電轉換裝置之製造系統,該製造系統包含:I層成膜反應室,其至少包含沿搬送上述基板之搬送方向依序配置之第一成膜部、第二成膜部、及第三成膜部,且使上述i型半導體層成膜;及複數個門閥,其以上述搬送方向上之上述第二成膜部之長度較上述第一成膜部及上述第三成膜部之長度更長之方式,分割上述第一成膜部、上述第二成膜部、及上述第三成膜部。
简体摘要：本发明之光电转换设备之制造系统系在形成于基板上之透明导电膜上依序积层有p型半导体层、i型半导体层、及n型半导体层之光电转换设备之制造系统,该制造系统包含:I层成膜反应室,其至少包含沿搬送上述基板之搬送方向依序配置之第一成膜部、第二成膜部、及第三成膜部,且使上述i型半导体层成膜;及复数个门阀,其以上述搬送方向上之上述第二成膜部之长度较上述第一成膜部及上述第三成膜部之长度更长之方式,分割上述第一成膜部、上述第二成膜部、及上述第三成膜部。

3. 发明专利

TW201005118A 成膜裝置 APPARATUS FOR FORMING FILM 审中-公开
简体标题：成膜设备 APPARATUS FOR FORMING FILM
公开(公告)号：TW201005118A
公开(公告)日：2010-02-01
申请号：TW098118869
申请日：2009-06-05
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：清水康男 , 小形英之 , 松本浩一 , 野口恭史 , 若森讓治 , 岡山智彥 , 森岡和 , 杉山哲康 , 重田貴司 , 栗原廣行
IPC分类号： C23C , H01L
CPC分类号： C23C16/4587 , C23C16/24 , C23C16/54 , H01L21/67161 , H01L21/67173 , H01L21/67712 , H01L21/67736 , H01L21/67754 , H01L31/076 , H01L31/1804 , Y02E10/547 , Y02E10/548 , Y02P70/521
摘要：本發明係一種成膜裝置，包括：成膜室，其係在真空中使所欲之膜成膜於基板；裝入取出室，其係經由第一開閉部固定於前述成膜室，可將內部減壓以成為真空氛圍；第二開閉部，其係設於與前述裝入取出室之設有前述第一開閉部之面相反之面；及載體，其係以前述基板之成膜面與重力方向成為大略並行之方式保持前述基板；前述載體或前述基板係通過前述第二開閉部而搬入、搬出於前述裝入取出室，在前述裝入取出室並列配置複數個前述載體，在前述裝入取出室與前述成膜室之間並列搬入、搬出前述複數個載體，在前述成膜室，於保持於前述複數個載體之複數個前述基板同時成膜。
简体摘要：本发明系一种成膜设备，包括：成膜室，其系在真空中使所欲之膜成膜于基板；装入取出室，其系经由第一开闭部固定于前述成膜室，可将内部减压以成为真空氛围；第二开闭部，其系设于与前述装入取出室之设有前述第一开闭部之面相反之面；及载体，其系以前述基板之成膜面与重力方向成为大略并行之方式保持前述基板；前述载体或前述基板系通过前述第二开闭部而搬入、搬出于前述装入取出室，在前述装入取出室并列配置复数个前述载体，在前述装入取出室与前述成膜室之间并列搬入、搬出前述复数个载体，在前述成膜室，于保持于前述复数个载体之复数个前述基板同时成膜。

4. 发明专利

TW201003945A 薄膜太陽能電池製造裝置 THIN FILM SOLAR CELL MANUFACTURING APPARATUS 审中-公开
简体标题：薄膜太阳能电池制造设备 THIN FILM SOLAR CELL MANUFACTURING APPARATUS
公开(公告)号：TW201003945A
公开(公告)日：2010-01-16
申请号：TW098118607
申请日：2009-06-04
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：清水康男 , 小形英之 , 松本浩一 , 野口恭史 , 若森讓治 , 岡山智彥 , 森岡和 , 杉山哲康 , 重田貴司 , 栗原廣行 , 橋本征典 , 若松貞次
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67781 , C23C16/24 , C23C16/45565 , C23C16/4587 , H01J37/32532 , H01L21/67161 , H01L21/67167 , H01L21/67173 , H01L21/67754 , H01L31/202 , H01L31/206 , Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要：本發明之薄膜太陽能電池製造裝置包含：成膜室，其係於基板之成膜面，藉由CVD法而形成膜；電極單元，其係包含有：兩側配置被施加電壓之陰極之陰極單元，及與前述各陰極分別相對向且設置隔開距離而配置之1對陽極；遮罩，其係覆蓋前述基板之周緣部；及排氣導管，其係設置於前述陰極單元之周圍；於前述陰極單元與設置於前述陽極側之前述基板之間形成有成膜空間；於前述遮罩與前述陰極單元之間形成有排氣通路；前述排氣導管與前述成膜空間係介隔前述排氣通路而連接；導入於前述成膜空間之成膜氣體係通過前述排氣通路而從前述排氣導管排氣。
简体摘要：本发明之薄膜太阳能电池制造设备包含：成膜室，其系于基板之成膜面，借由CVD法而形成膜；电极单元，其系包含有：两侧配置被施加电压之阴极之阴极单元，及与前述各阴极分别相对向且设置隔开距离而配置之1对阳极；遮罩，其系覆盖前述基板之周缘部；及排气导管，其系设置于前述阴极单元之周围；于前述阴极单元与设置于前述阳极侧之前述基板之间形成有成膜空间；于前述遮罩与前述阴极单元之间形成有排气通路；前述排气导管与前述成膜空间系介隔前述排气通路而连接；导入于前述成膜空间之成膜气体系通过前述排气通路而从前述排气导管排气。

6. 发明专利

TWI413267B 光電轉換裝置之製造方法、光電轉換裝置、光電轉換裝置之製造系統、及光電轉換裝置製造系統之使用方法有权
简体标题：光电转换设备之制造方法、光电转换设备、光电转换设备之制造系统、及光电转换设备制造系统之使用方法
公开(公告)号：TWI413267B
公开(公告)日：2013-10-21
申请号：TW099102522
申请日：2010-01-28
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：內田寬人 , UCHIDA, HIROTO , 藤長徹志 , FUJINAGA, TETSUSHI , 若井雅文 , WAKAI, MASAFUMI , 小林忠正 , KOBAYASHI, TADAMASA , 植喜信 , UE, YOSHINOBU , 中村久三 , NAKAMURA, KYUZO , 淺利伸 , ASARI, SHIN , 齋藤一也 , SAITO, KAZUYA , 松本浩一 , MATSUMOTO, KOICHI , 清水康男 , SHIMIZU, YASUO , 森勝彥 , MORI, KATSUHIKO
IPC分类号： H01L31/075 , H01L31/18
CPC分类号： C23C16/54 , C23C16/24 , H01L31/076 , H01L31/1804 , H01L31/1824 , H01L31/202 , Y02E10/545 , Y02E10/547 , Y02E10/548 , Y02P70/521

7. 发明专利

TW201117265A 成膜裝置 APPARATUS FOR FORMING FILM 审中-公开
简体标题：成膜设备 APPARATUS FOR FORMING FILM
公开(公告)号：TW201117265A
公开(公告)日：2011-05-16
申请号：TW099125176
申请日：2010-07-29
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：清水康男 , 森勝彥 , 松本浩一 , 岡山智彥 , 森岡和
IPC分类号： H01L , C23C
CPC分类号： C23C16/509 , H01J37/3244 , H01J37/32724
摘要：本發明之成膜裝置包括陰極單元、及與上述陰極單元隔開而對向配置之陽極。上述陰極單元包括：電極板，其施加有電壓；溫度調整流體用流路，其設置於上述電極板上且使溫度調整流體循環；簇射板，其接觸於上述電極板，且具有向基板之被成膜面供給製程氣體之複數個孔；熱交換用板，其設置於上述電極板與上述簇射板之間，且接觸於上述電極板及上述簇射板；及氣體流路，其設置於上述熱交換用板，向上述熱交換用板導入上述製程氣體且將導入至上述熱交換用板之製程氣體導引至上述簇射板之上述複數個孔。
简体摘要：本发明之成膜设备包括阴极单元、及与上述阴极单元隔开而对向配置之阳极。上述阴极单元包括：电极板，其施加有电压；温度调整流体用流路，其设置于上述电极板上且使温度调整流体循环；簇射板，其接触于上述电极板，且具有向基板之被成膜面供给制程气体之复数个孔；热交换用板，其设置于上述电极板与上述簇射板之间，且接触于上述电极板及上述簇射板；及气体流路，其设置于上述热交换用板，向上述热交换用板导入上述制程气体且将导入至上述热交换用板之制程气体导引至上述簇射板之上述复数个孔。

8. 发明专利

TW201117264A 成膜裝置 APPARATUS FOR FORMING FILM 审中-公开
简体标题：成膜设备 APPARATUS FOR FORMING FILM
公开(公告)号：TW201117264A
公开(公告)日：2011-05-16
申请号：TW099125173
申请日：2010-07-29
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：清水康男 , 森勝彥 , 松本浩一 , 岡山智彥 , 森岡和 , 播磨幸一 , 岡島邦彥
IPC分类号： H01L , C23C
CPC分类号： C23C16/4587
摘要：本發明之成膜裝置包括：成膜室，其於重力方向上具有上部，且以基板之被成膜面與重力方向平行之方式配置上述基板；電極單元，其可裝卸地設置於上述成膜室內，且具有施加有電壓之平板狀之陰極、及與上述陰極隔開而對向配置之陽極；及裝卸用軌道，其設置於上述成膜室之上述上部，沿自上述成膜室引出上述電極單元之方向而設置，對上述電極單元進行導引。
简体摘要：本发明之成膜设备包括：成膜室，其于重力方向上具有上部，且以基板之被成膜面与重力方向平行之方式配置上述基板；电极单元，其可装卸地设置于上述成膜室内，且具有施加有电压之平板状之阴极、及与上述阴极隔开而对向配置之阳极；及装卸用轨道，其设置于上述成膜室之上述上部，沿自上述成膜室引出上述电极单元之方向而设置，对上述电极单元进行导引。

9. 发明专利

TWI473144B 成膜裝置有权
简体标题：成膜设备
公开(公告)号：TWI473144B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：TW099125176
申请日：2010-07-29
申请人：愛發科股份有限公司 , ULVAC, INC.
发明人：清水康男 , SHIMIZU, YASUO , 森勝彥 , MORI, KATSUHIKO , 松本浩一 , MATSUMOTO, KOICHI , 岡山智彥 , OKAYAMA, SATOHIRO , 森岡和 , MORIOKA, YAWARA
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/50 , H01L31/04 , H01L31/18
CPC分类号： C23C16/509 , H01J37/3244 , H01J37/32724

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