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    • 1. 发明专利
    • 壓印微影模仁之製造方法
    • 压印微影模仁之制造方法
    • TW200823965A
    • 2008-06-01
    • TW095144552
    • 2006-11-30
    • 國立清華大學 NATIONAL TSING HUA UNIVERSITY
    • 廖振良陳建亨葉鳳生
    • H01L
    • G03F7/0002B82Y10/00B82Y40/00G03F7/0017
    • 一種壓印微影模仁之製造方法,係利用一低介電常數材料於低溫烘烤時其結構轉換之特性,只需配合一低劑量之電子束微影技術,即可製作出高硬度與高深寬比之壓印微影製程之模仁,並減少後續之光阻底部殘留層及反應離子蝕刻製程之蝕刻時間,進而增加最終光阻遮罩區域之厚度,以提高製程之穩定度與前後製程之整合度。另,本發明係適用於現有次微米(小於0.5���m)線寬以下至奈米級(~10nm)線寬之壓印微影模仁製程方法之重要解決的方案。
    • 一种压印微影模仁之制造方法,系利用一低介电常数材料于低温烘烤时其结构转换之特性,只需配合一低剂量之电子束微影技术,即可制作出高硬度与高深宽比之压印微影制程之模仁,并减少后续之光阻底部残留层及反应离子蚀刻制程之蚀刻时间,进而增加最终光阻遮罩区域之厚度,以提高制程之稳定度与前后制程之集成度。另,本发明系适用于现有次微米(小于0.5���m)线宽以下至奈米级(~10nm)线宽之压印微影模仁制程方法之重要解决的方案。