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1. 发明专利

TWI578604B 交叉指形電極結構有权
简体标题：交叉指形电极结构
公开(公告)号：TWI578604B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW100146507
申请日：2011-12-15
申请人：帕洛阿爾托研究中心公司 , PALO ALTO RESEARCH CENTER INCORPORATED
发明人：佛克大衛K , FORK, DAVID K. , 里陶卡爾A , LITTAU, KARL A.
IPC分类号： H01M4/72
CPC分类号： H01B1/00 , B29C47/0019 , B29C47/065 , B29C47/705 , B29C47/707 , H01G11/26 , H01G11/86 , H01M4/02 , H01M4/0411 , H01M4/8626 , H01M4/8864 , H01M12/06 , Y02E60/13 , Y02E60/50

2. 发明专利

TWI580552B 指形交叉指形物之共同擠出有权
简体标题：指形交叉指形物之共同挤出
公开(公告)号：TWI580552B
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW100146510
申请日：2011-12-15
申请人：帕洛阿爾托研究中心公司 , PALO ALTO RESEARCH CENTER INCORPORATED
发明人：佛克大衛K , FORK, DAVID K. , 里陶卡爾 , LITTAU, KARL
IPC分类号： B29C47/34 , B29C47/10
CPC分类号： B29C47/0064 , B01F5/0604 , B29C47/0019 , B29C47/026 , B29C47/061 , B29C47/062 , B29C47/065 , B29C47/707 , B29L2009/00 , B29L2031/3468 , B29L2031/7146 , B29L2031/737 , B81C99/0015 , Y10S425/049

3. 发明专利

TW200941752A 形成光伏打電池之多層電極結構之方法 METHODS FOR FORMING MULTIPLE-LAYER ELECTRODE STRUCTURES FOR SILICON PHOTOVOLTAIC CELLS 审中-公开
简体标题：形成光伏打电池之多层电极结构之方法 METHODS FOR FORMING MULTIPLE-LAYER ELECTRODE STRUCTURES FOR SILICON PHOTOVOLTAIC CELLS
公开(公告)号：TW200941752A
公开(公告)日：2009-10-01
申请号：TW098109016
申请日：2009-03-20
申请人：帕洛阿爾托研究中心公司
发明人：徐包銘 , 里陶卡爾A , 佛克大衛K
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L31/022425 , H01L31/18 , Y02E10/50
摘要：本發明係關於形成光伏打電池之電極結構之方法，其中此光伏打電池包括一個其上具有保護層之半導體基板，包括提供經由保護層穿到半導體基板的複數個接觸開口，將接觸金屬選擇性地鍍著在複數個接觸開口中以沈積接觸金屬，在沈積的接觸金屬上面沈積一種含金屬材料，並且燒製沈積的接觸金屬及沈積的含金屬材料。含金屬材料可包括含銀或銀合金的糊料和玻璃熔塊，並且是大體上不含或完全不含鉛。這種方法也可以利用光活化保護層或是利用種子層來協助鍍著。
简体摘要：本发明系关于形成光伏打电池之电极结构之方法，其中此光伏打电池包括一个其上具有保护层之半导体基板，包括提供经由保护层穿到半导体基板的复数个接触开口，将接触金属选择性地镀着在复数个接触开口中以沉积接触金属，在沉积的接触金属上面沉积一种含金属材料，并且烧制沉积的接触金属及沉积的含金属材料。含金属材料可包括含银或银合金的煳料和玻璃熔块，并且是大体上不含或完全不含铅。这种方法也可以利用光活化保护层或是利用种子层来协助镀着。

4. 发明专利

TW201246678A 交叉指形電極結構 INTERDIGITATED ELECTRODE STRUCTURE 审中-公开
简体标题：交叉指形电极结构 INTERDIGITATED ELECTRODE STRUCTURE
公开(公告)号：TW201246678A
公开(公告)日：2012-11-16
申请号：TW100146507
申请日：2011-12-15
申请人：帕洛阿爾托研究中心公司
发明人：佛克大衛K , 里陶卡爾A
IPC分类号： H01M
CPC分类号： H01B1/00 , B29C47/0019 , B29C47/065 , B29C47/705 , B29C47/707 , H01G11/26 , H01G11/86 , H01M4/02 , H01M4/0411 , H01M4/8626 , H01M4/8864 , H01M12/06 , Y02E60/13 , Y02E60/50
摘要：一種電極結構,包括:含有至少兩種交叉指形材料之一層,第一材料係為電子導通材料而第二材料係離子導通材料,此等材料係以流體形式而以共同平面方式存在於一薄膜上,此交叉指形材料之至少其中之一係形成具有高寬比大於1之特徵。一種形成電極結構之方法,包含:朝第一方向將一電子導通材料及一離子導通材料合流合併成第一結合流;朝第二方向將此第一結合流分割以產生至少兩個分別的流動,每一分別的流動包含電子導通材料流及第二材料流;將該二分流合併為第二結合流;重複合併及分割流動以產生所欲之最後結合流;及將最後結合流作為交叉指形結構而以流體形式沈積在一基板上,使得材料之至少其中之一在結構中具有高寬比大於1之特徵。
简体摘要：一种电极结构,包括:含有至少两种交叉指形材料之一层,第一材料系为电子导通材料而第二材料系离子导通材料,此等材料系以流体形式而以共同平面方式存在于一薄膜上,此交叉指形材料之至少其中之一系形成具有高宽比大于1之特征。一种形成电极结构之方法,包含:朝第一方向将一电子导通材料及一离子导通材料合流合并成第一结合流;朝第二方向将此第一结合流分割以产生至少两个分别的流动,每一分别的流动包含电子导通材料流及第二材料流;将该二分流合并为第二结合流;重复合并及分割流动以产生所欲之最后结合流;及将最后结合流作为交叉指形结构而以流体形式沉积在一基板上,使得材料之至少其中之一在结构中具有高宽比大于1之特征。

5. 发明专利

TW201235192A 指形交叉指形物之共同擠出 INTERDIGITATED FINGER COEXTRUSION 审中-公开
简体标题：指形交叉指形物之共同挤出 INTERDIGITATED FINGER COEXTRUSION
公开(公告)号：TW201235192A
公开(公告)日：2012-09-01
申请号：TW100146510
申请日：2011-12-15
申请人：帕洛阿爾托研究中心公司
发明人：佛克大衛K , 里陶卡爾
IPC分类号： B29C
CPC分类号： B29C47/0064 , B01F5/0604 , B29C47/0019 , B29C47/026 , B29C47/061 , B29C47/062 , B29C47/065 , B29C47/707 , B29L2009/00 , B29L2031/3468 , B29L2031/7146 , B29L2031/737 , B81C99/0015 , Y10S425/049
摘要：一種共同擠出裝置具有：至少一第一流體入口，用於接收第一材料；至少一第二流體入口，用於接收第二材料；第一結合通道，配置成用來接收第一材料及第二材料，且結合第一材料及第二材料為朝第一方向流動的第一結合流；分割通道，配置成用來接收第一結合流，且將第一結合流分割為至少兩個朝向與第一方向至少局部垂直的第二方向流動之分割流動，其中每一分割流動包含第一及第二材料；第二結合通道，配置成用來接收分割流動，且將分割流動結合成朝第一方向流動之第二結合流；及至少一個出孔口，配置成用來使材料從裝置離開為單一流動。一種用於沈積包括指形交叉材料之結構的方法，包括：將至少兩個朝第一方向的材料之流動加以合併成第一結合流；將第一結合流朝第二方向分割以產生至少兩個分離的流動，其中第二方向係垂直於第一方向；及合併兩個分離的流動以成為第二結合流。
简体摘要：一种共同挤出设备具有：至少一第一流体入口，用于接收第一材料；至少一第二流体入口，用于接收第二材料；第一结合信道，配置成用来接收第一材料及第二材料，且结合第一材料及第二材料为朝第一方向流动的第一结合流；分割信道，配置成用来接收第一结合流，且将第一结合流分割为至少两个朝向与第一方向至少局部垂直的第二方向流动之分割流动，其中每一分割流动包含第一及第二材料；第二结合信道，配置成用来接收分割流动，且将分割流动结合成朝第一方向流动之第二结合流；及至少一个出孔口，配置成用来使材料从设备离开为单一流动。一种用于沉积包括指形交叉材料之结构的方法，包括：将至少两个朝第一方向的材料之流动加以合并成第一结合流；将第一结合流朝第二方向分割以产生至少两个分离的流动，其中第二方向系垂直于第一方向；及合并两个分离的流动以成为第二结合流。

6. 发明专利

TW201000215A 用於改良特徵定義之共擠壓印墨化學品 COEXTRUSION INK CHEMISTRY FOR IMPROVED FEATURE DEFINITION 审中-公开
简体标题：用于改良特征定义之共挤压印墨化学品 COEXTRUSION INK CHEMISTRY FOR IMPROVED FEATURE DEFINITION
公开(公告)号：TW201000215A
公开(公告)日：2010-01-01
申请号：TW098115266
申请日：2009-05-08
申请人：帕洛阿爾托研究中心公司
发明人：佛克大衛K , 饒朗吉特 , 本納法蘭克
IPC分类号： B05B , B05C
CPC分类号： H05K3/101 , C09D11/101 , C09D11/40 , H01L21/4867 , H05K1/097 , H05K3/1241 , H05K2201/09909 , H05K2203/0126 , Y10T428/26
摘要：一種共擠壓印墨組，其包含：實質上無降伏應力與高黏度之第一印墨；第二印墨或消耗性材料之一，第二印墨或消耗性材料之一實質上無降伏應力與高黏度；其中第一印墨與第二印墨或消耗性材料之一的局部混合造成在第一印墨與第二印墨或消耗性材料之一的界面處形成具有明確降伏應力或高黏度之材料。
简体摘要：一种共挤压印墨组，其包含：实质上无降伏应力与高黏度之第一印墨；第二印墨或消耗性材料之一，第二印墨或消耗性材料之一实质上无降伏应力与高黏度；其中第一印墨与第二印墨或消耗性材料之一的局部混合造成在第一印墨与第二印墨或消耗性材料之一的界面处形成具有明确降伏应力或高黏度之材料。

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