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    • 1. 发明专利
    • 聚醯亞胺薄膜之製造方法及聚醯亞胺薄膜
    • 聚酰亚胺薄膜之制造方法及聚酰亚胺薄膜
    • TWI282802B
    • 2007-06-21
    • TW092121519
    • 2003-08-06
    • 帝人股份有限公司 TEIJIN LIMITED
    • 丹下真也森真一朗永良一 NAGASHIMA, RYOHICHI中村勤 NAKAMURA, TSUTOMU石渡豊明佐透
    • C08JC08G
    • C08J5/18B29C41/28B29C55/12B29D7/01B29K2079/08C08G73/1003C08J2379/08C08L79/08H05K1/0346Y02P20/149
    • 本發明係有關聚醯亞胺薄膜之製造方法,係(1)調製由對-苯二胺成分為40莫爾%以上100莫爾%以下之芳族二胺成分,與均苯四酸成分超過80莫爾%之四羧酸成分以及溶劑所實質組成之聚醯胺酸溶液;(2)將再於上述步驟(1)所調製之聚醯胺酸溶液中另添加乙酸酐作為脫水反應劑及有機胺作為脫水反應觸媒而成之聚醯胺酸組成物,流延於於支持體上,對其施予加溫‧熱處理以進行脫水反應,而形成至少一部份之聚醯胺酸轉變成聚醯亞胺或聚異醯亞胺之膠膜;(3)自支持體分離所得之膠膜,視需要經洗淨後進行二軸延伸;(4)將所得之二軸延伸膠膜付諸熱處理使形成二軸定向聚醯亞胺薄膜之製造方法,其特徵為該聚醯亞胺薄膜之製造方法中係使步驟(2)之反應大氣中之水濃度成為1至2000ppm者。
    • 本发明系有关聚酰亚胺薄膜之制造方法,系(1)调制由对-苯二胺成分为40莫尔%以上100莫尔%以下之芳族二胺成分,与均苯四酸成分超过80莫尔%之四羧酸成分以及溶剂所实质组成之聚酰胺酸溶液;(2)将再于上述步骤(1)所调制之聚酰胺酸溶液中另添加乙酸酐作为脱水反应剂及有机胺作为脱水反应触媒而成之聚酰胺酸组成物,流延于于支持体上,对其施予加温‧热处理以进行脱水反应,而形成至少一部份之聚酰胺酸转变成聚酰亚胺或聚异酰亚胺之胶膜;(3)自支持体分离所得之胶膜,视需要经洗净后进行二轴延伸;(4)将所得之二轴延伸胶膜付诸热处理使形成二轴定向聚酰亚胺薄膜之制造方法,其特征为该聚酰亚胺薄膜之制造方法中系使步骤(2)之反应大气中之水浓度成为1至2000ppm者。
    • 6. 发明专利
    • 聚醯亞胺薄膜之製造方法
    • 聚酰亚胺薄膜之制造方法
    • TW200412357A
    • 2004-07-16
    • TW092121519
    • 2003-08-06
    • 帝人股份有限公司 TEIJIN LIMITED
    • 丹下真也森真一朗永良一中村勤 NAKAMURA, TSUTOMU石渡豊明佐透
    • C08JC08G
    • C08J5/18B29C41/28B29C55/12B29D7/01B29K2079/08C08G73/1003C08J2379/08C08L79/08H05K1/0346Y02P20/149
    • 本發明係有關聚醯亞胺薄膜之製造方法,係(1)調製由對-苯二胺成分為40莫爾%以上100莫爾%以下之芳族二胺成分,與均苯四酸成分超過80莫爾%之四羧酸成分以及溶劑所實質組成之聚醯胺酸溶液;(2)將再於上述步驟(1)所調製之聚醯胺酸溶液中另添加乙酸酐作為脫水反應劑及有機胺作為脫水反應觸媒而成之聚醯胺酸組成物,流延於於支持體上,對其施予加溫.熱處理以進行脫水反應,而形成至少一部份之聚醯胺酸轉變成聚醯亞胺或聚異醯亞胺之膠膜;(3)自支持體分離所得之膠膜,視需要經洗淨後進行二軸延伸;(4)將所得之二軸延伸膠膜付諸熱處理使形成二軸定向聚醯亞胺薄膜之製造方法,其特徵為該聚醯亞胺薄膜之製造方法中係使步驟(2)之反應大氣中之水濃度成為1至2000ppm者。
    • 本发明系有关聚酰亚胺薄膜之制造方法,系(1)调制由对-苯二胺成分为40莫尔%以上100莫尔%以下之芳族二胺成分,与均苯四酸成分超过80莫尔%之四羧酸成分以及溶剂所实质组成之聚酰胺酸溶液;(2)将再于上述步骤(1)所调制之聚酰胺酸溶液中另添加乙酸酐作为脱水反应剂及有机胺作为脱水反应触媒而成之聚酰胺酸组成物,流延于于支持体上,对其施予加温.热处理以进行脱水反应,而形成至少一部份之聚酰胺酸转变成聚酰亚胺或聚异酰亚胺之胶膜;(3)自支持体分离所得之胶膜,视需要经洗净后进行二轴延伸;(4)将所得之二轴延伸胶膜付诸热处理使形成二轴定向聚酰亚胺薄膜之制造方法,其特征为该聚酰亚胺薄膜之制造方法中系使步骤(2)之反应大气中之水浓度成为1至2000ppm者。