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热词
    • 1. 发明专利
    • 聚四氫 喃之製備
    • 聚四氢 喃之制备
    • TW335406B
    • 1998-07-01
    • TW086114671
    • 1997-10-07
    • 巴地斯顏料化工廠
    • 尤瑞奇姆勒卡斯坦艾勒克里斯多夫希格瓦特克勞斯–戴特普利茲柯法蘭克史坦洛夫菲雪雷納貝克
    • C08G
    • C08G65/20C08G18/4854
    • 本發明有關一種製備聚四氫喃、四氫喃與2-丁炔-1,4-二醇之共聚物、此等聚合物與C2-C20-一元羧酸之二酯或此等聚合物與C1-C10-一元羧酸之單酯之方法,係藉由在調聚體:水、1,4-丁二醇、2-丁炔-1,4-二醇、具有分子量為200至700道耳頓(Dalton)之聚四氫喃、C1-C10-一元羧酸或C2-C20-一元羧酸之酸酐或此等調聚體之混合物之一種存在下,於異相支撐之觸媒上,使四氫喃聚合而製備,該異相支撐之觸媒於氧化支撐材料上包括觸媒活化量之含氧鉬及/或鎢化合物,且該異相支撐之觸媒在將含氧鉬及/或鎢化合物之先質化合物塗覆於支撐材料先質上後,曾於500℃至1000℃燒,其中觸媒在被使用作為聚合觸媒之前,藉由使用還原劑處理而活化。
    • 本发明有关一种制备聚四氢喃、四氢喃与2-丁炔-1,4-二醇之共聚物、此等聚合物与C2-C20-一元羧酸之二酯或此等聚合物与C1-C10-一元羧酸之单酯之方法,系借由在调聚体:水、1,4-丁二醇、2-丁炔-1,4-二醇、具有分子量为200至700道耳顿(Dalton)之聚四氢喃、C1-C10-一元羧酸或C2-C20-一元羧酸之酸酐或此等调聚体之混合物之一种存在下,于异相支撑之触媒上,使四氢喃聚合而制备,该异相支撑之触媒于氧化支撑材料上包括触媒活化量之含氧钼及/或钨化合物,且该异相支撑之触媒在将含氧钼及/或钨化合物之先质化合物涂覆于支撑材料先质上后,曾于500℃至1000℃烧,其中触媒在被使用作为聚合触媒之前,借由使用还原剂处理而活化。
    • 2. 发明专利
    • 聚四氫 喃之改良製法
    • 聚四氢 喃之改良制法
    • TW346494B
    • 1998-12-01
    • TW086117782
    • 1997-11-26
    • 巴地斯顏料化工廠
    • 卡思登艾勒克里斯多夫席格瓦特克勞思–底特皮里茲柯亞瑞克米勒法蘭克史坦瑞納貝克羅夫費契
    • C08G
    • C08G65/2693B01J23/24C08G65/20
    • 一種由四氫喃聚合以製備聚四氫喃、四氫喃共聚物及此類聚合物之雙酯或單酯物質,係在至少一種調聚劑(telogen)及/或一種共單體存在下,於非均勻相載體觸媒上,將四氫喃聚合以製得。該非均勻相載體觸媒包含活性成份,該活性成份含催化活性量之至少一種在氧化性載體物質上之含氧鎢及/或鉬化合物,且在將活性成份之前驅體化合物塗敷在載體物質前驅體之後,在500-1000℃下燒,燒時使用含有促進劑之觸媒,該促進劑含至少一種週期表中第2、3(包含鑭系稀土元素)、5、6、7、8、8或14族中之元素或其化合物。
    • 一种由四氢喃聚合以制备聚四氢喃、四氢喃共聚物及此类聚合物之双酯或单酯物质,系在至少一种调聚剂(telogen)及/或一种共单体存在下,于非均匀相载体触媒上,将四氢喃聚合以制得。该非均匀相载体触媒包含活性成份,该活性成份含催化活性量之至少一种在氧化性载体物质上之含氧钨及/或钼化合物,且在将活性成份之前驱体化合物涂敷在载体物质前驱体之后,在500-1000℃下烧,烧时使用含有促进剂之触媒,该促进剂含至少一种周期表中第2、3(包含镧系稀土元素)、5、6、7、8、8或14族中之元素或其化合物。