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1. 发明专利

TW201413378A 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜的元件审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的组件
公开(公告)号：TW201413378A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW101135626
申请日：2012-09-27
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：陳凱民 , CHEN, KAIMIN , 施俊安 , SHIH, CHUNAN
IPC分类号： G03F7/027 , C08K5/42 , C08K5/205 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0045
摘要：本發明提供一本發明提供一感光性樹脂組成物，包含：鹼可溶性樹脂(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六個(甲基)丙烯醯基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，及溶劑(D)。本發明還提供一由上述感光性樹脂組成物形成的保護膜，及一具有該保護膜的元件。
简体摘要：本发明提供一本发明提供一感光性树脂组成物，包含：碱可溶性树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)，及溶剂(D)。本发明还提供一由上述感光性树脂组成物形成的保护膜，及一具有该保护膜的组件。

2. 发明专利

TWI453543B 正型感光性樹脂組成物及其應用有权
简体标题：正型感光性树脂组成物及其应用
公开(公告)号：TWI453543B
公开(公告)日：2014-09-21
申请号：TW101117459
申请日：2012-05-16
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：陳凱民 , CHEN, KAI MIN , 施俊安 , SHIH, CHUN AN
IPC分类号： G03F7/039 , H01L29/786 , G02F1/133
CPC分类号： H01L29/786 , C08G8/24 , G03F7/0085 , G03F7/0226 , G03F7/0236 , G03F7/20 , G03F7/38 , H01L21/02107 , H01L27/1288

3. 发明专利

TWI488943B 蝕刻膏組成物及其應用有权
简体标题：蚀刻膏组成物及其应用
公开(公告)号：TWI488943B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW102115287
申请日：2013-04-29
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：陳凱民 , CHEN, KAI MIN , 施俊安 , SHIH, CHUN AN
IPC分类号： C09K13/00 , C09K13/08 , H01L21/311 , H01L21/306

4. 发明专利

TW201441346A 蝕刻膏組成物及其應用审中-公开
简体标题：蚀刻膏组成物及其应用
公开(公告)号：TW201441346A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW102115287
申请日：2013-04-29
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：陳凱民 , CHEN, KAI MIN , 施俊安 , SHIH, CHUN AN
IPC分类号： C09K13/00 , C09K13/08 , H01L21/311 , H01L21/306
摘要：本發明提供一種蝕刻膏組成物，包含：含氟化合物(A)；溶劑(B)，包括芳香醇類溶劑(B-1)、水(B-2)及其他溶劑(B-3)；微粒(C)，是選自於聚合物微粒(C-1)、無機化合物微粒(C-2)，或此等之一組合；有機增稠劑(D)；及酸(E)，是選自於有機酸(E-1)、無機酸(E-2)，或此等之一組合。本發明另提供一種蝕刻方法，是將前述的蝕刻膏組成物絲網印刷於觸控面板之基板的氧化矽層或氮化矽層上，之後進行蝕刻步驟及清洗步驟。該蝕刻膏組成物經時安定性良好，適用於絲網印刷之操作。
简体摘要：本发明提供一种蚀刻膏组成物，包含：含氟化合物(A)；溶剂(B)，包括芳香醇类溶剂(B-1)、水(B-2)及其他溶剂(B-3)；微粒(C)，是选自于聚合物微粒(C-1)、无机化合物微粒(C-2)，或此等之一组合；有机增稠剂(D)；及酸(E)，是选自于有机酸(E-1)、无机酸(E-2)，或此等之一组合。本发明另提供一种蚀刻方法，是将前述的蚀刻膏组成物丝网印刷于触摸皮肤之基板的氧化硅层或氮化硅层上，之后进行蚀刻步骤及清洗步骤。该蚀刻膏组成物经时安定性良好，适用于丝网印刷之操作。

5. 发明专利

TW201409175A 正型感光性樹脂組成物及其圖案形成方法审中-公开
简体标题：正型感光性树脂组成物及其图案形成方法
公开(公告)号：TW201409175A
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW101131364
申请日：2012-08-29
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：陳凱民 , CHEN, KAIMIN , 施俊安 , SHIH, CHUNAN
IPC分类号： G03F7/039 , C08L61/06 , C08K5/42 , C08K5/23 , C08K5/18 , C08K5/34 , H01L21/027 , H01L29/786 , G02F1/133
CPC分类号： G03F7/022 , G02F1/136 , G03F7/0226 , G03F7/0236 , G03F7/20 , H01L29/786
摘要：本發明係有關一種正型感光性樹脂組成物及其形成圖案的方法。此正型感光性樹脂組成物包含酚醛清漆樹脂(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸類之酯化物(B)、染料(C)以及溶劑(D)。上述之酚醛清漆樹脂(A)包含羥基型酚醛清漆樹脂(A-1)，其係由羥基苯甲醛類化合物與芳香族羥基化合物縮合而得。上述之染料(C)包含由雙偶氮系染料、蒽醌系染料及三價鉻偶氮系染料所組成的一群組中至少選自一種(C-1)，及三芳甲烷系染料(C-2)。此正型感光性樹脂組成物可於金屬線路上形成細小顯色圖案，且在蝕刻後顏色不脫落，有利於遮蔽金屬線路的反射光線。
简体摘要：本发明系有关一种正型感光性树脂组成物及其形成图案的方法。此正型感光性树脂组成物包含酚醛清漆树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸类之酯化物(B)、染料(C)以及溶剂(D)。上述之酚醛清漆树脂(A)包含羟基型酚醛清漆树脂(A-1)，其系由羟基苯甲醛类化合物与芳香族羟基化合物缩合而得。上述之染料(C)包含由双偶氮系染料、蒽醌系染料及三价铬偶氮系染料所组成的一群组中至少选自一种(C-1)，及三芳甲烷系染料(C-2)。此正型感光性树脂组成物可于金属线路上形成细小显色图案，且在蚀刻后颜色不脱落，有利于屏蔽金属线路的反射光线。

6. 发明专利

TWI474112B 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜的元件有权
简体标题：感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的组件
公开(公告)号：TWI474112B
公开(公告)日：2015-02-21
申请号：TW101135626
申请日：2012-09-27
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：陳凱民 , CHEN, KAIMIN , 施俊安 , SHIH, CHUNAN
IPC分类号： G03F7/027 , C08K5/42 , C08K5/205 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0045

7. 发明专利

TWI470359B 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜的元件有权
简体标题：感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的组件
公开(公告)号：TWI470359B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：TW101135627
申请日：2012-09-27
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：陳凱民 , CHEN, KAIMIN , 施俊安 , SHIH, CHUNAN
IPC分类号： G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/0005 , G03F7/0045 , G03F7/022 , G03F7/0755

8. 发明专利

TWI467334B 正型感光性樹脂組成物及其圖案形成方法有权
简体标题：正型感光性树脂组成物及其图案形成方法
公开(公告)号：TWI467334B
公开(公告)日：2015-01-01
申请号：TW101131364
申请日：2012-08-29
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：陳凱民 , CHEN, KAIMIN , 施俊安 , SHIH, CHUNAN
IPC分类号： G03F7/039 , C08L61/06 , C08K5/42 , C08K5/23 , C08K5/18 , C08K5/34 , H01L21/027 , H01L29/786 , G02F1/133
CPC分类号： G03F7/022 , G02F1/136 , G03F7/0226 , G03F7/0236 , G03F7/20 , H01L29/786

9. 发明专利

TW201413388A 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜的元件审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的组件
公开(公告)号：TW201413388A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW101135627
申请日：2012-09-27
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：陳凱民 , CHEN, KAIMIN , 施俊安 , SHIH, CHUNAN
IPC分类号： G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/0005 , G03F7/0045 , G03F7/022 , G03F7/0755
摘要：本發明提供一感光性樹脂組成物，包含：鹼可溶性樹脂(A)、鄰萘醌二疊氮磺酸酯(B)、含2個以上硫醇基的倍半矽氧烷(C)，及溶劑(D)。其中，該含2個以上硫醇基的倍半矽氧烷(C)是一矽烷材料的水解縮合產物，該矽烷材料包括具有式(I)結構的含硫醇基之矽烷：RaSi(ORb)3 (I)式(I)中，Ra、Rb是如說明書及申請專利範圍中所定義。本發明還提供一由上述感光性樹脂組成物形成的保護膜，及一具有該保護膜的元件。
简体摘要：本发明提供一感光性树脂组成物，包含：碱可溶性树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、含2个以上硫醇基的倍半硅氧烷(C)，及溶剂(D)。其中，该含2个以上硫醇基的倍半硅氧烷(C)是一硅烷材料的水解缩合产物，该硅烷材料包括具有式(I)结构的含硫醇基之硅烷：RaSi(ORb)3 (I)式(I)中，Ra、Rb是如说明书及申请专利范围中所定义。本发明还提供一由上述感光性树脂组成物形成的保护膜，及一具有该保护膜的组件。

10. 发明专利

TWI444774B 正型感光性樹脂組成物及其應用有权
简体标题：正型感光性树脂组成物及其应用
公开(公告)号：TWI444774B
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW100147873
申请日：2011-12-22
申请人：奇美實業股份有限公司 , CHI MEI CORPORATION
发明人：陳凱民 , CHEN, KAI MIN , 施俊安 , SHIH, CHUN AN
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027 , H01L29/786 , G02F1/133
CPC分类号： G03F7/039 , G02F1/1333 , G03F7/0007 , G03F7/0045 , G03F7/0236 , Y10T428/1086

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