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1. 发明专利

TW201739961A 去除設置在外殼中表面上之金屬沉積物之方法审中-公开
简体标题：去除设置在外壳中表面上之金属沉积物之方法
公开(公告)号：TW201739961A
公开(公告)日：2017-11-16
申请号：TW106101377
申请日：2017-01-16
申请人：可布斯股份有限公司 , KOBUS SAS
发明人：維提依羅朱利安 , VITIELLO, JULIEN , 皮阿拉提斐賓恩 , PIALLAT, FABIEN
IPC分类号： C23F1/00 , C23G5/00 , B08B7/00 , H01J37/32 , H05K3/40
CPC分类号： C23C14/564 , C07C45/00 , C11D11/0047 , C23C16/4405 , C23F1/12 , C23G5/00 , H01J37/32862
摘要：本發明係關於一種去除設置在外殼(1)中之表面(5)上之金屬沉積物(2)之方法，該方法包含重複實施包含以下者之工序：a)注入適合用於氧化該金屬沉積物(2)之化學物種之第一階段；b)注入適合用於使該經氧化之金屬沉積物揮發之化學物種之第二階段，該第二階段b)係於該第一階段a)之後實施。
简体摘要：本发明系关于一种去除设置在外壳(1)中之表面(5)上之金属沉积物(2)之方法，该方法包含重复实施包含以下者之工序：a)注入适合用于氧化该金属沉积物(2)之化学物种之第一阶段；b)注入适合用于使该经氧化之金属沉积物挥发之化学物种之第二阶段，该第二阶段b)系于该第一阶段a)之后实施。

2. 发明专利

TW201733066A 製造包含穿過基板延伸之通孔之互連的方法审中-公开
简体标题：制造包含穿过基板延伸之通孔之互连的方法
公开(公告)号：TW201733066A
公开(公告)日：2017-09-16
申请号：TW106101376
申请日：2017-01-16
申请人：可布斯股份有限公司 , KOBUS SAS
发明人：維提依羅朱利安 , VITIELLO, JULIEN , 皮阿拉提斐賓恩 , PIALLAT, FABIEN
IPC分类号： H01L23/52 , H01L21/60
CPC分类号： H01L21/76898 , C23C16/45523 , H01L21/28556
摘要：本發明關於製造包含穿過基板(1)延伸之通孔(V)之互連的方法，其依序包含：(a)將氮化鈦或氮化鉭層(11)沉積在基板的主要表面(1A)上，以及在延伸到該基板的至少部分厚度裡之至少一孔洞(10)的內表面(10A、10B)上，(b)將銅層(12)沉積在該氮化鈦或氮化鉭層(11)上，(c)以銅來填充孔洞(10)，該方法的特徵在於：在步驟(a)期間，基板(1)安排於第一沉積腔室(100)中；以及特徵在於：該步驟(a)包含根據第一序列脈衝、經由第一注射途徑而將氣相鈦或鉭前驅物注射到沉積腔室裡，以及包含以第二序列脈衝、經由不同於第一注射途徑的第二注射途徑而將氮基反應性氣體注射到沉積腔室裡，而第一序列脈衝和第二序列脈衝不同相。
简体摘要：本发明关于制造包含穿过基板(1)延伸之通孔(V)之互连的方法，其依序包含：(a)将氮化钛或氮化钽层(11)沉积在基板的主要表面(1A)上，以及在延伸到该基板的至少部分厚度里之至少一孔洞(10)的内表面(10A、10B)上，(b)将铜层(12)沉积在该氮化钛或氮化钽层(11)上，(c)以铜来填充孔洞(10)，该方法的特征在于：在步骤(a)期间，基板(1)安排于第一沉积腔室(100)中；以及特征在于：该步骤(a)包含根据第一串行脉冲、经由第一注射途径而将气相钛或钽前驱物注射到沉积腔室里，以及包含以第二串行脉冲、经由不同于第一注射途径的第二注射途径而将氮基反应性气体注射到沉积腔室里，而第一串行脉冲和第二串行脉冲不同相。

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