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1. 发明专利

TW462091B 電漿製程用裝置有权
简体标题：等离子制程用设备
公开(公告)号：TW462091B
公开(公告)日：2001-11-01
申请号：TW089107988
申请日：2000-04-27
申请人：大見忠弘 , 日本真空技術股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 平山昌樹 , 中川雅嗣
IPC分类号： H01L , C23F
CPC分类号： H01L21/67069 , H01J2237/2001 , H01L21/67109
摘要： [課題]
提供一種電漿製程用裝置，該裝置可減少消耗電力之損失，並可縮短製程時間以及提昇產率。[解決手段]
該電漿製程用裝置包括:一絕緣隔熱裝置(絕緣隔熱用板7C)，設立在容器(容器本體l)內之底部，係使用可用來隔絕高頻率之介電常數低且可用來隔熱之導熱係數小的材料所作成;一載置裝置(平臺7A、冷卻板7B)，用來裝載被處理物，係疊在絕緣隔熱裝置上而設立，具有施加高頻率以產生偏壓之電極;以及一溫度調整裝置(配管5A,5B、冷卻裝置5C、通路701)，設立在載置裝置上，係用來控制該載置裝置之溫度。
简体摘要： [课题] 提供一种等离子制程用设备，该设备可减少消耗电力之损失，并可缩短制程时间以及提升产率。[解决手段] 该等离子制程用设备包括:一绝缘隔热设备(绝缘隔热用板7C)，设立在容器(容器本体l)内之底部，系使用可用来隔绝高频率之介电常数低且可用来隔热之导热系数小的材料所作成;一载置设备(平台7A、冷却板7B)，用来装载被处理物，系叠在绝缘隔热设备上而设立，具有施加高频率以产生偏压之电极;以及一温度调整设备(配管5A,5B、冷却设备5C、通路701)，设立在载置设备上，系用来控制该载置设备之温度。

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