会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明专利
    • 流延膜、模頭及薄膜的製造方法
    • 流延膜、模头及薄膜的制造方法
    • TW201433435A
    • 2014-09-01
    • TW103103578
    • 2014-01-29
    • 富士軟片股份有限公司FUJIFILM CORPORATION
    • 上田忠UEDA, TADASHI
    • B29C33/38C08J5/18B29C41/24
    • 本發明提供一種抑制在模頭的基底上設置DLC膜時所產生之龜裂之流延模、模頭的製造方法及薄膜製造方法。流延膜在濃液流出口具備拆裝自如的模頭。模頭具有基底、基底層及DLC膜。由不銹鋼構成基底,並由碳化鎢亦即WC構成基底層。在基底層上形成DLC膜。形成DLC膜時,以依據由基底與基底層的熱膨脹應變產生之外力所求出之作用於基底層之應力小於基底層的斷裂應力之方式決定基底與基底層的線膨脹係數、模頭的長邊方向的長度LY及氣相成膜法中的加熱溫度的組合。依據該組合來形成基底層與DLC膜。
    • 本发明提供一种抑制在模头的基底上设置DLC膜时所产生之龟裂之流延模、模头的制造方法及薄膜制造方法。流延膜在浓液流出口具备拆装自如的模头。模头具有基底、基底层及DLC膜。由不锈钢构成基底,并由碳化钨亦即WC构成基底层。在基底层上形成DLC膜。形成DLC膜时,以依据由基底与基底层的热膨胀应变产生之外力所求出之作用于基底层之应力小于基底层的断裂应力之方式决定基底与基底层的线膨胀系数、模头的长边方向的长度LY及气相成膜法中的加热温度的组合。依据该组合来形成基底层与DLC膜。