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    • 2. 发明专利
    • 薄膜封裝結構及具有其的顯示裝置
    • 薄膜封装结构及具有其的显示设备
    • TW201830611A
    • 2018-08-16
    • TW107116227
    • 2018-05-14
    • 大陸商昆山國顯光電有限公司KUNSHAN GO-VISIONOX OPTO-ELECTRONICS CO., LTD.
    • 劉勝芳LIU, SHENGFANG李雪原LI, XUEYUAN朱平ZHU, PING朱可ZHU, KE呂孝鵬LV, XIAOPENG宋豔芹SONG, YANQIN
    • H01L23/31H01L51/56H01L27/32
    • 本發明提供的一種薄膜封裝結構,包括佈置於被封裝裝置一側的交替層疊的多個無機膜層和至少一個有機膜層,多個無機膜層包括N層無機膜層,由內向外依次為第一無機膜層至第N無機膜層,且N≥2;其中,第一無機膜層的折射率由內向外逐漸增加。上述薄膜封裝結構,鄰近被封裝裝置的第一無機膜層部分採用如溫度較低或者功率較低的沉積方法形成,能夠降低沉積過程對被封裝裝置的損傷,同時遠離被封裝裝置的第一無機膜層的第N層能夠採用溫度相對較高或者功率相對較高的沉積方法形成折射率高、缺陷少、更為緻密的無機層,能夠提高封裝結構的水氧阻隔能力,大大提高封裝產品的儲存壽命。
    • 本发明提供的一种薄膜封装结构,包括布置于被封装设备一侧的交替层叠的多个无机膜层和至少一个有机膜层,多个无机膜层包括N层无机膜层,由内向外依次为第一无机膜层至第N无机膜层,且N≥2;其中,第一无机膜层的折射率由内向外逐渐增加。上述薄膜封装结构,邻近被封装设备的第一无机膜层部分采用如温度较低或者功率较低的沉积方法形成,能够降低沉积过程对被封装设备的损伤,同时远离被封装设备的第一无机膜层的第N层能够采用温度相对较高或者功率相对较高的沉积方法形成折射率高、缺陷少、更为致密的无机层,能够提高封装结构的水氧阻隔能力,大大提高封装产品的存储寿命。