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1. 发明专利

TW201316137A 緊貼曝光裝置及緊貼曝光方法审中-公开
简体标题：紧贴曝光设备及紧贴曝光方法
公开(公告)号：TW201316137A
公开(公告)日：2013-04-16
申请号：TW101132810
申请日：2012-09-07
申请人：安士克科技股份有限公司 , NSK TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：池淵宏 , IKEBUCHI, HIROSHI , 舛添敦 , MASUZOE, ATSUSHI , 岡谷秀樹 , OKATANI, HIDEKI
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7035 , G03F7/2014
摘要：本發明提供一種可提高基板與掩模之緊貼性能之緊貼曝光裝置及緊貼曝光方法。於基板保持部11之保持面11a上具備朝工件W之背面開口之複數個第1空氣流通孔31、及設於比該複數個第1空氣流通孔31更靠外側之複數個第2空氣流通孔32；於複數個第2空氣流通孔32所開口之區域E之內周側及外周側上分別配置有可與工件W之背面接觸之環狀之內周側彈性構件33及外周側彈性構件34。於掩模保持部4與基板保持部11之間，設置有包圍掩模M及工件W之彈性之密封構件35；由掩模M、掩模保持部4、基板保持部11、及密封構件35區劃出密封空間S。控制機構30將複數個第1空氣流通孔31對大氣開放，自複數個第2空氣流通孔32吸引空氣，並吸引密封空間S內之空氣而使密封空間S內成為負壓；於密封空間S內之壓力達到特定基準負壓時，將複數個第2空氣流通孔32對大氣開放。
简体摘要：本发明提供一种可提高基板与掩模之紧贴性能之紧贴曝光设备及紧贴曝光方法。于基板保持部11之保持面11a上具备朝工件W之背面开口之复数个第1空气流通孔31、及设于比该复数个第1空气流通孔31更靠外侧之复数个第2空气流通孔32；于复数个第2空气流通孔32所开口之区域E之内周侧及外周侧上分别配置有可与工件W之背面接触之环状之内周侧弹性构件33及外周侧弹性构件34。于掩模保持部4与基板保持部11之间，设置有包围掩模M及工件W之弹性之密封构件35；由掩模M、掩模保持部4、基板保持部11、及密封构件35区划出密封空间S。控制机构30将复数个第1空气流通孔31对大气开放，自复数个第2空气流通孔32吸引空气，并吸引密封空间S内之空气而使密封空间S内成为负压；于密封空间S内之压力达到特定基准负压时，将复数个第2空气流通孔32对大气开放。

2. 发明专利

TWI506381B 緊貼曝光裝置及緊貼曝光方法有权
简体标题：紧贴曝光设备及紧贴曝光方法
公开(公告)号：TWI506381B
公开(公告)日：2015-11-01
申请号：TW101132810
申请日：2012-09-07
申请人：安士克科技股份有限公司 , NSK TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：池淵宏 , IKEBUCHI, HIROSHI , 舛添敦 , MASUZOE, ATSUSHI , 岡谷秀樹 , OKATANI, HIDEKI
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7035 , G03F7/2014

3. 发明专利

TW201507058A 基板之保持裝置及緊貼曝光裝置以及近接曝光裝置审中-公开
简体标题：基板之保持设备及紧贴曝光设备以及近接曝光设备
公开(公告)号：TW201507058A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：TW103124823
申请日：2014-07-18
申请人：安士克科技股份有限公司 , NSK TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：岡谷秀樹 , OKATANI, HIDEKI , 鳥越恒光 , TORIGOE, TSUNEMITSU , 舛添敦 , MASUZOE, ATSUSHI , 佐治伸仁 , SAJI, NOBUHITO
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/027 , G03F7/20
摘要：本發明提供一種能以相對簡單之構成修正具有翹曲或變形等之基板之平面度而進行保持之基板之保持裝置及緊貼曝光裝置以及近接曝光裝置。吸附保持基板W之基板保持部21包括：複數個槽26a、26b1~26b4、26c1~26c4，其等由俯視下配置成大致同心圓狀之複數個環狀凸部24隔離而相互獨立；及減壓機構29，其將各槽26a、26b1~26b4、26c1~26c4內之空氣向下抽吸，獨立地將各槽26a、26b1~26b4、26c1~26c4內之壓力進行減壓。
简体摘要：本发明提供一种能以相对简单之构成修正具有翘曲或变形等之基板之平面度而进行保持之基板之保持设备及紧贴曝光设备以及近接曝光设备。吸附保持基板W之基板保持部21包括：复数个槽26a、26b1~26b4、26c1~26c4，其等由俯视下配置成大致同心圆状之复数个环状凸部24隔离而相互独立；及减压机构29，其将各槽26a、26b1~26b4、26c1~26c4内之空气向下抽吸，独立地将各槽26a、26b1~26b4、26c1~26c4内之压力进行减压。

4. 发明专利

TW201510675A 緊貼曝光裝置审中-公开
简体标题：紧贴曝光设备
公开(公告)号：TW201510675A
公开(公告)日：2015-03-16
申请号：TW103124825
申请日：2014-07-18
申请人：安士克科技股份有限公司 , NSK TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：岡谷秀樹 , OKATANI, HIDEKI , 鳥越恒光 , TORIGOE, TSUNEMITSU , 舛添敦 , MASUZOE, ATSUSHI , 佐治伸仁 , SAJI, NOBUHITO
IPC分类号： G03F7/20
摘要：本發明提供一種即使對於表面存在凹凸之基板，亦可使遮罩仿效基板之表面形狀而緊貼，從而獲得良好之曝光精度之緊貼曝光裝置。本發明之緊貼曝光裝置包括：基板保持部21，其保持基板W；遮罩保持部12，其保持遮罩M；密封構件13，其包圍遮罩M及基板W且設置於遮罩保持部12與基板保持部21之間；及減壓機構14；且使由遮罩M、遮罩保持部12、基板保持部21、及密封構件13包圍之密封空間16內減壓，而使遮罩M仿效基板W上表面之表面形狀而緊貼。
简体摘要：本发明提供一种即使对于表面存在凹凸之基板，亦可使遮罩仿效基板之表面形状而紧贴，从而获得良好之曝光精度之紧贴曝光设备。本发明之紧贴曝光设备包括：基板保持部21，其保持基板W；遮罩保持部12，其保持遮罩M；密封构件13，其包围遮罩M及基板W且设置于遮罩保持部12与基板保持部21之间；及减压机构14；且使由遮罩M、遮罩保持部12、基板保持部21、及密封构件13包围之密封空间16内减压，而使遮罩M仿效基板W上表面之表面形状而紧贴。

5. 发明专利

TW201512788A 近接曝光裝置及近接曝光方法审中-公开
简体标题：近接曝光设备及近接曝光方法
公开(公告)号：TW201512788A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW103125171
申请日：2014-07-22
申请人：安士克科技股份有限公司 , NSK TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：佐治伸仁 , SAJI, NOBUHITO , 岡谷秀樹 , OKATANI, HIDEKI , 舛添敦 , MASUZOE, ATSUSHI , 鳥越恒光 , TORIGOE, TSUNEMITSU
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種於進行曝光時在晶片之位置與遮罩之圖案之位置產生偏移之情形時，可獲得良好之曝光精度之近接曝光裝置及近接曝光方法。近接曝光裝置10包括：對準相機50，其於複數個部位計測遮罩M之圖案P之開口部與晶片41之位置偏移；及反射鏡調整機構70，其具有分別支持平面鏡38之周緣部或背面之複數個支持機構71、及可將該複數個支持機構71分別移動之複數個馬達75，且使平面鏡38局部彈性變形；且該近接曝光裝置10係藉由基於複數個部位之位置偏移量而分別驅動複數個馬達75，使平面鏡38局部彈性變形，而調整曝光之光之光軸EL'以矯正該位置偏移。
简体摘要：本发明提供一种于进行曝光时在芯片之位置与遮罩之图案之位置产生偏移之情形时，可获得良好之曝光精度之近接曝光设备及近接曝光方法。近接曝光设备10包括：对准相机50，其于复数个部位计测遮罩M之图案P之开口部与芯片41之位置偏移；及反射镜调整机构70，其具有分别支持平面镜38之周缘部或背面之复数个支持机构71、及可将该复数个支持机构71分别移动之复数个马达75，且使平面镜38局部弹性变形；且该近接曝光设备10系借由基于复数个部位之位置偏移量而分别驱动复数个马达75，使平面镜38局部弹性变形，而调整曝光之光之光轴EL'以矫正该位置偏移。

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