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    • 2. 发明专利
    • 氧化鎢薄膜氫氣感測器
    • 氧化钨薄膜氢气传感器
    • TW201805482A
    • 2018-02-16
    • TW105124324
    • 2016-08-01
    • 崑山科技大學
    • 林天財黃文昌許國浩
    • C23C28/00C23C14/24C23C14/08C23C14/35C23C14/14G01N27/12
    • 本發明係在提供一種氧化鎢薄膜氫氣感測器,主要係設有矽基板經清洗後固定置入真空腔體;氧化鎢(WO3)薄膜,係利用熱蒸發將蒸鍍靶材蒸鍍於該矽基板,其中,該蒸鍍靶材為氧化鎢(WO3)粉末,首先透過加熱使氧化鎢(WO3)粉末所含水氣先揮發掉,再加熱使氧化鎢(WO3)粉末完全昇華蒸鍍於該矽基板形成氧化鎢(WO3)薄膜;白金(Pt)電極,係利用射頻(RF)磁控濺鍍沉積濺鍍靶材於該氧化鎢(WO3)薄膜,其中,該濺鍍靶材為白金(Pt)靶材;如此,感測氫氣(H2)時,可提供最佳之感測能力。
    • 本发明系在提供一种氧化钨薄膜氢气传感器,主要系设有硅基板经清洗后固定置入真空腔体;氧化钨(WO3)薄膜,系利用热蒸发将蒸镀靶材蒸镀于该硅基板,其中,该蒸镀靶材为氧化钨(WO3)粉末,首先透过加热使氧化钨(WO3)粉末所含水汽先挥发掉,再加热使氧化钨(WO3)粉末完全升华蒸镀于该硅基板形成氧化钨(WO3)薄膜;白金(Pt)电极,系利用射频(RF)磁控溅镀沉积溅镀靶材于该氧化钨(WO3)薄膜,其中,该溅镀靶材为白金(Pt)靶材;如此,传感氢气(H2)时,可提供最佳之传感能力。