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    • 1. 发明专利
    • 用於增幅型光阻之共聚合物
    • 用于增幅型光阻之共聚合物
    • TW593363B
    • 2004-06-21
    • TW092104048
    • 2003-02-26
    • 國際商業機器股份有限公司 INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
    • 伊藤 博 ITO, HIROSHI
    • C08F
    • G03F7/0382G03F7/0046G03F7/0392G03F7/0395Y10S430/108
    • 提供一種共聚合物,以應用於一微影光阻組成物,特別是一化學增幅型光阻。於一較佳具體實施例中,此共聚合物實質上可被深紫外光區放射線所穿透,即波長低於250nm,其包括157nm、193nm以及248nm之輻射線,並具有改良之敏感度及解析度。於一實施例中,共聚合物包含有一α-氰基-或一α-三氟-甲基丙烯酸酯單體單元,以及一乙烯醚單體單元。本發明亦提供包含一氟化共聚合物之一微影光阻組成物,以及係利用此組成物於一基板上產生光阻影像之製程,即應用於一積體電路製造或其他情況。
    • 提供一种共聚合物,以应用于一微影光阻组成物,特别是一化学增幅型光阻。于一较佳具体实施例中,此共聚合物实质上可被深紫外光区放射线所穿透,即波长低于250nm,其包括157nm、193nm以及248nm之辐射线,并具有改良之敏感度及分辨率。于一实施例中,共聚合物包含有一α-氰基-或一α-三氟-甲基丙烯酸酯单体单元,以及一乙烯醚单体单元。本发明亦提供包含一氟化共聚合物之一微影光阻组成物,以及系利用此组成物于一基板上产生光阻影像之制程,即应用于一集成电路制造或其他情况。