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    • 2. 发明专利
    • 與全像影像投影系統及方法一樣的反射光垂系統及追蹤系統
    • 与全像影像投影系统及方法一样的反射光垂系统及追踪系统
    • TW200809259A
    • 2008-02-16
    • TW096116997
    • 2007-05-11
    • 喜瑞爾工業公司 SEEREAL TECHNOLOGIES S. A.
    • 史威特亞密 SCHWERTNER, ARMIN
    • G02BG03H
    • G03H1/22G02B5/32G02B27/0037G02B27/0068G02B27/225G02B27/4211G02B27/4294G02F1/1354G02F2203/01G02F2203/12G02F2203/50G03H1/2205G03H1/2294
    • 本發明是關於一種光學反射系統(10,11),具有一反射元件(14,15),用以反射重建光波,具有一入射邊焦點(28),當重建光波碰到反射元件時由此處進來,並具有一出射邊焦點(26),重建光波在由反射元件(14,15)反射後傳播至該處。本發明更有關於具有此光學反射系統之一種追蹤系統和一種全像投影系統,以及一種對應的全像投影之方法。為了以此光學反射系統(1O,11)達成相差校正、可見區域追蹤、以及比使用先前技術設備更大的重建,本案之光學反射系統(10,11)包含:一具有可光控制的偏向性質之偏向元件(12,13),和一偏向控制裝置(42,43),用以光控制此偏向元件(12,13)之偏向性質,該偏向元件至少控制此光學反射系統 (10,11)之出射邊焦點(26)的位置。
    • 本发明是关于一种光学反射系统(10,11),具有一反射组件(14,15),用以反射重建光波,具有一入射边焦点(28),当重建光波碰到反射组件时由此处进来,并具有一出射边焦点(26),重建光波在由反射组件(14,15)反射后传播至该处。本发明更有关于具有此光学反射系统之一种追踪系统和一种全像投影系统,以及一种对应的全像投影之方法。为了以此光学反射系统(1O,11)达成相差校正、可见区域追踪、以及比使用先前技术设备更大的重建,本案之光学反射系统(10,11)包含:一具有可光控制的偏向性质之偏向组件(12,13),和一偏向控制设备(42,43),用以光控制此偏向组件(12,13)之偏向性质,该偏向组件至少控制此光学反射系统 (10,11)之出射边焦点(26)的位置。
    • 4. 发明专利
    • 緊密的三維影像顯示裝置(二) COMPACT THREE DIMENSIONAL IMAGE DISPLAY DEVICE
    • 紧密的三维影像显示设备(二) COMPACT THREE DIMENSIONAL IMAGE DISPLAY DEVICE
    • TW200841042A
    • 2008-10-16
    • TW096140506
    • 2007-10-26
    • 喜瑞爾工業公司 SEEREAL TECHNOLOGIES S. A.
    • 克羅保 KROLL, BO哈伯勒瑞福 HAUBLER, RALF史威特亞密 SCHWERTNER, ARMIN
    • G02B
    • 本案為一種全像顯示裝置,包含:一第一有機發光二極體陣列,係寫至一第一光學式定址空間光調變器上;該第一有機發光二極體陣列與該第一光學式定址空間光調變器係形成相鄰層;一第二有機發光二極體陣列,係寫至一第二光學式定址空間光調變器上;該第二有機發光二極體陣列與該第二光學式定址空間光調變器係形成相鄰層;該第一及該第二光學式定址空間光調變器係編碼一全像圖;當一讀取光束陣列照射該第一及該第二光學式定址空間光調變器,並且該第一及該第二光學式定址空間光調變器經由該第一及該第二有機發光二極體陣列進行適當的控制時,該裝置係產生一全像重建。
    • 本案为一种全像显示设备,包含:一第一有机发光二极管数组,系写至一第一光学式寻址空间光调制器上;该第一有机发光二极管数组与该第一光学式寻址空间光调制器系形成相邻层;一第二有机发光二极管数组,系写至一第二光学式寻址空间光调制器上;该第二有机发光二极管数组与该第二光学式寻址空间光调制器系形成相邻层;该第一及该第二光学式寻址空间光调制器系编码一全像图;当一读取光束数组照射该第一及该第二光学式寻址空间光调制器,并且该第一及该第二光学式寻址空间光调制器经由该第一及该第二有机发光二极管数组进行适当的控制时,该设备系产生一全像重建。