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    • 5. 发明专利
    • 擴大培養抗原特異之細胞傷害性T細胞之方法 METHOD OF EXTENDED CULTURE FOR ANTIGEN-SPECIFIC CYTOTOXIC T LUMPHOCYTES
    • 扩大培养抗原特异之细胞伤害性T细胞之方法 METHOD OF EXTENDED CULTURE FOR ANTIGEN-SPECIFIC CYTOTOXIC T LUMPHOCYTES
    • TW200718784A
    • 2007-05-16
    • TW095148473
    • 2002-08-15
    • 寶生物股份有限公司 TAKARA BIO INC.
    • 佐川裕章 HIROAKI SAGAWA出野美津子 MITSUKO IDENO加藤郁之進 IKUNOSHIN KATO
    • C12NA61KA61P
    • C12N5/0636A61K2039/515A61K2039/5158C12N2501/105C12N2501/12C12N2501/23C12N2501/515C12N2501/58C12N2501/599C12N2501/905
    • 本發明係提供一種用於誘導具有抗原特異性之細胞傷害活性之細胞傷害性T細胞的方法,其係包含在選自由以下(A)~(E)所組成之群組中至少一種物質存在下,將對細胞傷害性T細胞具有分化能力之前驅細胞與抗原呈現細胞共同培養之步驟:(A)對於CD44具有結合活性之物質;(B)可控制CD44配位子藉由結合於CD44所發散之訊號的物質;(C)可抑制成長因子結合於成長因子受器之物質;(D)可抑制成長因子藉由結合於成長因子受器所發散之訊號的物質;及(E)纖維黏連蛋白、其片段或彼等之混合物。本發明亦提供一種用於維持具有抗原特異性之細胞傷害活性之細胞傷害性T細胞的方法,其係包含在選自由上述(A)~(E)所組成之群組中至少一種物質存在下,繼續培養細胞傷害性T細胞之步驟,及提供一種擴大培養具有抗原特異性之細胞傷害活性之細胞傷害性T細胞的方法,其係包含在選自由上述(A)~(E)所組成之群組中至少一種物質存在下,培養細胞傷害性T細胞之步驟。
    • 本发明系提供一种用于诱导具有抗原特异性之细胞伤害活性之细胞伤害性T细胞的方法,其系包含在选自由以下(A)~(E)所组成之群组中至少一种物质存在下,将对细胞伤害性T细胞具有分化能力之前驱细胞与抗原呈现细胞共同培养之步骤:(A)对于CD44具有结合活性之物质;(B)可控制CD44配位子借由结合于CD44所发散之信号的物质;(C)可抑制成长因子结合于成长因子受器之物质;(D)可抑制成长因子借由结合于成长因子受器所发散之信号的物质;及(E)纤维黏连蛋白、其片段或彼等之混合物。本发明亦提供一种用于维持具有抗原特异性之细胞伤害活性之细胞伤害性T细胞的方法,其系包含在选自由上述(A)~(E)所组成之群组中至少一种物质存在下,继续培养细胞伤害性T细胞之步骤,及提供一种扩大培养具有抗原特异性之细胞伤害活性之细胞伤害性T细胞的方法,其系包含在选自由上述(A)~(E)所组成之群组中至少一种物质存在下,培养细胞伤害性T细胞之步骤。