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1. 发明专利

TW200609477A 水分產生用反應爐及使用該反應爐之水分產生供給裝置失效
简体标题：水分产生用反应炉及使用该反应炉之水分产生供给设备
公开(公告)号：TW200609477A
公开(公告)日：2006-03-16
申请号：TW094120019
申请日：2005-06-16
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：成相敏朗 NARIAI, TOSHIRO , 川田幸司 KAWADA, KOJI , 平尾圭志 HIRAO, KEIJI , 皆見幸男 MINAMI, YUKIO , 森本明弘 MORIMOTO, AKIHIRO , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： F28B
CPC分类号： B01J12/007 , B01J2219/00078 , B01J2219/00087 , B01J2219/00096 , B01J2219/00135 , C01B5/00 , F28D2021/0029 , F28F3/02 , H01L21/67017
摘要：本發明之課題是在水分產生反應爐中，藉著反應爐本體的散熱特性的提昇，可以有限的體積容量的水分產生反應爐使水分產生量安全地倍增。其解決手段是將供給反應爐本體內的氫和氧接觸白金塗層觸媒層藉著其反應性的活化，使氫和氧在非燃燒的狀態下反應的水分產生反應爐中，藉著固定在出口側爐本體構件外表面的中央穿設加熱器插入孔的基板和垂直並排豎立設置在該基板的上述加熱器插入孔以外部分的複數個散熱體所構成的出口側冷卻器以形成冷卻器的同時，將加熱器的一部份插穿出口側冷卻器的加熱器插入孔而固定在出口側爐本體構件的外表面上。
简体摘要：本发明之课题是在水分产生反应炉中，借着反应炉本体的散热特性的提升，可以有限的体积容量的水分产生反应炉使水分产生量安全地倍增。其解决手段是将供给反应炉本体内的氢和氧接触白金涂层触媒层借着其反应性的活化，使氢和氧在非燃烧的状态下反应的水分产生反应炉中，借着固定在出口侧炉本体构件外表面的中央穿设加热器插入孔的基板和垂直并排竖立设置在该基板的上述加热器插入孔以外部分的复数个散热体所构成的出口侧冷却器以形成冷却器的同时，将加热器的一部份插穿出口侧冷却器的加热器插入孔而固定在出口侧炉本体构件的外表面上。

2. 发明专利

TWI246940B 於水份產生用反應爐形成塗覆鉑之觸媒層的方法失效
简体标题：于水份产生用反应炉形成涂覆铂之触媒层的方法
公开(公告)号：TWI246940B
公开(公告)日：2006-01-11
申请号：TW092128607
申请日：2003-10-15
申请人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 森本明弘 MORIMOTO, AKIHIRO , 北野真史 KITANO, MASAFUMI , 皆見幸男 MINAMI, YUKIO , 川田幸司 KAWADA, KOJI
IPC分类号： B01J
CPC分类号： B01J12/007 , B01J21/04 , B01J23/42 , B01J37/0225 , B01J37/0226 , B01J37/08 , C01B5/00
摘要：於水份產生用反應爐其反應用空間之內壁面，以厚度均勻對母材之粘結力高，平價且可簡單形成鉑皮膜之保護機能高之隔離層皮膜。
有關氫元素及氧元素不經高溫燃燒反應產生水份之水份產生用反應爐，使用含鋁之合金形成該水份產生用反應爐，該水份產生用反應爐於其反應用空間之內壁面形成含有塗覆鉑之觸媒層，於該水份產生用反應爐之內壁面施以鋁之氧化選擇處理形成以氧化鋁(Al2O3)為主體的隔離層皮膜，爾後於該隔離層皮膜之上部層合粘結鉑皮膜形成塗覆鉑之觸媒層。
简体摘要：于水份产生用反应炉其反应用空间之内壁面，以厚度均匀对母材之粘结力高，平价且可简单形成铂皮膜之保护机能高之隔离层皮膜。有关氢元素及氧元素不经高温燃烧反应产生水份之水份产生用反应炉，使用含铝之合金形成该水份产生用反应炉，该水份产生用反应炉于其反应用空间之内壁面形成含有涂覆铂之触媒层，于该水份产生用反应炉之内壁面施以铝之氧化选择处理形成以氧化铝(Al2O3)为主体的隔离层皮膜，尔后于该隔离层皮膜之上部层合粘结铂皮膜形成涂覆铂之触媒层。

3. 发明专利

TWI226661B 旋轉型矽晶圓洗淨裝置失效
简体标题：旋转型硅晶圆洗净设备
公开(公告)号：TWI226661B
公开(公告)日：2005-01-11
申请号：TW092125997
申请日：2003-09-19
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 普雷帝克股份有限公司 , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
发明人：大見忠弘 TADAHIRO OHMI , 白井泰雪 YASUYUKI SHIRAI , 藤田巧 , 皆見幸男 MINAMI, YUKIO , 池田信一 NOBUKAZU IKEDA , 森本明弘 MORIMOTO, AKIHIRO , 川田幸司 KAWADA, KOJI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67034 , H01L21/02052
摘要：本發明的課題是針對於；將藉由藥品或純水施以洗淨處理的矽晶圓的氫氣終端作成更完全者，可更提高矽晶圓的穩定性。
本發明的用以解決手段是：一種旋轉型矽晶圓洗淨裝置，屬於機殼本體內具備矽晶圓的支持，旋轉驅動裝置，藉由純水來洗淨藥品洗淨後的矽晶圓的旋轉型矽晶圓洗淨裝置，其特徵為：設置附設於機殼本體，供給含有0.05vol%以上的氫氣體的氫氣體與惰性氣體的混合氣體的氣體供給面板，及一端連結至上述氣體供給面板的氣體混合器的混合氣體供給管，及加熱上述混合氣體供給管內的混合氣體的混合氣體加熱裝置，及在與藉由上述混合氣體加熱裝置所加熱的高溫混合氣體的接觸氣體部分具備形成氫基的鍍白金保護膜的氫基生成裝置所構成的矽晶圓乾燥裝置；藉由將含有利用上述氫基生成裝置所生成的氫基的混合氣體噴出至洗淨後的施以旋轉的矽晶圓上，進行矽晶圓外表面的乾燥與氫氣終端處理。
简体摘要：本发明的课题是针对于；将借由药品或纯水施以洗净处理的硅晶圆的氢气终端作成更完全者，可更提高硅晶圆的稳定性。本发明的用以解决手段是：一种旋转型硅晶圆洗净设备，属于机壳本体内具备硅晶圆的支持，旋转驱动设备，借由纯水来洗净药品洗净后的硅晶圆的旋转型硅晶圆洗净设备，其特征为：设置附设于机壳本体，供给含有0.05vol%以上的氢气体的氢气体与惰性气体的混合气体的气体供给皮肤，及一端链接至上述气体供给皮肤的气体混合器的混合气体供给管，及加热上述混合气体供给管内的混合气体的混合气体加热设备，及在与借由上述混合气体加热设备所加热的高温混合气体的接触气体部分具备形成氢基的镀白金保护膜的氢基生成设备所构成的硅晶圆干燥设备；借由将含有利用上述氢基生成设备所生成的氢基的混合气体喷出至洗净后的施以旋转的硅晶圆上，进行硅晶圆外表面的干燥与氢气终端处理。

4. 发明专利

TW200409218A 旋轉型矽晶圓洗淨裝置失效
简体标题：旋转型硅晶圆洗净设备
公开(公告)号：TW200409218A
公开(公告)日：2004-06-01
申请号：TW092125997
申请日：2003-09-19
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED , 普雷帝克股份有限公司 , 大見忠弘 TADAHIRO OHMI
发明人：大見忠弘 TADAHIRO OHMI , 白井泰雪 YASUYUKI SHIRAI , 藤田巧 , 皆見幸男 MINAMI, YUKIO , 池田信一 NOBUKAZU IKEDA , 森本明弘 MORIMOTO, AKIHIRO , 川田幸司 KAWADA, KOJI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67034 , H01L21/02052
摘要：本發明的課題是針對於；將藉由藥品或純水施以洗淨處理的矽晶圓的氫氣終端作成更完全者，可更提高矽晶圓的穩定性。本發明的用以解決手段是：一種旋轉型矽晶圓洗淨裝置，屬於機殼本體內具備矽晶圓的支持，旋轉驅動裝置，藉由純水來洗淨藥品洗淨後的矽晶圓的旋轉型矽晶圓洗淨裝置，其特徵為：設置附設於機殼本體，供給含有0.05vol％以上的氫氣體的氫氣體與惰性氣體的混合氣體的氣體供給面板，及一端連結至上述氣體供給面板的氣體混合器的混合氣體供給管，及加熱上述混合氣體供給管內的混合氣體的混合氣體加熱裝置，及在與藉由上述混合氣體加熱裝置所加熱的高溫混合氣體的接觸氣體部分具備形成氫基的鍍白金保護膜的氫基生成裝置所構成的矽晶圓乾燥裝置；藉由將含有利用上述氫基生成裝置所生成的氫基的混合氣體噴出至洗淨後的施以旋轉的矽晶圓上，進行矽晶圓外表面的乾燥與氫氣終端處理。
简体摘要：本发明的课题是针对于；将借由药品或纯水施以洗净处理的硅晶圆的氢气终端作成更完全者，可更提高硅晶圆的稳定性。本发明的用以解决手段是：一种旋转型硅晶圆洗净设备，属于机壳本体内具备硅晶圆的支持，旋转驱动设备，借由纯水来洗净药品洗净后的硅晶圆的旋转型硅晶圆洗净设备，其特征为：设置附设于机壳本体，供给含有0.05vol％以上的氢气体的氢气体与惰性气体的混合气体的气体供给皮肤，及一端链接至上述气体供给皮肤的气体混合器的混合气体供给管，及加热上述混合气体供给管内的混合气体的混合气体加热设备，及在与借由上述混合气体加热设备所加热的高温混合气体的接触气体部分具备形成氢基的镀白金保护膜的氢基生成设备所构成的硅晶圆干燥设备；借由将含有利用上述氢基生成设备所生成的氢基的混合气体喷出至洗净后的施以旋转的硅晶圆上，进行硅晶圆外表面的干燥与氢气终端处理。

5. 发明专利

TW200848369A 水分產生用反應爐之平行運轉方法审中-公开
简体标题：水分产生用反应炉之平行运转方法
公开(公告)号：TW200848369A
公开(公告)日：2008-12-16
申请号：TW097111683
申请日：2008-03-31
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：皆見幸男 MINAMI, YUKIO , 平尾圭志 HIRAO, KEIJI , 田口將暖 TAGUCHI, MASAHARU , 成相敏朗 NARIAI, TOSHIRO , 川田幸司 KAWADA, KOJI , 森本明弘 MORIMOTO, AKIHIRO , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C01B , H01L
CPC分类号： C01B5/00 , Y10T137/0396
摘要：本發明,係有關於在藉由將複數台之水分產生用反應爐作平行運轉來對高純度水供給量之增大的要求作對應之情況時,藉由將H2與O2之混合氣體的分流供給以極為簡單之限流孔的利用而使其成為可能,而成為能夠達成混合氣體(原料氣體)分流裝置之簡單化以及設備費之大幅降低者。亦即是,本發明之水分產生用反應爐之平行運轉方法,係為在被並列連接之複數之水分產生用反應爐的各混合氣體入口側,配設具備有特定之口徑的限流孔,並在將從混合器而來之氫與氧之混合氣體G通過前述各限流孔來供給至各水分產生用反應爐處的同時,使在各水分產生用反應爐處所產生的水分合流並供給至高純度水之使用裝置者。
简体摘要：本发明,系有关于在借由将复数台之水分产生用反应炉作平行运转来对高纯度水供给量之增大的要求作对应之情况时,借由将H2与O2之混合气体的分流供给以极为简单之限流孔的利用而使其成为可能,而成为能够达成混合气体(原料气体)分流设备之简单化以及设备费之大幅降低者。亦即是,本发明之水分产生用反应炉之平行运转方法,系为在被并列连接之复数之水分产生用反应炉的各混合气体入口侧,配设具备有特定之口径的限流孔,并在将从混合器而来之氢与氧之混合气体G通过前述各限流孔来供给至各水分产生用反应炉处的同时,使在各水分产生用反应炉处所产生的水分合流并供给至高纯度水之使用设备者。

6. 发明专利

TWI296701B 水分產生用反應爐及使用該反應爐之水分產生供給裝置失效
简体标题：水分产生用反应炉及使用该反应炉之水分产生供给设备
公开(公告)号：TWI296701B
公开(公告)日：2008-05-11
申请号：TW094120019
申请日：2005-06-16
申请人：富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：成相敏朗 NARIAI, TOSHIRO , 川田幸司 KAWADA, KOJI , 平尾圭志 HIRAO, KEIJI , 皆見幸男 MINAMI, YUKIO , 森本明弘 MORIMOTO, AKIHIRO , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： F28B
CPC分类号： B01J12/007 , B01J2219/00078 , B01J2219/00087 , B01J2219/00096 , B01J2219/00135 , C01B5/00 , F28D2021/0029 , F28F3/02 , H01L21/67017
摘要：本發明之課題是在水分產生反應爐中，藉著反應爐本體的散熱特性的提昇，可以有限的體積容量的水分產生反應爐使水分產生量安全地倍增。其解決手段是將供給反應爐本體內的氫和氧接觸白金塗層觸媒層藉著其反應性的活化，使氫和氧在非燃燒的狀態下反應的水分產生反應爐中，藉著固定在出口側爐本體構件外表面的中央穿設加熱器插入孔的基板和垂直並排豎立設置在該基板的上述加熱器插入孔以外部分的複數個散熱體所構成的出口側冷卻器以形成冷卻器的同時，將加熱器的一部份插穿出口側冷卻器的加熱器插入孔而固定在出口側爐本體構件的外表面上。
简体摘要：本发明之课题是在水分产生反应炉中，借着反应炉本体的散热特性的提升，可以有限的体积容量的水分产生反应炉使水分产生量安全地倍增。其解决手段是将供给反应炉本体内的氢和氧接触白金涂层触媒层借着其反应性的活化，使氢和氧在非燃烧的状态下反应的水分产生反应炉中，借着固定在出口侧炉本体构件外表面的中央穿设加热器插入孔的基板和垂直并排竖立设置在该基板的上述加热器插入孔以外部分的复数个散热体所构成的出口侧冷却器以形成冷却器的同时，将加热器的一部份插穿出口侧冷却器的加热器插入孔而固定在出口侧炉本体构件的外表面上。

7. 发明专利

TW200413094A 於水份產生用反應爐形成塗覆鉑之觸媒層的方法失效
简体标题：于水份产生用反应炉形成涂覆铂之触媒层的方法
公开(公告)号：TW200413094A
公开(公告)日：2004-08-01
申请号：TW092128607
申请日：2003-10-15
申请人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 OHMI, TADAHIRO , 池田信一 IKEDA, NOBUKAZU , 森本明弘 MORIMOTO, AKIHIRO , 北野真史 KITANO, MASAFUMI , 皆見幸男 MINAMI, YUKIO , 川田幸司 KAWADA, KOJI
IPC分类号： B01J
CPC分类号： B01J12/007 , B01J21/04 , B01J23/42 , B01J37/0225 , B01J37/0226 , B01J37/08 , C01B5/00
摘要：於水份產生用反應爐其反應用空間之內壁面，以厚度均勻對母材之粘結力高，平價且可簡單形成鉑皮膜之保護機能高之隔離層皮膜。有關氫元素及氧元素不經高溫燃燒反應產生水份之水份產生用反應爐，使用含鋁之合金形成該水份產生用反應爐，該水份產生用反應爐於其反應用空間之內壁面形成含有塗覆鉑之觸媒層，於該水份產生用反應爐之內壁面施以鋁之氧化選擇處理形成以氧化鋁(Al2O3)為主體的隔離層皮膜，爾後於該隔離層皮膜之上部層合粘結鉑皮膜形成塗覆鉑之觸媒層。
简体摘要：于水份产生用反应炉其反应用空间之内壁面，以厚度均匀对母材之粘结力高，平价且可简单形成铂皮膜之保护机能高之隔离层皮膜。有关氢元素及氧元素不经高温燃烧反应产生水份之水份产生用反应炉，使用含铝之合金形成该水份产生用反应炉，该水份产生用反应炉于其反应用空间之内壁面形成含有涂覆铂之触媒层，于该水份产生用反应炉之内壁面施以铝之氧化选择处理形成以氧化铝(Al2O3)为主体的隔离层皮膜，尔后于该隔离层皮膜之上部层合粘结铂皮膜形成涂覆铂之触媒层。

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