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1. 发明专利

TW201117452A 具有吸氣材料之密封封裝 HERMETIC PACKAGE WITH GETTER MATERIALS 审中-公开
简体标题：具有吸气材料之密封封装 HERMETIC PACKAGE WITH GETTER MATERIALS
公开(公告)号：TW201117452A
公开(公告)日：2011-05-16
申请号：TW099124770
申请日：2010-07-27
申请人：奇異電器公司
发明人：瑞卡夫史帝芬 , 法奎哈爾唐諾西頓 , 海勒克麗斯汀馬莉雅安東 , 兒雷特艾美特古
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L51/5268 , H01L51/5246 , H01L51/5259
摘要：有機發光裝置包括一透明基板、佈置在該透明基板上的一第一透明電極、一第二電極、被夾在該等電極之間的一電致發光層及佈置在與該第一透明電極相對之該基板的一發光表面上之一吸氣層，且包括選自鈹、鎂、鈣、鍶、鋇、鐳及鈦的一金屬。
简体摘要：有机发光设备包括一透明基板、布置在该透明基板上的一第一透明电极、一第二电极、被夹在该等电极之间的一电致发光层及布置在与该第一透明电极相对之该基板的一发光表面上之一吸气层，且包括选自铍、镁、钙、锶、钡、镭及钛的一金属。

2. 发明专利

TW201202453A 處理多層薄膜之方法 METHOD OF PROCESSING MULTILAYER FILM 审中-公开
简体标题：处理多层薄膜之方法 METHOD OF PROCESSING MULTILAYER FILM
公开(公告)号：TW201202453A
公开(公告)日：2012-01-16
申请号：TW100111418
申请日：2011-03-31
申请人：奇異電器公司
发明人：海勒克麗斯汀馬莉雅安東 , 道高安尼雷 , 克伊雷丹尼斯喬瑟夫 , 顏旻 , 兒雷特艾美特古 , 趙日安
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C16/403 , C23C16/045 , C23C16/402 , C23C16/45525 , C23C26/00
摘要：本發明提供一種處理一多層薄膜之方法。該方法包含提供一基板薄膜，其具有一基板薄膜第一表面及一基板薄膜第二表面。該方法亦包含提供鄰近於該基板薄膜第二表面之一障壁層。該障壁層具有至少一開口，該至少一開口允許該基板薄膜與該障壁層之一外表面之間之流體連通。此外，該方法包含使該基板薄膜第一表面與一第一反應物接觸，且最終使該障壁層之該外表面與一第二反應物接觸，該第二反應物係與該第一反應物反應。使該基板薄膜第一表面與該第一反應物接觸及使該障壁層之該外表面與該第二反應物接觸的方法係在其中該第一反應物與該第二反應物之間的反應導致一反應層的形成的條件下執行。
简体摘要：本发明提供一种处理一多层薄膜之方法。该方法包含提供一基板薄膜，其具有一基板薄膜第一表面及一基板薄膜第二表面。该方法亦包含提供邻近于该基板薄膜第二表面之一障壁层。该障壁层具有至少一开口，该至少一开口允许该基板薄膜与该障壁层之一外表面之间之流体连通。此外，该方法包含使该基板薄膜第一表面与一第一反应物接触，且最终使该障壁层之该外表面与一第二反应物接触，该第二反应物系与该第一反应物反应。使该基板薄膜第一表面与该第一反应物接触及使该障壁层之该外表面与该第二反应物接触的方法系在其中该第一反应物与该第二反应物之间的反应导致一反应层的形成的条件下运行。

3. 发明专利

TW201123968A 在一有機發光二極體之基板上用於形成一圖樣塗佈之裝置及方法 APPARATUS AND METHODS TO FORM A PATTERNED COATING ON AN OLED SUBSTRATE 审中-公开
简体标题：在一有机发光二极管之基板上用于形成一图样涂布之设备及方法 APPARATUS AND METHODS TO FORM A PATTERNED COATING ON AN OLED SUBSTRATE
公开(公告)号：TW201123968A
公开(公告)日：2011-07-01
申请号：TW099130532
申请日：2010-09-09
申请人：奇異電器公司
发明人：顏旻 , 杜納爾賴瑞吉尼 , 兒雷特艾美特古 , 孟拿漢威廉法蘭西斯 , 史密斯大衛J
IPC分类号： H05B , H01L , C23C
CPC分类号： H01L51/56 , C23C14/042 , C23C14/562 , H01L51/0021 , H01L51/5092 , H01L51/5221
摘要：本發明提供一種用於以一連續捲軸式基於氣相之沈積程序將一圖樣塗佈施覆至一OLED基板的裝置,該裝置包括:一氣相沈積源、一處理鼓、一驅動輥子及一遮蔽遮罩,其中該遮蔽遮罩包括選擇性防止該塗佈沈積於該基板上的一遮罩線特徵。本發明亦提出一種用於施覆該塗佈的方法。
简体摘要：本发明提供一种用于以一连续卷轴式基于气相之沉积进程将一图样涂布施覆至一OLED基板的设备,该设备包括:一气相沉积源、一处理鼓、一驱动辊子及一屏蔽遮罩,其中该屏蔽遮罩包括选择性防止该涂布沉积于该基板上的一遮罩线特征。本发明亦提出一种用于施覆该涂布的方法。

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