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    • 1. 发明专利
    • 曝光裝置 EXPOSURE APPARATUS
    • 曝光设备 EXPOSURE APPARATUS
    • TW200710603A
    • 2007-03-16
    • TW095131920
    • 2006-08-30
    • 威技研股份有限公司 V TECHNOLOGY CO., LTD.
    • 山康一 KOICHI KAJIYAMA渡由雄 YOSHIO WATANABE
    • G03F
    • G03F7/7035G03F7/70083
    • 本發明的曝光裝置,具備有載置濾色器基板11於其上面13a的載台13,配置於該載台13上方,而可在該載台13上面平行保持片條狀之光罩5的光罩台6,及對保持於該光罩台6的光罩5照射以曝光光線的光源2。係將對該光源2所放射的曝光光線經該光罩5照射於該濾色器基板11上,而在所定位置形成所定之曝光圖案之曝光裝置。而在該光源2與光罩台6間之光路上,配置圓柱形透鏡10,將光源2所放射之曝光光束的斷面,配合該片條狀光罩5的形狀予以整形。由是提高照射於片條狀光罩5之曝光光線利用效率。
    • 本发明的曝光设备,具备有载置滤色器基板11于其上面13a的载台13,配置于该载台13上方,而可在该载台13上面平行保持片条状之光罩5的光罩台6,及对保持于该光罩台6的光罩5照射以曝光光线的光源2。系将对该光源2所放射的曝光光线经该光罩5照射于该滤色器基板11上,而在所定位置形成所定之曝光图案之曝光设备。而在该光源2与光罩台6间之光路上,配置圆柱形透镜10,将光源2所放射之曝光光束的断面,配合该片条状光罩5的形状予以整形。由是提高照射于片条状光罩5之曝光光线利用效率。
    • 2. 发明专利
    • 塗佈裝置 AN APPLICATION APPARATUS
    • 涂布设备 AN APPLICATION APPARATUS
    • TW200718474A
    • 2007-05-16
    • TW094138693
    • 2005-11-04
    • 威技研股份有限公司 V TECHNOLOGY CO., LTD.
    • 山康一 KOICHI KAJIYAMA水村通伸 MICHINOBU MIZUMURA
    • B05C
    • 本發明提供一種塗佈裝置,其可以防止吐出材料的乾燥,但不致於降低塗佈處理效率者。為此,該塗佈裝置,係施加正壓於貯藏於墨水槽內的修正用墨水,使該修正用墨水從裝設於該墨水槽的塗佈針吐出於濾色器,該塗佈裝置具有以接觸方式設置於該塗佈針外側面,用以將塗佈針內之該修正用墨水冷卻或凍結,與加熱或解凍的冷卻加熱機構;及用以控制驅動該冷卻加熱機構的控制機構,藉驅動該冷卻加熱機構,在該修正用墨水之吐出待機期間冷卻或凍結該塗佈針內之修正用墨水,而在吐出時加熱或解凍該塗佈針內的修正用墨水。
    • 本发明提供一种涂布设备,其可以防止吐出材料的干燥,但不致于降低涂布处理效率者。为此,该涂布设备,系施加正压于贮藏于墨水槽内的修正用墨水,使该修正用墨水从装设于该墨水槽的涂布针吐出于滤色器,该涂布设备具有以接触方式设置于该涂布针外侧面,用以将涂布针内之该修正用墨水冷却或冻结,与加热或解冻的冷却加热机构;及用以控制驱动该冷却加热机构的控制机构,藉驱动该冷却加热机构,在该修正用墨水之吐出待机期间冷却或冻结该涂布针内之修正用墨水,而在吐出时加热或解冻该涂布针内的修正用墨水。
    • 3. 发明专利
    • 曝光裝置及被曝光體 EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSED SUBSTANCE
    • 曝光设备及被曝光体 EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSED SUBSTANCE
    • TW200707139A
    • 2007-02-16
    • TW095127838
    • 2006-07-28
    • 威技研股份有限公司 V TECHNOLOGY CO., LTD.
    • 山康一 KOICHI KAJIYAMA渡由雄 YOSHIO WATANABE
    • G03FH01L
    • G03F7/7085G03F7/70258G03F9/7003G03F9/7088
    • 本發明係在表面上設定之圖案領域一端部之所定位置載置形成有對準記號的濾色器基板6,以搬運機構1將形成有對準記號之一側做領頭搬運該濾色器6,藉攝影機構3攝取對準記號與畫素,再以控制機構4依據攝影機構3所取得對準記號的檢出輸出來算出濾色器基板6上之基準位置與曝光光學系2之光罩17上預先設定基準位置間之位置差,為了修正該位置差,將攝影機構3與曝光光學系2,在與搬運機構1的濾色器基板載置面平行的面內,向直交於濾色器基板6之搬運方向一起移動,而透過光罩17,將曝光光源12所發射之曝光光線照射於濾色器基板6。
    • 本发明系在表面上设置之图案领域一端部之所定位置载置形成有对准记号的滤色器基板6,以搬运机构1将形成有对准记号之一侧做领头搬运该滤色器6,藉摄影机构3摄取对准记号与像素,再以控制机构4依据摄影机构3所取得对准记号的检出输出来算出滤色器基板6上之基准位置与曝光光学系2之光罩17上预先设置基准位置间之位置差,为了修正该位置差,将摄影机构3与曝光光学系2,在与搬运机构1的滤色器基板载置面平行的面内,向直交于滤色器基板6之搬运方向一起移动,而透过光罩17,将曝光光源12所发射之曝光光线照射于滤色器基板6。