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    • 5. 发明专利
    • 加熱腔體裝置 HEATING CHAMBER APPARATUS
    • 加热腔体设备 HEATING CHAMBER APPARATUS
    • TWI325160B
    • 2010-05-21
    • TW096128727
    • 2007-08-03
    • 友達光電股份有限公司
    • 丁振原黃瀅儒吳冠賢
    • H01L
    • 一種加熱腔體裝置,供液晶顯示器電路陣列製程使用。加熱腔體裝置包含加熱腔體、封閉蓋體以及清潔裝置。加熱腔體具有腔體開口。封閉蓋體具有內面,可位於腔體開口處,用以遮蓋腔體開口。清潔裝置具有清潔面。封閉蓋體於移開腔體開口處時接觸清潔面。清潔裝置進一步具有固定件,供固定清潔面。封閉蓋體進一步包含驅動裝置,用以驅動封閉蓋體定位於腔體開口處。驅動裝置包含汽缸及懸臂。懸臂之兩端係分別與汽缸及封閉蓋體連接,當汽缸驅動懸臂時,封閉蓋體與懸臂連動。 A heating chamber apparatus for use with a process for manufacturing an electric array of a liquid crystal displayer is provided. The heating chamber apparatus includes a heating chamber, a sealing cover, and a cleaning device. The heating chamber includes a chamber opening. The closing cover includes an inner face. The closing is capable of disposing in the chamber opening to cover the chamber opening. The cleaning device includes a cleaning face. The closing cover contacts the cleaning face when out off the chamber opening. The cleaning device further includes a fixing part to fix the cleaning face. The closing cover further includes a driving device to drive the closing cover positioned in the chamber opening. The driving device includes a cylinder and an arm. Two ends of the arm are respectively connected with the cylinder and the closing cover. The closing cover moves together with the arm when the arm is droved by the cylinder. 【創作特點】 本發明之一目的係在於提供一種加熱腔體裝置,供液晶顯示器電路陣列加熱製程使用,可減少製程之黑紋矩陣遺漏。
      本發明之另一目的在於提供一種加熱腔體裝置,供液晶顯示器電路陣列加熱製程使用,可提高生產良率。
      本發明之加熱腔體裝置包含加熱腔體、封閉蓋體以及清潔裝置。加熱腔體具有腔體開口。封閉蓋體具有內面,可位於腔體開口處,用以遮蓋腔體開口。清潔裝置具有清潔面。封閉蓋體於移開腔體開口處時接觸清潔面。
      清潔裝置進一步具有固定件,供固定清潔面。固定件包含夾持具及鎖附螺絲。封閉蓋體進一步包含驅動裝置,用以驅動封閉蓋體定位於腔體開口處。驅動裝置包含汽缸及懸臂。懸臂之兩端係分別與汽缸及封閉蓋體連接,當汽缸驅動懸臂時,封閉蓋體與懸臂連動。驅動裝置係設置於加熱腔體上。
      清潔裝置進一步包含底板以及第一彈性部。底板包含外表面及內表面,清潔面係設置於外表面。第一彈性部係設置於加熱腔體及底板間,用以施予彈力至底板。清潔裝置進一步包含導引裝置,連結於加熱腔體。前述底板係以可沿導引裝置移動之方式設置。
      導引裝置包含伸縮桿,第一彈性部係套設於伸縮桿。清潔裝置進一步具有底板固定件,底板固定件係設置於外表面,供夾持固定清潔面。前述底板固定件包含夾持具及鎖附螺絲。
    • 一种加热腔体设备,供液晶显示器电路数组制程使用。加热腔体设备包含加热腔体、封闭盖体以及清洁设备。加热腔体具有腔体开口。封闭盖体具有内面,可位于腔体开口处,用以遮盖腔体开口。清洁设备具有清洁面。封闭盖体于移开腔体开口处时接触清洁面。清洁设备进一步具有固定件,供固定清洁面。封闭盖体进一步包含驱动设备,用以驱动封闭盖体定位于腔体开口处。驱动设备包含汽缸及悬臂。悬臂之两端系分别与汽缸及封闭盖体连接,当汽缸驱动悬臂时,封闭盖体与悬臂连动。 A heating chamber apparatus for use with a process for manufacturing an electric array of a liquid crystal displayer is provided. The heating chamber apparatus includes a heating chamber, a sealing cover, and a cleaning device. The heating chamber includes a chamber opening. The closing cover includes an inner face. The closing is capable of disposing in the chamber opening to cover the chamber opening. The cleaning device includes a cleaning face. The closing cover contacts the cleaning face when out off the chamber opening. The cleaning device further includes a fixing part to fix the cleaning face. The closing cover further includes a driving device to drive the closing cover positioned in the chamber opening. The driving device includes a cylinder and an arm. Two ends of the arm are respectively connected with the cylinder and the closing cover. The closing cover moves together with the arm when the arm is droved by the cylinder. 【创作特点】 本发明之一目的系在于提供一种加热腔体设备,供液晶显示器电路数组加热制程使用,可减少制程之黑纹矩阵遗漏。 本发明之另一目的在于提供一种加热腔体设备,供液晶显示器电路数组加热制程使用,可提高生产良率。 本发明之加热腔体设备包含加热腔体、封闭盖体以及清洁设备。加热腔体具有腔体开口。封闭盖体具有内面,可位于腔体开口处,用以遮盖腔体开口。清洁设备具有清洁面。封闭盖体于移开腔体开口处时接触清洁面。 清洁设备进一步具有固定件,供固定清洁面。固定件包含夹持具及锁附螺丝。封闭盖体进一步包含驱动设备,用以驱动封闭盖体定位于腔体开口处。驱动设备包含汽缸及悬臂。悬臂之两端系分别与汽缸及封闭盖体连接,当汽缸驱动悬臂时,封闭盖体与悬臂连动。驱动设备系设置于加热腔体上。 清洁设备进一步包含底板以及第一弹性部。底板包含外表面及内表面,清洁面系设置于外表面。第一弹性部系设置于加热腔体及底板间,用以施予弹力至底板。清洁设备进一步包含导引设备,链接于加热腔体。前述底板系以可沿导引设备移动之方式设置。 导引设备包含伸缩杆,第一弹性部系套设于伸缩杆。清洁设备进一步具有底板固定件,底板固定件系设置于外表面,供夹持固定清洁面。前述底板固定件包含夹持具及锁附螺丝。