专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI640585B 抗腐蝕複合層有权
简体标题：抗腐蚀复合层
公开(公告)号：TWI640585B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW105117744
申请日：2016-06-04
申请人：安炬科技股份有限公司
发明人：吳以舜 , WU, MARK Y. , 謝承佑 , HSIEH, CHENG YU , 李俊賢 , LEE, CHUN HSIEN , 陳靜茹 , CHEN, JING RU , 謝淑玲 , HSIEH, SHU LING
IPC分类号： C09D5/08 , C09D7/40 , C08K3/04 , C01B32/20 , B05D1/36

2. 发明专利

TWI560144B 石墨烯複合材料有权
简体标题：石墨烯复合材料
公开(公告)号：TWI560144B
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：TW103121767
申请日：2014-06-24
申请人：安炬科技股份有限公司
发明人：吳以舜 , WU, MARK Y. , 謝承佑 , HSIEH, CHENG YU , 陳靜茹 , CHEN, JING RU , 謝淑玲 , HSIEH, SHU LING
IPC分类号： C01B31/04 , B82Y30/00 , B82Y40/00
CPC分类号： C08K9/06 , C08K3/04 , C08K3/042 , C08K9/04

3. 发明专利

TW201627222A 石墨烯之表面改質方法审中-公开
简体标题：石墨烯之表面改质方法
公开(公告)号：TW201627222A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104103272
申请日：2015-01-30
申请人：安炬科技股份有限公司
发明人：吳以舜 , WU, MARK Y. , 謝承佑 , HSIEH, CHENG YU , 彭晟書 , PENG, CHENG SHU
IPC分类号： C01B31/04
CPC分类号： C01B31/0492 , C01B32/194 , C01B32/196
摘要：本發明係一種石墨烯之表面改質方法，包括：將粉體狀的石墨烯放入真空環境中，並升溫至雜質脫附溫度，使石墨烯表面之雜質脫附，其中雜質脫附溫度大於100℃；以及將處理溫度調整至表面改質吸附溫度，並通入氣態的表面改質劑，而吸附於石墨烯的表面，形成表面改質之石墨烯，其中表面改質吸附溫度係大於表面改質劑之昇華溫度，且低於表面改質劑之裂解溫度。本發明只利用物理吸附作用，不需任何化學反應，因此製程簡單安全，且表面改質後的石墨烯在溶液中具有良好的分散性，可提昇石墨烯摻混時之均勻性，提高產品性能。
简体摘要：本发明系一种石墨烯之表面改质方法，包括：将粉体状的石墨烯放入真空环境中，并升温至杂质脱附温度，使石墨烯表面之杂质脱附，其中杂质脱附温度大于100℃；以及将处理温度调整至表面改质吸附温度，并通入气态的表面改质剂，而吸附于石墨烯的表面，形成表面改质之石墨烯，其中表面改质吸附温度系大于表面改质剂之升华温度，且低于表面改质剂之裂解温度。本发明只利用物理吸附作用，不需任何化学反应，因此制程简单安全，且表面改质后的石墨烯在溶液中具有良好的分散性，可提升石墨烯掺混时之均匀性，提高产品性能。

4. 发明专利

TW201540822A 石墨烯散熱結構审中-公开
简体标题：石墨烯散热结构
公开(公告)号：TW201540822A
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW103115400
申请日：2014-04-29
申请人：安炬科技股份有限公司
发明人：吳以舜 , WU, MARK Y. , 謝承佑 , HSIEH, CHENG YU , 陳靜茹 , CHEN, JING RU , 謝淑玲 , HSIEH, SHU LING , 黎冠廷 , LI, KUAN TING
IPC分类号： C09K5/14 , C01B31/04 , H05K7/20
CPC分类号： H01L23/373 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：本發明係一種石墨烯散熱結構，包括基材及石墨烯散熱層，其中基材具有至少兩個表面，其中至少一表面接觸至少一的熱源，而在不與熱源接觸的另一表面上，設置具有導電特性的石墨烯散熱層，且石墨烯散熱層包含複數個表面改質之石墨烯奈米片、載體樹脂以及填充劑。表面改質之石墨烯奈米片是均勻分散於載體樹脂中，且該等石墨烯奈米片之間可透過填充劑而相互接觸連接，以形成導熱網絡，且填充劑之粒徑與石墨烯奈米片厚度之比值介於2-100之間。因此，本發明的基材可將接收來自熱源之熱量，經石墨烯散熱層以傳導或輻射方式逸散至外部，達到散熱效果。
简体摘要：本发明系一种石墨烯散热结构，包括基材及石墨烯散热层，其中基材具有至少两个表面，其中至少一表面接触至少一的热源，而在不与热源接触的另一表面上，设置具有导电特性的石墨烯散热层，且石墨烯散热层包含复数个表面改质之石墨烯奈米片、载体树脂以及填充剂。表面改质之石墨烯奈米片是均匀分散于载体树脂中，且该等石墨烯奈米片之间可透过填充剂而相互接触连接，以形成导热网络，且填充剂之粒径与石墨烯奈米片厚度之比值介于2-100之间。因此，本发明的基材可将接收来自热源之热量，经石墨烯散热层以传导或辐射方式逸散至外部，达到散热效果。

5. 发明专利

TWI495716B 石墨烯散熱結構有权
简体标题：石墨烯散热结构
公开(公告)号：TWI495716B
公开(公告)日：2015-08-11
申请号：TW103115400
申请日：2014-04-29
申请人：安炬科技股份有限公司
发明人：吳以舜 , WU, MARK Y. , 謝承佑 , HSIEH, CHENG YU , 陳靜茹 , CHEN, JING RU , 謝淑玲 , HSIEH, SHU LING , 黎冠廷 , LI, KUAN TING
IPC分类号： C09K5/14 , C01B31/04 , H05K7/20
CPC分类号： H01L23/373 , H01L2924/0002 , H01L2924/00

6. 发明专利

TW201515994A 奈米石墨烯空心粒子及其製作方法审中-公开
简体标题：奈米石墨烯空心粒子及其制作方法
公开(公告)号：TW201515994A
公开(公告)日：2015-05-01
申请号：TW102138919
申请日：2013-10-28
申请人：安炬科技股份有限公司
发明人：吳以舜 , WU, MARK Y. , 謝承佑 , HSIEH, CHENG YU , 彭晟書 , PENG, CHENG SHU
IPC分类号： C01B31/04 , C09K13/04
CPC分类号： C01B31/0446 , C01B31/0492 , C01B32/184 , C01B32/196 , Y10T428/298
摘要：一種奈米石墨烯空心粒子，以多個石墨烯片相互堆疊形成，其粒徑為10~500nm，比表面積大於500m2/g，其製作方法包含石墨烯生成步驟、蝕刻步驟以及熱處理步驟，首先將還原劑導入通有保護氣體的高溫爐中，再導入含碳氣態化合物，或於高溫下裂解以生成碳之第二氣態化合物，進一步將溫度調升至反應溫度以進行氧化還原反應，形成含有副產物之奈米石墨烯粒子，再將該等粒子浸入酸性蝕刻液，去除副產物而得到奈米石墨烯空心粒子，最後將奈米石墨烯空心粒子進行熱處理以增加結晶度，如此可以避免使用劇毒或危險之化學藥劑，更有反應物選擇多元及製備容易等優點。
简体摘要：一种奈米石墨烯空心粒子，以多个石墨烯片相互堆栈形成，其粒径为10~500nm，比表面积大于500m2/g，其制作方法包含石墨烯生成步骤、蚀刻步骤以及热处理步骤，首先将还原剂导入通有保护气体的高温炉中，再导入含碳气态化合物，或于高温下裂解以生成碳之第二气态化合物，进一步将温度调升至反应温度以进行氧化还原反应，形成含有副产物之奈米石墨烯粒子，再将该等粒子浸入酸性蚀刻液，去除副产物而得到奈米石墨烯空心粒子，最后将奈米石墨烯空心粒子进行热处理以增加结晶度，如此可以避免使用剧毒或危险之化学药剂，更有反应物选择多元及制备容易等优点。

7. 发明专利

TW201445579A 石墨烯透明導電膜审中-公开
简体标题：石墨烯透明导电膜
公开(公告)号：TW201445579A
公开(公告)日：2014-12-01
申请号：TW102117735
申请日：2013-05-20
申请人：安炬科技股份有限公司
发明人：吳以舜 , WU, MARK Y. , 謝承佑 , HSIEH, CHENG YU , 彭晟書 , PENG, CHENG SHU
IPC分类号： H01B1/04 , H01B1/12 , H01B5/00
CPC分类号： H01B1/24
摘要：一種石墨烯透明導電膜，包含複數個石墨烯片以及透明導電黏結劑，透明導電黏結劑將石墨烯片黏結而共同形成該石墨烯透明導電膜，石墨烯片與透明導電黏結劑之重量比為1wt%至0.01wt%之間，而該透明導電黏結劑佔該石墨烯透明導電膜的體積百分比為0.5~10%，透明導電黏結劑為一透明導電高分子，包含一聚噻吩結構以及聚陽離子高分子結構的至少其中之一，藉由透明導電黏結劑將石墨烯片堆疊區塊連接，而能形成完整之導電網路，使得薄膜可在高透光度下仍具有較低的片電阻值，且可形成於可撓性的支持體上，擴展可應用的範疇。
简体摘要：一种石墨烯透明导电膜，包含复数个石墨烯片以及透明导电黏结剂，透明导电黏结剂将石墨烯片黏结而共同形成该石墨烯透明导电膜，石墨烯片与透明导电黏结剂之重量比为1wt%至0.01wt%之间，而该透明导电黏结剂占该石墨烯透明导电膜的体积百分比为0.5~10%，透明导电黏结剂为一透明导电高分子，包含一聚噻吩结构以及聚阳离子高分子结构的至少其中之一，借由透明导电黏结剂将石墨烯片堆栈区块连接，而能形成完整之导电网络，使得薄膜可在高透光度下仍具有较低的片电阻值，且可形成于可挠性的支持体上，扩展可应用的范畴。

8. 发明专利

TWI597311B 石墨烯複合纖維及其製備方法有权
简体标题：石墨烯复合纤维及其制备方法
公开(公告)号：TWI597311B
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW103103791
申请日：2014-02-05
申请人：安炬科技股份有限公司
发明人：吳以舜 , WU, MARK Y. , 謝承佑 , HSIEH, CHENG YU , 陳靜茹 , CHEN, JING RU , 謝淑玲 , HSIEH, SHU LING
IPC分类号： C08K3/04 , C08K9/04 , D01F1/09 , D01D1/02 , D01F9/12
CPC分类号： H01B1/12 , D01D5/08 , D01F1/09 , D01F1/10 , H01B1/24

9. 发明专利

TWI546254B 石墨烯之表面改質方法有权
简体标题：石墨烯之表面改质方法
公开(公告)号：TWI546254B
公开(公告)日：2016-08-21
申请号：TW104103272
申请日：2015-01-30
申请人：安炬科技股份有限公司
发明人：吳以舜 , WU, MARK Y. , 謝承佑 , HSIEH, CHENG YU , 彭晟書 , PENG, CHENG SHU
IPC分类号： C01B31/04
CPC分类号： C01B31/0492 , C01B32/194 , C01B32/196

10. 发明专利

TWI533497B 電流收集層結構有权
简体标题：电流收集层结构
公开(公告)号：TWI533497B
公开(公告)日：2016-05-11
申请号：TW102130858
申请日：2013-08-28
申请人：安炬科技股份有限公司
发明人：吳以舜 , WU, MARK Y. , 謝承佑 , HSIEH, CHENG YU , 鄭叡駿 , CHENG, RUI JUN , 謝淑玲 , HSIEH, SHU LING , 陳靜茹 , CHEN, JING RU
IPC分类号： H01M4/66 , H01M4/46 , B32B15/04 , C09J7/02
CPC分类号： H01M4/667 , H01M4/663

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式