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1. 发明专利

TWI555250B 有機電激發光元件用之光取出透明基板及使用此之有機電激發光元件有权
简体标题：有机电激发光组件用之光取出透明基板及使用此之有机电激发光组件
公开(公告)号：TWI555250B
公开(公告)日：2016-10-21
申请号：TW101115196
申请日：2012-04-27
申请人：吉坤日礦日石能源股份有限公司 , JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：西村涼 , NISHIMURA, SUZUSHI , 鄭旬紋 , JEONG, SOON MOON , 福田真林 , FUKUDA, MAKI , 柴沼俊彥 , SHIBANUMA, TOSHIHIKO
IPC分类号： H01L51/50 , H01L51/56
CPC分类号： F21V13/10 , B82Y20/00 , H01L51/52 , H01L51/5275 , Y10S977/834

2. 发明专利

TW201306343A 有機電激發光元件用之光取出透明基板及使用此之有機電激發光元件审中-公开
简体标题：有机电激发光组件用之光取出透明基板及使用此之有机电激发光组件
公开(公告)号：TW201306343A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101115196
申请日：2012-04-27
申请人：吉坤日礦日石能源股份有限公司 , JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：西村涼 , NISHIMURA, SUZUSHI , 鄭旬紋 , JEONG, SOON MOON , 福田真林 , FUKUDA, MAKI , 柴沼俊彥 , SHIBANUMA, TOSHIHIKO
IPC分类号： H01L51/50 , H01L51/56
CPC分类号： F21V13/10 , B82Y20/00 , H01L51/52 , H01L51/5275 , Y10S977/834
摘要：本發明係關於有機電激發光元件用之光取出透明基板及使用此之有機電激發光元件，具備配置於有機電激發光元件之光(L)之射出面側而使用之透明支持基板(10)的有機電激發光元件用之光取出透明基板中，於使用於有機電激發光元件時，在成為透明支持基板(10)之有機電激發光元件之光(L)之入射面(10A)的面側，具備由在表面形成有第一凹凸的第一凹凸層所成繞射光柵(11)，於使用於有機電激發光元件時，在成為透明支持基板(10)之有機電激發光元件之光(L)之射出面(10B)的面側，具備由在表面形成有第二凹凸的第二凹凸層所成微透鏡(12)，前述第一及第二之凹凸之形狀則各別在該凹凸形狀經由原子力顯微鏡解析所得之凹凸解析畫像，施以2次元高速傅立葉變換處理，得傅立葉變換像之時，前述傅立葉變換像顯示波數之絕對值為0μm-1之原點成為略中心之圓狀或圓環狀之模樣之形狀之有機電激發光元件用之光取出透明基板。
简体摘要：本发明系关于有机电激发光组件用之光取出透明基板及使用此之有机电激发光组件，具备配置于有机电激发光组件之光(L)之射出面侧而使用之透明支持基板(10)的有机电激发光组件用之光取出透明基板中，于使用于有机电激发光组件时，在成为透明支持基板(10)之有机电激发光组件之光(L)之入射面(10A)的面侧，具备由在表面形成有第一凹凸的第一凹凸层所成绕射光栅(11)，于使用于有机电激发光组件时，在成为透明支持基板(10)之有机电激发光组件之光(L)之射出面(10B)的面侧，具备由在表面形成有第二凹凸的第二凹凸层所成微透镜(12)，前述第一及第二之凹凸之形状则各别在该凹凸形状经由原子力显微镜解析所得之凹凸解析画像，施以2次元高速傅里叶变换处理，得傅里叶变换像之时，前述傅里叶变换像显示波数之绝对值为0μm-1之原点成为略中心之圆状或圆环状之模样之形状之有机电激发光组件用之光取出透明基板。

3. 发明专利

TWI574812B 細微圖案轉印用模的製造方法以及使用該方法之具有凹凸結構之基板的製造方法以及具備形成有該凹凸結構之基板的有機電致發光元件之製造方法有权
简体标题：细微图案转印用模的制造方法以及使用该方法之具有凹凸结构之基板的制造方法以及具备形成有该凹凸结构之基板的有机电致发光组件之制造方法
公开(公告)号：TWI574812B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW102112033
申请日：2013-04-03
申请人：吉坤日礦日石能源股份有限公司 , JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：關隆史 , SEKI, TAKASHI , 增山聡 , MASUYAMA, SATOSHI , 福田真林 , FUKUDA, MAKI , 西村涼 , NISHIMURA, SUZUSHI
IPC分类号： B29C33/38 , B29C33/42 , G02B5/18 , H01L51/50
CPC分类号： B29C33/3878 , B29C33/3807 , B29C33/3842 , B29C33/424 , B29C45/263 , B29C59/022 , B29C59/026 , B29C2033/385 , B29C2059/023 , B29K2105/0061 , B29K2825/08 , B29K2833/12 , B29L2011/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C25D1/10 , G03F7/0002 , G03F7/165 , H01L51/5262 , H01L51/5275 , H01L51/56 , H05B33/10

4. 发明专利

TW201523952A 發光元件及發光元件之製造方法审中-公开
简体标题：发光组件及发光组件之制造方法
公开(公告)号：TW201523952A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW103127564
申请日：2014-08-12
申请人：吉坤日礦日石能源股份有限公司 , JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：福田真林 , FUKUDA, MAKI , 西村涼 , NISHIMURA, SUZUSHI , 鳥山重隆 , TORIYAMA, SHIGETAKA , 關隆史 , SEKI, TAKASHI
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/02 , H05B33/04 , H05B33/10
CPC分类号： H01L51/5253 , H01L51/5209 , H01L51/5225 , H01L51/5246 , H01L51/5268 , H01L51/5275
摘要：一種發光元件100，包括：基材40、與前述基材40相對向配置的密封部件101、凹凸結構層142、第1電極92、有機層94、第2電極98以及接著劑層103，依照前述凹凸結構層142、前述第1電極92、前述有機層94以及前述第2電極98的順序形成於前述基材40上，前述接著劑層103位於前述基材40與前述密封部件101之間，前述凹凸結構層142的外緣142c，位於前述接著劑層103的內緣103a與前述接著劑層的外緣103b之間。發光元件100由於具備用作為繞射光柵的凹凸結構層142而光取出效率高，而且發光部以充分的密封性能而密封，能夠抑制水分或氧的侵入所致的發光部的劣化，而為長壽命。
简体摘要：一种发光组件100，包括：基材40、与前述基材40相对向配置的密封部件101、凹凸结构层142、第1电极92、有机层94、第2电极98以及接着剂层103，依照前述凹凸结构层142、前述第1电极92、前述有机层94以及前述第2电极98的顺序形成于前述基材40上，前述接着剂层103位于前述基材40与前述密封部件101之间，前述凹凸结构层142的外缘142c，位于前述接着剂层103的内缘103a与前述接着剂层的外缘103b之间。发光组件100由于具备用作为绕射光栅的凹凸结构层142而光取出效率高，而且发光部以充分的密封性能而密封，能够抑制水分或氧的侵入所致的发光部的劣化，而为长寿命。

5. 发明专利

TW201607020A 具有凹凸構造之膜構件审中-公开
简体标题：具有凹凸构造之膜构件
公开(公告)号：TW201607020A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104115371
申请日：2015-05-14
申请人：吉坤日礦日石能源股份有限公司 , JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：佐藤祐輔 , SATO, YUSUKE , 福田真林 , FUKUDA, MAKI , 西村涼 , NISHIMURA, SUZUSHI
IPC分类号： H01L27/32 , H01L27/28 , H05B33/10
CPC分类号： H01L51/5275 , H01L51/50 , H01L51/5253 , H01L51/56 , H05B33/02 , H05B33/04 , H05B33/10
摘要：本發明之具有凹凸構造之膜構件100具有基材40、形成於上述基材40上之阻氣層30、及形成於上述阻氣層之表面上之凹凸構造層60，且上述阻氣層30之表面30a與上述凹凸構造層60係由相同之無機材料所構成，且上述凹凸構造層60係由賦予至上述阻氣層30上之前驅物液獲得。具有凹凸構造之膜構件100之凹凸構造層60與阻氣層30之間之密接性優異，且阻隔性較高。
简体摘要：本发明之具有凹凸构造之膜构件100具有基材40、形成于上述基材40上之阻气层30、及形成于上述阻气层之表面上之凹凸构造层60，且上述阻气层30之表面30a与上述凹凸构造层60系由相同之无机材料所构成，且上述凹凸构造层60系由赋予至上述阻气层30上之前驱物液获得。具有凹凸构造之膜构件100之凹凸构造层60与阻气层30之间之密接性优异，且阻隔性较高。

6. 发明专利

TW201532330A 光學基板、用於光學基板製造之模具、及含光學基板之發光元件审中-公开
简体标题：光学基板、用于光学基板制造之模具、及含光学基板之发光组件
公开(公告)号：TW201532330A
公开(公告)日：2015-08-16
申请号：TW103145334
申请日：2014-12-24
申请人：吉坤日礦日石能源股份有限公司 , JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：增山聰 , MASUYAMA, SATOSHI , 關隆史 , SEKI, TAKASHI , 福田真林 , FUKUDA, MAKI , 西村涼 , NISHIMURA, SUZUSHI
IPC分类号： H01L51/50
CPC分类号： G02B5/0221 , B29C33/3842 , B29C33/424 , B29D11/0073 , B29D11/00884 , B29L2011/00 , B29L2031/757 , B82Y20/00 , B82Y40/00 , C08G2261/126 , G02B5/0268 , G02B5/0278 , H01L51/0096 , H01L51/5262 , Y02E10/549 , Y02P70/521
摘要：本發明之一實施形態之光學基板1具備：支持基板2、及積層於支持基板2上且於表面形成有凹凸形狀之凹凸構造層3。凹凸構造層3所含之凸部之延伸方向於俯視上呈不規則分佈。凹凸構造層3之每單位面積之區域所含之凸部的俯視上之輪廓線X係包含直線區間多於曲線區間。
简体摘要：本发明之一实施形态之光学基板1具备：支持基板2、及积层于支持基板2上且于表面形成有凹凸形状之凹凸构造层3。凹凸构造层3所含之凸部之延伸方向于俯视上呈不守则分布。凹凸构造层3之每单位面积之区域所含之凸部的俯视上之轮廓线X系包含直线区间多于曲线区间。

7. 发明专利

TW201402297A 細微圖案轉印用模的製造方法以及使用該方法之具有凹凸結構之基板的製造方法以及具備形成有該凹凸結構之基板的有機電致發光元件之製造方法审中-公开
简体标题：细微图案转印用模的制造方法以及使用该方法之具有凹凸结构之基板的制造方法以及具备形成有该凹凸结构之基板的有机电致发光组件之制造方法
公开(公告)号：TW201402297A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102112033
申请日：2013-04-03
申请人：吉坤日礦日石能源股份有限公司 , JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：關隆史 , SEKI, TAKASHI , 增山聡 , MASUYAMA, SATOSHI , 福田真林 , FUKUDA, MAKI , 西村涼 , NISHIMURA, SUZUSHI
IPC分类号： B29C33/38 , B29C33/42 , G02B5/18 , H01L51/50
CPC分类号： B29C33/3878 , B29C33/3807 , B29C33/3842 , B29C33/424 , B29C45/263 , B29C59/022 , B29C59/026 , B29C2033/385 , B29C2059/023 , B29K2105/0061 , B29K2825/08 , B29K2833/12 , B29L2011/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C25D1/10 , G03F7/0002 , G03F7/165 , H01L51/5262 , H01L51/5275 , H01L51/56 , H05B33/10
摘要：以簡單的製程且高生產量的提供一種細微圖案轉印用的模，該模適用於具有如同繞射光柵之凹凸結構的基板之製造。一種微細圖案轉印用的模的製造方法，包括以下步驟：塗佈步驟，於基材的表面，塗佈包含嵌段共聚物與聚環氧烷的溶液；溶劑相分離步驟，使前述經塗佈的嵌段共聚物在有機溶劑蒸汽存在下相分離，以得到於表面具有凹凸結構且內部為水平柱體結構的嵌段共聚物膜；積層步驟，利用電鑄於金屬層；以及剝離步驟，從前述金屬層將具有前述凹凸結構的基材剝離。
简体摘要：以简单的制程且高生产量的提供一种细微图案转印用的模，该模适用于具有如同绕射光栅之凹凸结构的基板之制造。一种微细图案转印用的模的制造方法，包括以下步骤：涂布步骤，于基材的表面，涂布包含嵌段共聚物与聚环氧烷的溶液；溶剂相分离步骤，使前述经涂布的嵌段共聚物在有机溶剂蒸汽存在下相分离，以得到于表面具有凹凸结构且内部为水平柱体结构的嵌段共聚物膜；积层步骤，利用电铸于金属层；以及剥离步骤，从前述金属层将具有前述凹凸结构的基材剥离。

8. 发明专利

TWI701854B 具有凹凸構造之膜構件及其製造方法、以及有機EL元件有权
简体标题：具有凹凸构造之膜构件及其制造方法、以及有机EL组件
公开(公告)号：TWI701854B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW104115371
申请日：2015-05-14
申请人：日商吉坤日礦日石能源股份有限公司 , JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：佐藤祐輔 , SATO, YUSUKE , 福田真林 , FUKUDA, MAKI , 西村涼 , NISHIMURA, SUZUSHI
IPC分类号： H01L51/50 , H01L27/28 , H05B33/10

9. 发明专利

TWI687724B 光學相位差構件、具備光學相位差構件之複合光學構件、及光學相位差構件之製造方法有权
简体标题：光学相位差构件、具备光学相位差构件之复合光学构件、及光学相位差构件之制造方法
公开(公告)号：TWI687724B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW104123215
申请日：2015-07-17
申请人：日商吉坤日礦日石能源股份有限公司 , JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：福田真林 , FUKUDA, MAKI , 田中大直 , TANAKA, HIRONAO , 西村涼 , NISHIMURA, SUZUSHI
IPC分类号： G02B5/30 , B32B3/30 , B32B7/12

10. 发明专利

TW201604000A 防霧構件及其製造方法审中-公开
简体标题：防雾构件及其制造方法
公开(公告)号：TW201604000A
公开(公告)日：2016-02-01
申请号：TW104111209
申请日：2015-04-08
申请人：吉坤日礦日石能源股份有限公司 , JX NIPPON OIL & ENERGY CORPORATION
发明人：西村涼 , NISHIMURA, SUZUSHI , 福田真林 , FUKUDA, MAKI
IPC分类号： B32B17/06 , B32B3/30 , G02B1/10
CPC分类号： B29C59/046 , B29C2035/0827 , B29C2059/023 , B29K2995/0092 , G02B1/18
摘要：本發明之防霧構件100於基材40上形成有由多個凸部60及凹部70構成之凹凸圖案80。凸部60之表面係由平滑表面之水接觸角為90度以下之材料構成，上述凸部60及上述凹部70具有筆直或彎曲地延伸之細長形狀，且寬度未達10μm。由於水滴沿延伸之方向潤濕擴散，形成水膜，故而防止細小之水滴之殘留。防霧構件100具有優異之防霧性。
简体摘要：本发明之防雾构件100于基材40上形成有由多个凸部60及凹部70构成之凹凸图案80。凸部60之表面系由平滑表面之水接触角为90度以下之材料构成，上述凸部60及上述凹部70具有笔直或弯曲地延伸之细长形状，且宽度未达10μm。由于水滴沿延伸之方向润湿扩散，形成水膜，故而防止细小之水滴之残留。防雾构件100具有优异之防雾性。

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