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1. 发明专利

TW202002941A 化妝料审中-公开
简体标题：化妆料
公开(公告)号：TW202002941A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108110837
申请日：2019-03-28
申请人：日商大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION
发明人：鈴木陽二 , SUZUKI, YOUJI , 坂西裕一 , SAKANISHI, YUICHI
IPC分类号： A61K8/42 , A61K8/06 , A61K8/92 , A61Q1/00 , A61Q1/10 , A61Q17/04 , A61Q19/00
摘要：本發明提供一種分散穩定性、對皮膚或睫毛或眉毛之附著性、及延展性優異，藉由向皮膚、睫毛、或眉毛塗抹而可賦予能夠長時間持續之光澤感或潤澤感之化妝料。本發明提供一種化妝料，其係含有增黏劑（A）與油劑（B）者，並且相對於增黏劑（A）與油劑（B）之含量之和而包含0.5～35.0重量%之下述式（1）所表示之化合物作為增黏劑（A），且相對於增黏劑（A）與油劑（B）之含量之和而包含65.0～99.5重量%之油劑（B）。
简体摘要：本发明提供一种分散稳定性、对皮肤或睫毛或眉毛之附着性、及延展性优异，借由向皮肤、睫毛、或眉毛涂抹而可赋予能够长时间持续之光泽感或润泽感之化妆料。本发明提供一种化妆料，其系含有增黏剂（A）与油剂（B）者，并且相对于增黏剂（A）与油剂（B）之含量之和而包含0.5～35.0重量%之下述式（1）所表示之化合物作为增黏剂（A），且相对于增黏剂（A）与油剂（B）之含量之和而包含65.0～99.5重量%之油剂（B）。

2. 发明专利

TW201718786A 電氣裝置製造用溶劑組成物审中-公开
简体标题：电气设备制造用溶剂组成物
公开(公告)号：TW201718786A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105110452
申请日：2016-04-01
申请人：大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION
发明人：坂西裕一 , SAKANISHI, YUICHI , 鈴木陽二 , SUZUKI, YOUJI
IPC分类号： C09D11/033 , H01B1/22 , H01G4/232 , H01G4/30
CPC分类号： C09D11/033 , H01B1/22 , H01G4/232 , H01G4/30
摘要：本發明係提供一種溶劑組成物，其係藉由印刷法形成電子裝置用之油墨所使用的溶劑組成物，其可達到列印精度提升、低溫燒成、殘留灰分量的抑制。本發明之溶劑組成物包含溶劑與下述化合物(A)；化合物(A)：下述式(1)(R2-HNOC)4-n-R1-(CONH-R3)n (1) (式中，R1為從苯、二苯甲酮、聯苯、或萘的結構式移除4個氫原子之基，R2為碳數1~5之脂肪族烴基，R3為碳數6以上之脂肪族烴基；n表示1~3之整數) 所示之化合物及/或下述式(2)R4-(CONH-R5)4 (2) (式中，R4為從丁烷的結構式移除4個氫原子之基，R5為碳數1以上之脂肪族烴基) 所示之化合物。
简体摘要：本发明系提供一种溶剂组成物，其系借由印刷法形成电子设备用之油墨所使用的溶剂组成物，其可达到打印精度提升、低温烧成、残留灰分量的抑制。本发明之溶剂组成物包含溶剂与下述化合物(A)；化合物(A)：下述式(1)(R2-HNOC)4-n-R1-(CONH-R3)n (1) (式中，R1为从苯、二苯甲酮、联苯、或萘的结构式移除4个氢原子之基，R2为碳数1~5之脂肪族烃基，R3为碳数6以上之脂肪族烃基；n表示1~3之整数) 所示之化合物及/或下述式(2)R4-(CONH-R5)4 (2) (式中，R4为从丁烷的结构式移除4个氢原子之基，R5为碳数1以上之脂肪族烃基) 所示之化合物。

3. 发明专利

TWI680163B 利用印刷法之電子零件之製造用溶劑有权
简体标题：利用印刷法之电子零件之制造用溶剂
公开(公告)号：TWI680163B
公开(公告)日：2019-12-21
申请号：TW105101632
申请日：2016-01-20
申请人：日商大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION
发明人：赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI , 鈴木陽二 , SUZUKI, YOUJI , 橫尾健 , YOKOO, TAKESHI , 森篤史 , MORI, ATSUSHI , 角井健 , SUMII, KEN
IPC分类号： C09D11/033 , C09D11/52 , C07C43/10 , H05K3/12 , H01G4/12

4. 发明专利

TW201718469A 增黏安定劑、及使用其之增黏安定化組成物审中-公开
简体标题：增黏安定剂、及使用其之增黏安定化组成物
公开(公告)号：TW201718469A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105127622
申请日：2016-08-29
申请人：大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION , 國立大學法人山口大學 , YAMAGUCHI UNIVERSITY
发明人：坂西裕一 , SAKANISHI, YUICHI , 赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI , 鈴木陽二 , SUZUKI, YOUJI , 佐伯隆 , SAEKI, TAKASHI
IPC分类号： C07C235/70 , C07C233/00 , C09D7/00 , C08K5/20 , A23L29/20 , A61K8/42 , A61K47/16
摘要：提供一種將流動性有機物質增黏或膠化至所期望的黏度，或將含有流動性有機物質的組成物予以均勻地安定化的化合物。本發明之化合物為下述式(1)所示。式中，R1表示從苯、環己烷、丁烷、二苯甲酮、聯苯、或萘的結構式去除4個氫原子而成之基，R2表示碳數4以上的脂肪族烴基。n表示1~3的整數。當n為2或3時，2或3個的R2分別可為相同亦可為不同。
简体摘要：提供一种将流动性有机物质增黏或胶化至所期望的黏度，或将含有流动性有机物质的组成物予以均匀地安定化的化合物。本发明之化合物为下述式(1)所示。式中，R1表示从苯、环己烷、丁烷、二苯甲酮、联苯、或萘的结构式去除4个氢原子而成之基，R2表示碳数4以上的脂肪族烃基。n表示1~3的整数。当n为2或3时，2或3个的R2分别可为相同亦可为不同。

5. 发明专利

TWI575311B 光阻製造用溶劑或溶劑組成物有权
简体标题：光阻制造用溶剂或溶剂组成物
公开(公告)号：TWI575311B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW101107440
申请日：2012-03-06
申请人：大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION
发明人：鈴木陽二 , SUZUKI, YOUJI , 赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/031

6. 发明专利

TW201638247A 電子裝置製造用溶劑組成物审中-公开
简体标题：电子设备制造用溶剂组成物
公开(公告)号：TW201638247A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105103084
申请日：2016-02-01
申请人：大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION
发明人：鈴木陽二 , SUZUKI, YOUJI , 坂西裕一 , SAKANISHI, YUICHI , 赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI
IPC分类号： C09D11/033 , C09D11/03 , H05K3/12
CPC分类号： C09D11/033 , H01G4/232 , H01G4/30 , H05K1/09
摘要：本發明提供一種溶劑組成物，其係藉由印刷法形成電子裝置之配線或電極用的印墨中所使用之溶劑組成物，其可提升印墨之印字精度，能夠以低溫進行燒結，可抑制燒結後產生的灰分量使灰分量極低。本發明之電子裝置製造用溶劑組成物為藉由印刷法製造電子裝置用之印墨中所用的溶劑組成物，其係含有溶劑與下式(1)所示之化合物。下式中，R表示碳數1以上之脂肪族烴基。又，式中的4個R係全部為相同的基、或2種不同的基。
简体摘要：本发明提供一种溶剂组成物，其系借由印刷法形成电子设备之配线或电极用的印墨中所使用之溶剂组成物，其可提升印墨之印字精度，能够以低温进行烧结，可抑制烧结后产生的灰分量使灰分量极低。本发明之电子设备制造用溶剂组成物为借由印刷法制造电子设备用之印墨中所用的溶剂组成物，其系含有溶剂与下式(1)所示之化合物。下式中，R表示碳数1以上之脂肪族烃基。又，式中的4个R系全部为相同的基、或2种不同的基。

7. 发明专利

TW201412689A 有機電晶體製造用溶劑或溶劑組成物审中-公开
简体标题：有机晶体管制造用溶剂或溶剂组成物
公开(公告)号：TW201412689A
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：TW102120633
申请日：2013-06-11
申请人：大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION
发明人：鈴木陽二 , SUZUKI, YOUJI , 橫尾健 , YOKOO, TAKESHI , 赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI
IPC分类号： C07C273/18 , C07D233/32 , C07D239/36 , H01L51/05
CPC分类号： H01L51/0054 , H01L51/0007 , H01L51/0055 , H01L51/0074 , H01L51/0558
摘要：本發明係提供一種有機電晶體製造用溶劑或溶劑組成物，其係有機半導體材料之溶解性佳，且可形成結晶性高之有機電晶體。本發明的有機電晶體製造用溶劑或溶劑組成物，係為有機半導體材料溶解用的溶劑或溶劑組成物，且含有下述式(A)所示的溶劑A。式(A)中，R1~R4為相同或不同，且為C1-2的烷基。R1與R4亦可相互鍵結並與式中的-N(R2)-C(=O)-N(R3)-一起形成環。
简体摘要：本发明系提供一种有机晶体管制造用溶剂或溶剂组成物，其系有机半导体材料之溶解性佳，且可形成结晶性高之有机晶体管。本发明的有机晶体管制造用溶剂或溶剂组成物，系为有机半导体材料溶解用的溶剂或溶剂组成物，且含有下述式(A)所示的溶剂A。式(A)中，R1~R4为相同或不同，且为C1-2的烷基。R1与R4亦可相互键结并与式中的-N(R2)-C(=O)-N(R3)-一起形成环。

8. 发明专利

TW202002940A 清潔化妝料审中-公开
简体标题：清洁化妆料
公开(公告)号：TW202002940A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108110835
申请日：2019-03-28
申请人：日商大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION
发明人：鈴木陽二 , SUZUKI, YOUJI , 坂西裕一 , SAKANISHI, YUICHI
IPC分类号： A61K8/39 , A61K8/42 , A61K8/86 , A61K8/92 , A61Q1/14
摘要：本發明提供一種清潔化妝料，其係油性污垢之洗淨力優異，且可利用水沖洗者，並且於取至手上時不易滴落，延展性優異，尤其於填充至泵方式之容器中時之噴出性優異。本發明提供一種清潔化妝料，其係包含增黏劑（A）、油劑（B）及界面活性劑（C）者，並且相對於增黏劑（A）與油劑（B）之含量之和而包含0.5～30.0重量%之下述式（1）所表示之化合物作為增黏劑（A），且相對於增黏劑（A）與油劑（B）之含量之和而包含70.0～99.5重量%之油劑（B）。
简体摘要：本发明提供一种清洁化妆料，其系油性污垢之洗净力优异，且可利用水冲洗者，并且于取至手上时不易滴落，延展性优异，尤其于填充至泵方式之容器中时之喷出性优异。本发明提供一种清洁化妆料，其系包含增黏剂（A）、油剂（B）及界面活性剂（C）者，并且相对于增黏剂（A）与油剂（B）之含量之和而包含0.5～30.0重量%之下述式（1）所表示之化合物作为增黏剂（A），且相对于增黏剂（A）与油剂（B）之含量之和而包含70.0～99.5重量%之油剂（B）。

9. 发明专利

TWI650373B 有機電晶體製造用溶劑及其用途有权
简体标题：有机晶体管制造用溶剂及其用途
公开(公告)号：TWI650373B
公开(公告)日：2019-02-11
申请号：TW103140168
申请日：2014-11-20
申请人：大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION
发明人：鈴木陽二 , SUZUKI, YOUJI , 橫尾健 , YOKOO, TAKESHI , 赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI
IPC分类号： C08L79/04 , C08L65/00 , C08K5/00 , H01L23/28 , H01L29/786 , H01L51/30

10. 发明专利

TWI665272B 塗布型絕緣膜形成用組成物有权
简体标题：涂布型绝缘膜形成用组成物
公开(公告)号：TWI665272B
公开(公告)日：2019-07-11
申请号：TW104128941
申请日：2015-09-02
申请人：日商大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION
发明人：赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI , 鈴木陽二 , SUZUKI, YOUJI , 橫尾健 , YOKOO, TAKESHI
IPC分类号： C09D5/25 , C09D123/02 , C09D145/00 , C09D7/40 , H01B3/44

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