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1. 发明专利

TW201249974A 研磨品之製造方法审中-公开
简体标题：研磨品之制造方法
公开(公告)号：TW201249974A
公开(公告)日：2012-12-16
申请号：TW101112895
申请日：2012-04-11
申请人：小原股份有限公司
发明人：山下豐 , 八木俊剛 , 後藤直雪
IPC分类号： C09K , B24B
CPC分类号： G11B5/8404
摘要：本發明提供一種藉由實質上未使用氧化鈰作為研磨液中之游離研磨粒，而可獲得與氧化鈰同等之研磨效果之研磨步驟，以低成本將用於資訊記錄媒體用基板等各種基板或光學零件的玻璃、結晶化玻璃、晶體等脆性無機材料，或者包含該等之材料且下一代之硬碟用基板所要求之機械強度較高之材料加工成高精度之表面性狀之製造方法。本發明之研磨品之製造方法之特徵在於：其係包括使用研磨液及研磨墊對無機材料進行研磨之研磨步驟者，且上述研磨液至少含有包括含有Zr及Si之化合物之研磨粒，上述研磨液中之研磨粒濃度為40 wt%以下之範圍。
简体摘要：本发明提供一种借由实质上未使用氧化铈作为研磨液中之游离研磨粒，而可获得与氧化铈同等之研磨效果之研磨步骤，以低成本将用于信息记录媒体用基板等各种基板或光学零件的玻璃、结晶化玻璃、晶体等脆性无机材料，或者包含该等之材料且下一代之硬盘用基板所要求之机械强度较高之材料加工成高精度之表面性状之制造方法。本发明之研磨品之制造方法之特征在于：其系包括使用研磨液及研磨垫对无机材料进行研磨之研磨步骤者，且上述研磨液至少含有包括含有Zr及Si之化合物之研磨粒，上述研磨液中之研磨粒浓度为40 wt%以下之范围。

2. 发明专利

TW202017876A 結晶化玻璃基板审中-公开
简体标题：结晶化玻璃基板
公开(公告)号：TW202017876A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW107129295
申请日：2018-08-22
申请人：日商小原股份有限公司 , OHARA INC.
发明人：八木俊剛 , YAGI, TOSHITAKA , 小笠原康平 , OGASAWARA, KOHEI , 本島勇紀 , MOTOSHIMA, YUKI , 小島玲香 , KOJIMA, REIKA , 山下豊 , YAMASHITA, YUTAKA , 後藤直雪 , GOTO, NAOYUKI
IPC分类号： C03B27/03 , C03C10/02
摘要：一種結晶化玻璃基板，表面具有壓縮應力層，將前述壓縮應力層最表面的壓縮應力設為CS(MPa)、前述壓縮應力層之壓縮應力是0MPa時之應力深度設為DOLzero(μm)、藉由曲線分析所求得的中心應力設為CT(MPa)、前述基板之厚度設為T(μm)時，前述結晶化玻璃基板之CS是400MPa至1400MPa，CT×(T-2×DOLzero)/CS×DOLzero是0.60以上。
简体摘要：一种结晶化玻璃基板，表面具有压缩应力层，将前述压缩应力层最表面的压缩应力设为CS(MPa)、前述压缩应力层之压缩应力是0MPa时之应力深度设为DOLzero(μm)、借由曲线分析所求得的中心应力设为CT(MPa)、前述基板之厚度设为T(μm)时，前述结晶化玻璃基板之CS是400MPa至1400MPa，CT×(T-2×DOLzero)/CS×DOLzero是0.60以上。

3. 发明专利

TWI387569B 結晶化玻璃失效
简体标题：结晶化玻璃
公开(公告)号：TWI387569B
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW097148582
申请日：2008-12-12
申请人：小原股份有限公司 , OHARA INC.
发明人：八木俊剛 , YAGI, TOSHITAKA , 後藤直雪 , GOTO, NAOYUKI
IPC分类号： C03C10/04 , C03C10/14 , C03C3/078 , C03C3/087 , C03C3/095 , C03C3/097 , C03C3/112 , G11B5/73
CPC分类号： C03C10/0009 , C03C3/097 , C03C3/11 , C03C3/112 , Y10T428/24355 , Y10T428/315

4. 发明专利

TW201806889A 具有曲面形狀之結晶化玻璃構件的製造方法审中-公开
简体标题：具有曲面形状之结晶化玻璃构件的制造方法
公开(公告)号：TW201806889A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106112202
申请日：2017-04-12
申请人：小原股份有限公司 , OHARA INC.
发明人：野崎守二 , NOZAKI, MORIJI , 八木俊剛 , YAGI, TOSHITAKA , 山下豐 , YAMASHITA, YUTAKA , 後藤直雪 , GOTO, NAOYUKI
IPC分类号： C03B32/02 , C03B23/03 , C03C3/085 , C03C3/097
CPC分类号： C03B23/03 , C03B32/02 , C03C3/083 , C03C3/085
摘要：本發明之目的在於以低製造成本提供一種機械強度高，適應用途的形狀和結晶析出量二者兼得，且具有曲面形狀之結晶化玻璃構件。尤其，以低製造成本提供一種適合智慧型手機的保護玻璃或框體用途且具有曲面形狀之結晶化玻璃構件。本發明之具有曲面形狀之結晶化玻璃構件的製造方法係具有變形步驟，於上述變形步驟中，將板狀玻璃的溫度保持在第一溫度域內，自上述板狀玻璃析出結晶，同時，藉由作用於上述板狀玻璃的外力使上述板狀玻璃的至少一部分變形為曲面形狀。
简体摘要：本发明之目的在于以低制造成本提供一种机械强度高，适应用途的形状和结晶析出量二者兼得，且具有曲面形状之结晶化玻璃构件。尤其，以低制造成本提供一种适合智能型手机的保护玻璃或框体用途且具有曲面形状之结晶化玻璃构件。本发明之具有曲面形状之结晶化玻璃构件的制造方法系具有变形步骤，于上述变形步骤中，将板状玻璃的温度保持在第一温度域内，自上述板状玻璃析出结晶，同时，借由作用于上述板状玻璃的外力使上述板状玻璃的至少一部分变形为曲面形状。

5. 发明专利

TW268931B 高分散性光學玻璃失效
简体标题：高分散性光学玻璃
公开(公告)号：TW268931B
公开(公告)日：1996-01-21
申请号：TW082108225
申请日：1993-10-05
申请人：小原股份有限公司
发明人：八田比佐雄 , 山口勝彥 , 石崎太 , 保井秀夫 , 後藤直雪 , 榎本五郎
IPC分类号： C03C
摘要：一種特定組成範圍內ＳｉＯ２－Ｎｂ２Ｏ５－Ｒ′２Ｏ（其中Ｒ′為鹼金屬元素）－Ｆ系統的光學玻璃具有１．６０以上至１．６７的折射指數（Ｎｄ）和３２－５０的Ａｂｂｅ折射數（νｄ）的光學常數，它不含氧化鉛並具有改善之光穿透比。
简体摘要：一种特定组成范围内ＳｉＯ２－Ｎｂ２Ｏ５－Ｒ′２Ｏ（其中Ｒ′为碱金属元素）－Ｆ系统的光学玻璃具有１．６０以上至１．６７的折射指数（Ｎｄ）和３２－５０的Ａｂｂｅ折射数（νｄ）的光学常数，它不含氧化铅并具有改善之光穿透比。

6. 发明专利

TW202017875A 結晶化玻璃基板审中-公开
简体标题：结晶化玻璃基板
公开(公告)号：TW202017875A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW107129289
申请日：2018-08-22
申请人：日商小原股份有限公司 , OHARA INC.
发明人：八木俊剛 , YAGI, TOSHITAKA , 小笠原康平 , OGASAWARA, KOHEI , 本島勇紀 , MOTOSHIMA, YUKI , 小島玲香 , KOJIMA, REIKA , 山下豊 , YAMASHITA, YUTAKA , 後藤直雪 , GOTO, NAOYUKI
IPC分类号： C03B27/03 , C03C10/02
摘要：一種結晶化玻璃基板，其表面具有壓縮應力層，所述壓縮應力層之壓縮應力為0MPa時之應力深度DOLzero是45μm至200μm、所述壓縮應力層最表面的壓縮應力CS是400MPa至1400MPa，藉由曲線分析所求得的中心應力CT是55MPa至300MPa。
简体摘要：一种结晶化玻璃基板，其表面具有压缩应力层，所述压缩应力层之压缩应力为0MPa时之应力深度DOLzero是45μm至200μm、所述压缩应力层最表面的压缩应力CS是400MPa至1400MPa，借由曲线分析所求得的中心应力CT是55MPa至300MPa。

7. 发明专利

TW201837004A 結晶化玻璃审中-公开
简体标题：结晶化玻璃
公开(公告)号：TW201837004A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107104982
申请日：2018-02-12
申请人：日商小原股份有限公司 , OHARA INC.
发明人：八木俊剛 , YAGI, TOSHITAKA , 山下豐 , YAMASHITA, YUTAKA , 後藤直雪 , GOTO, NAOYUKI
IPC分类号： C03C3/083 , C03C3/087 , C03C3/04
摘要：一種結晶化玻璃，其特徵在於：以結晶化玻璃作為母材，於表面具有壓縮應力層；於厚度10mm之包含反射損失的光線穿透率為80%之波長是400nm至669nm，維克氏硬度(Hv)為835至1300。結晶化玻璃，其壓縮應力層的厚度是20μm以上。結晶化玻璃，其結晶化玻璃母材，以氧化物換算的重量%計，含有SiO2成分40.0%至70.0%、Al2O3成分11.0%至25.0%、Na2O成分5.0%至19.0%、K2O成分0%至9.0%、MgO成分1.0%至18.0%、CaO成分0%至3.0%、及TiO2成分0.5%至12.0%，且含有之SiO2成分、Al2O3成分、Na2O成分、K2O成分、MgO成分、TiO2成分之合計量為90%以上。
简体摘要：一种结晶化玻璃，其特征在于：以结晶化玻璃作为母材，于表面具有压缩应力层；于厚度10mm之包含反射损失的光线穿透率为80%之波长是400nm至669nm，维克氏硬度(Hv)为835至1300。结晶化玻璃，其压缩应力层的厚度是20μm以上。结晶化玻璃，其结晶化玻璃母材，以氧化物换算的重量%计，含有SiO2成分40.0%至70.0%、Al2O3成分11.0%至25.0%、Na2O成分5.0%至19.0%、K2O成分0%至9.0%、MgO成分1.0%至18.0%、CaO成分0%至3.0%、及TiO2成分0.5%至12.0%，且含有之SiO2成分、Al2O3成分、Na2O成分、K2O成分、MgO成分、TiO2成分之合计量为90%以上。

8. 发明专利

TW565538B 用於資訊儲存媒體之玻璃陶瓷基質失效
简体标题：用于信息存储媒体之玻璃陶瓷基质
公开(公告)号：TW565538B
公开(公告)日：2003-12-11
申请号：TW088104134
申请日：1999-03-17
申请人：小原股份有限公司
发明人：後藤直雪 , 石岡順子 , 川嵨康之
IPC分类号： C03C , G11B
CPC分类号： G11B5/7315 , C03C10/0027 , C12N2510/00 , C12N2517/04 , Y10S428/90
摘要：一種用於資訊儲存媒體之玻璃陶瓷基質包括二矽酸鋰(Li2O‧2SiO2)或是二矽酸鋰與選自包括α-石英(α-SiO2)、α-石英固體溶液(α-SiO2固體溶液)、α-白矽石(α-SiO2)與α-白矽石固體溶液(α-SiO2固體溶液)至少一者之結晶相的組合作為主要結晶相。此基質之楊氏模數(GPa)/比重為37或以上，表面粗糙度Ra(算術平均粗糙度)為5.0埃或以下，自-50℃至+70℃範圍內之熱膨脹係數自+65×10-7/℃至+130×10-7/℃，而及彎曲強度為400MPa或以上。
简体摘要：一种用于信息存储媒体之玻璃陶瓷基质包括二硅酸锂(Li2O‧2SiO2)或是二硅酸锂与选自包括α-石英(α-SiO2)、α-石英固体溶液(α-SiO2固体溶液)、α-白硅石(α-SiO2)与α-白硅石固体溶液(α-SiO2固体溶液)至少一者之结晶相的组合作为主要结晶相。此基质之杨氏模数(GPa)/比重为37或以上，表面粗糙度Ra(算术平均粗糙度)为5.0埃或以下，自-50℃至+70℃范围内之热膨胀系数自+65×10-7/℃至+130×10-7/℃，而及弯曲强度为400MPa或以上。

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