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1. 发明专利

TW202030145A 用於凸印一奈米結構之方法及裝置审中-公开
简体标题：用于凸印一奈米结构之方法及设备
公开(公告)号：TW202030145A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW109114811
申请日：2015-03-24
申请人：奧地利商EV集團E塔那有限公司 , EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人：克蘭帝爾杰洛德 , KREINDL, GERALD
IPC分类号： B82Y10/00 , B82B3/00 , G03F7/20 , B41F19/02 , B29C59/02 , H01L21/027
摘要：本發明係關於一種用於自一奈米結構印模(5)凸印一奈米結構(13)至已經施塗至一基板(7)之一可固化材料(8)之一印模表面(14)中的方法，其具有以下步驟，尤其以下順序： - 相對於該印模表面(14)之該奈米結構(13)的對準， - 藉由以下步驟之該印模表面(14)的凸印： A) 藉由該奈米結構印模(5)之變形而對該奈米結構印模(5)預加應力，及/或藉由該基板(7)之變形而對該基板(7)預加應力， B) 使該印模表面(14)之一部分區域(15)與該奈米結構印模(5)接觸，及 C) 至少部分地，尤其主要地藉由對該奈米結構印模(5)之該預加應力及/或對該基板(7)之該預加應力而自動接觸該剩餘表面(16)。
简体摘要：本发明系关于一种用于自一奈米结构印模(5)凸印一奈米结构(13)至已经施涂至一基板(7)之一可固化材料(8)之一印模表面(14)中的方法，其具有以下步骤，尤其以下顺序： - 相对于该印模表面(14)之该奈米结构(13)的对准， - 借由以下步骤之该印模表面(14)的凸印： A) 借由该奈米结构印模(5)之变形而对该奈米结构印模(5)预加应力，及/或借由该基板(7)之变形而对该基板(7)预加应力， B) 使该印模表面(14)之一部分区域(15)与该奈米结构印模(5)接触，及 C) 至少部分地，尤其主要地借由对该奈米结构印模(5)之该预加应力及/或对该基板(7)之该预加应力而自动接触该剩余表面(16)。

2. 发明专利

TWI679098B 用於生產光學玻璃元件之方法有权
简体标题：用于生产光学玻璃组件之方法
公开(公告)号：TWI679098B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW104130484
申请日：2015-09-15
申请人：奧地利商EV集團E塔那有限公司 , EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人：克蘭帝爾杰洛德 , KREINDL, GERALD , 喬依琪幕斯特法 , CHOUIKI, MUSTAPHA
IPC分类号： B29C43/00 , B29C43/34 , B29D11/00

3. 发明专利

TW201544447A 用於凸印一奈米結構之方法及裝置审中-公开
简体标题：用于凸印一奈米结构之方法及设备
公开(公告)号：TW201544447A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW104109441
申请日：2015-03-24
申请人： EV集團E塔那有限公司 , EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人：克蘭帝爾杰洛德 , KREINDL, GERALD
IPC分类号： B82B3/00 , B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： B41F19/02 , G03F7/0002 , G03F7/70733 , G03F7/70783
摘要：本發明係關於一種用於自一奈米結構印模(5)凸印一奈米結構(13)至已經施塗至一基板(7)之一可固化材料(8)之一印模表面(14)中的方法，其具有以下步驟，尤其以下順序：相對於該印模表面(14)之該奈米結構(13)的對準，藉由以下步驟之該印模表面(14)的凸印：A)藉由該奈米結構印模(5)之變形而對該奈米結構印模(5)預加應力，及/或藉由該基板(7)之變形而對該基板(7)預加應力，B)使該印模表面(14)之一部分區域(15)與該奈米結構印模(5)接觸，及C)至少部分地，尤其主要地藉由對該奈米結構印模(5)之該預加應力及/或對該基板(7)之該預加應力而自動接觸該剩餘表面(16)。
简体摘要：本发明系关于一种用于自一奈米结构印模(5)凸印一奈米结构(13)至已经施涂至一基板(7)之一可固化材料(8)之一印模表面(14)中的方法，其具有以下步骤，尤其以下顺序：相对于该印模表面(14)之该奈米结构(13)的对准，借由以下步骤之该印模表面(14)的凸印：A)借由该奈米结构印模(5)之变形而对该奈米结构印模(5)预加应力，及/或借由该基板(7)之变形而对该基板(7)预加应力，B)使该印模表面(14)之一部分区域(15)与该奈米结构印模(5)接触，及C)至少部分地，尤其主要地借由对该奈米结构印模(5)之该预加应力及/或对该基板(7)之该预加应力而自动接触该剩余表面(16)。

4. 发明专利

TW201617195A 用於生產光學玻璃元件之方法审中-公开
简体标题：用于生产光学玻璃组件之方法
公开(公告)号：TW201617195A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW104130484
申请日：2015-09-15
申请人： EV集團E塔那有限公司 , EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人：克蘭帝爾杰洛德 , KREINDL, GERALD , 喬依琪幕斯特法 , CHOUIKI, MUSTAPHA
IPC分类号： B29C43/00 , B29C43/34 , B29D11/00
CPC分类号： C03B19/12 , G02B3/00 , G02B3/0031 , Y02P40/57
摘要：本發明提出一種用於生產一光學玻璃元件(13)之方法，該方法具有以下程序序列：a)將一液體壓印材料(4)施加於一壓印模具(1)上，b)在小於500℃之一溫度下壓印該壓印材料(4)，c)使該壓印材料(4)硬化，d)燒結該壓印材料(4、4’)且因此執行該光學玻璃元件(13)之成形。此外，本發明提出使用該方法生產之一光學玻璃元件、用於實施該方法之一裝置及此裝置之使用。
简体摘要：本发明提出一种用于生产一光学玻璃组件(13)之方法，该方法具有以下进程串行：a)将一液体压印材料(4)施加于一压印模具(1)上，b)在小于500℃之一温度下压印该压印材料(4)，c)使该压印材料(4)硬化，d)烧结该压印材料(4、4’)且因此运行该光学玻璃组件(13)之成形。此外，本发明提出使用该方法生产之一光学玻璃组件、用于实施该方法之一设备及此设备之使用。

5. 发明专利

TWI594465B 用於產生一多色層之方法及基板及具有多色層之發光二極體有权
简体标题：用于产生一多色层之方法及基板及具有多色层之发光二极管
公开(公告)号：TWI594465B
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：TW101134827
申请日：2012-09-21
申请人： EV集團E塔那有限公司 , EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人：烏爾曼湯瑪斯 , UHRMANN, THOMAS , 克蘭帝爾杰洛德 , KREINDL, GERALD
IPC分类号： H01L33/50
CPC分类号： H01L33/502 , H01L33/505 , H01L2924/0002 , H01L2933/0041 , H01L2924/00

6. 发明专利

TWI543928B 奈米結構模、壓花輪、奈米結構之連續壓花的裝置及方法有权
简体标题：奈米结构模、压花轮、奈米结构之连续压花的设备及方法
公开(公告)号：TWI543928B
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW101145503
申请日：2012-12-04
申请人： EV集團E塔那有限公司 , EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人：克蘭帝爾杰洛德 , KREINDL, GERALD , 格林瑟湯瑪斯 , GLINSNER, THOMAS , 威普林格馬克斯 , WIMPLINGER, MARKUS
IPC分类号： B82Y40/00
CPC分类号： B29C59/002 , B29C35/0888 , B29C59/021 , B29C59/04 , B29C59/043 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002

7. 发明专利

TWI545030B 用於壓紋之結構印模、裝置及方法有权
简体标题：用于压纹之结构印模、设备及方法
公开(公告)号：TWI545030B
公开(公告)日：2016-08-11
申请号：TW102128367
申请日：2013-08-07
申请人： EV集團E塔那有限公司 , EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人：克蘭帝爾杰洛德 , KREINDL, GERALD , 航明雅各 , HARMING, JAKOB , 泰納克利斯汀 , THANNER, CHRISTINE , 史空克里斯丁 , 費雪彼得 , FISCHER, PETER
IPC分类号： B41N1/24
CPC分类号： B29C59/022 , B29C59/002 , B29C2059/023 , B29K2821/003 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0017

8. 发明专利

TW201410492A 用於壓紋之結構印模、裝置及方法审中-公开
简体标题：用于压纹之结构印模、设备及方法
公开(公告)号：TW201410492A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102128367
申请日：2013-08-07
申请人： EV集團E塔那有限公司 , EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人：克蘭帝爾杰洛德 , KREINDL, GERALD , 航明雅各 , HARMING, JAKOB , 泰納克利斯汀 , THANNER, CHRISTINE , 史空克里斯丁 , 費雪彼得 , FISCHER, PETER
IPC分类号： B41N1/24
CPC分类号： B29C59/022 , B29C59/002 , B29C2059/023 , B29K2821/003 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0017
摘要：本發明係關於一種結構印模(5)，其具有-一撓性印模(1)，其具有用於一壓紋結構之壓紋之一經微結構化或經奈米結構化印模表面(2)，該壓紋結構對應於一壓紋表面(6o)上之該印模表面(2)，-一框架(3)，用於夾持該印模(1)。此外，本發明係關於一種用於在一壓紋表面()上壓紋一壓紋圖案之裝置，其具有以下特徵：-一印模接納器，用於容納如前述請求項中任一項之一結構印模(5)，及移動該結構印模(5)，-一壓紋材料接納器，用於容納一壓紋材料(6)，及相對於該結構印模(5)放置該壓紋材料(6)，-一壓紋元件驅動器，用於沿該結構印模(5)移動尤其是根據請求項3、4、7或8中任一項製成之一壓紋元件(8)。此外，本發明係關於一種對應之方法。
简体摘要：本发明系关于一种结构印模(5)，其具有-一挠性印模(1)，其具有用于一压纹结构之压纹之一经微结构化或经奈米结构化印模表面(2)，该压纹结构对应于一压纹表面(6o)上之该印模表面(2)，-一框架(3)，用于夹持该印模(1)。此外，本发明系关于一种用于在一压纹表面()上压纹一压纹图案之设备，其具有以下特征：-一印模接纳器，用于容纳如前述请求项中任一项之一结构印模(5)，及移动该结构印模(5)，-一压纹材料接纳器，用于容纳一压纹材料(6)，及相对于该结构印模(5)放置该压纹材料(6)，-一压纹组件驱动器，用于沿该结构印模(5)移动尤其是根据请求项3、4、7或8中任一项制成之一压纹组件(8)。此外，本发明系关于一种对应之方法。

9. 发明专利

TW201328966A 奈米結構模、壓花輪、奈米結構之連續壓花的裝置及方法审中-公开
简体标题：奈米结构模、压花轮、奈米结构之连续压花的设备及方法
公开(公告)号：TW201328966A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW101145503
申请日：2012-12-04
申请人： EV集團E塔那有限公司 , EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人：克蘭帝爾杰洛德 , KREINDL, GERALD , 格林瑟湯瑪斯 , GLINSNER, THOMAS , 威普林格馬克斯 , WIMPLINGER, MARKUS
IPC分类号： B82Y40/00
CPC分类号： B29C59/002 , B29C35/0888 , B29C59/021 , B29C59/04 , B29C59/043 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要：本發明係關於一種具有一凹入彎曲之奈米結構化模表面(7f)的奈米結構模，其用於一壓花輪之一封套表面之至少一周邊環在分步重複程序中的無縫壓花，及一種用於具有一壓花層(13)之奈米結構之連續壓花的壓花輪，該壓花層(13)已施加在一繞轉主體(5)上，其中一封套表面(13o)具有至少一周邊環(15)，該周邊環至少在周邊方向上製成無縫的且在該分步重複程序中壓花。此外，本發明係關於用於製造用於奈米結構之連續壓花之此壓花輪(16)的一種方法及一種裝置，以及一種用於製造此奈米結構模(1)之方法及一種用於製造一壓花基板(18)之方法。
简体摘要：本发明系关于一种具有一凹入弯曲之奈米结构化模表面(7f)的奈米结构模，其用于一压花轮之一封套表面之至少一周边环在分步重复进程中的无缝压花，及一种用于具有一压花层(13)之奈米结构之连续压花的压花轮，该压花层(13)已施加在一绕转主体(5)上，其中一封套表面(13o)具有至少一周边环(15)，该周边环至少在周边方向上制成无缝的且在该分步重复进程中压花。此外，本发明系关于用于制造用于奈米结构之连续压花之此压花轮(16)的一种方法及一种设备，以及一种用于制造此奈米结构模(1)之方法及一种用于制造一压花基板(18)之方法。

10. 发明专利

TW201324876A 用於產生一多色層之方法及基板及具有多色層之發光二極體审中-公开
简体标题：用于产生一多色层之方法及基板及具有多色层之发光二极管
公开(公告)号：TW201324876A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101134827
申请日：2012-09-21
申请人： EV集團E塔那有限公司 , EV GROUP E. THALLNER GMBH
发明人：威普林格馬克斯 , WIMPLINGER, MARKUS , 烏爾曼湯瑪斯 , UHRMANN, THOMAS , 克蘭帝爾杰洛德 , KREINDL, GERALD
IPC分类号： H01L33/50
CPC分类号： H01L33/502 , H01L33/505 , H01L2924/0002 , H01L2933/0041 , H01L2924/00
摘要：本發明係關於一種用於將含有至少一個發光構件之一多色層施加於一半導體基板上之方法，該層適合於產生一單色光。如本發明中所主張，藉助一印刷程序、尤其藉助一微接觸印刷程序施加該多色層。較佳地，結構化施加該多色層。
简体摘要：本发明系关于一种用于将含有至少一个发光构件之一多色层施加于一半导体基板上之方法，该层适合于产生一单色光。如本发明中所主张，借助一印刷进程、尤其借助一微接触印刷进程施加该多色层。较佳地，结构化施加该多色层。

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