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    • 1. 外观设计
    • 半導體生產設備真空密封環
    • 半导体生产设备真空密封环
    • TW270879S
    • 1996-02-11
    • TW083309761
    • 1994-11-26
    • 德拉瓦脫衛得格林公司
    • 詹姆斯W.柏恩士
    • 本創作係有關於一種「半導體生產設備真空密封環」之新式樣設計。
      如圖所示者:本創作主體外觀係呈一O形環設計,由截面圖可見本創作之本體上下緣分別往上下方微凸,兩側則呈平直狀。整體造形極具美觀大方之特質且線條相當簡潔有力。
      上述說明僅係輔助瞭解本創作而非用以限制其內容;理應明瞭,新式樣係以其整體形狀、花紋、色彩指定之,
      亦即以申請專利範圍所界定者為準。
    • 本创作系有关于一种“半导体生产设备真空密封环”之新式样设计。 如图所示者:本创作主体外观系呈一O形环设计,由截面图可见本创作之本体上下缘分别往上下方微凸,两侧则呈平直状。整体造形极具美观大方之特质且线条相当简洁有力。 上述说明仅系辅助了解本创作而非用以限制其内容;理应明了,新式样系以其整体形状、花纹、色彩指定之, 亦即以申请专利范围所界定者为准。