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1. 发明专利

TWI679307B 蝕刻劑組合物、液晶顯示器陣列基板製作方法和陣列基板有权
简体标题：蚀刻剂组合物、液晶显示器数组基板制作方法和数组基板
公开(公告)号：TWI679307B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW105105911
申请日：2016-02-26
申请人：南韓商東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：鄭敬燮 , JUNG, KYUNG SUB , 權五柄 , KWON, O BYOUNG , 金相泰 , KIM, SANG TAE , 朴鏞雲 , PARK, YONG WOON , 梁圭亨 , YANG, GYU HYUNG , 李恩遠 , LEE, EUN WON , 李智娟 , LEE, JI YEON , 崔容碩 , CHOI, YONG SUK
IPC分类号： C23F1/18 , H01L21/336 , H01L21/84 , H01L27/12 , H01L29/786 , G02F1/1368

2. 发明专利

TWI614550B 液晶顯示裝置用陣列基板的製備方法及其多層膜用蝕刻液組合物有权
简体标题：液晶显示设备用数组基板的制备方法及其多层膜用蚀刻液组合物
公开(公告)号：TWI614550B
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW103128514
申请日：2014-08-19
申请人：東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：李恩遠 , LEE, EUN WON , 李智娟 , LEE, JI YEON , 權五柄 , KWON, O BYOUNG , 崔容碩 , CHOI, YONG SUK
IPC分类号： G02F1/133 , C23F1/26 , C23F1/38

3. 发明专利

TW201508383A 液晶顯示裝置用陣列基板的製備方法及其多層膜用蝕刻液組合物审中-公开
简体标题：液晶显示设备用数组基板的制备方法及其多层膜用蚀刻液组合物
公开(公告)号：TW201508383A
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW103128514
申请日：2014-08-19
申请人：東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：李恩遠 , LEE, EUN WON , 李智娟 , LEE, JI YEON , 權五柄 , KWON, O BYOUNG , 崔容碩 , CHOI, YONG SUK
IPC分类号： G02F1/133 , C23F1/26 , C23F1/38
摘要：本發明涉及液晶顯示裝置用陣列基板的製備方法及其多層膜用蝕刻液組合物，其方法包括：步驟a），在基板上形成柵極配線，步驟b），在包含上述柵極配線的基板上形成柵極絕緣層，步驟c），在上述柵極絕緣層上形成半導體層，步驟d），在上述半導體層上形成源極和汲極，以及步驟e），形成與上述汲極相連接的圖元電極，其中，上述步驟a）或步驟d）包括通過對包含鉬類金屬膜或銅類金屬膜的膜進行蝕刻來形成各電極的步驟，上述鉬合金膜為鈮或鎢中的一種以上與鉬的合金，用於蝕刻的上述蝕刻液組合物包括：占組合物總重量中的重量百分比為A）過氧化氫5.0重量百分比～25.0重量百分比；B）氟化合物0.01重量百分比～1.0重量百分比；C）唑類化合物0.1重量百分比～5重量百分比；D）在一個分子內具有氮原子和羧基的水溶性化合物0.1重量百分比～5.0重量百分比；E）磷酸鹽化合物0.1重量百分比～5.0重量百分比；F）多元醇類表面活性劑0.001重量百分比～5.0重量百分比；以及G）水剩餘量，除了上述成分之外，上述蝕刻液組合物不包含有機酸或有機酸鹽、無機酸或無機酸鹽或脂環族胺。
简体摘要：本发明涉及液晶显示设备用数组基板的制备方法及其多层膜用蚀刻液组合物，其方法包括：步骤a），在基板上形成栅极配线，步骤b），在包含上述栅极配线的基板上形成栅极绝缘层，步骤c），在上述栅极绝缘层上形成半导体层，步骤d），在上述半导体层上形成源极和汲极，以及步骤e），形成与上述汲极相连接的图元电极，其中，上述步骤a）或步骤d）包括通过对包含钼类金属膜或铜类金属膜的膜进行蚀刻来形成各电极的步骤，上述钼合金膜为铌或钨中的一种以上与钼的合金，用于蚀刻的上述蚀刻液组合物包括：占组合物总重量中的重量百分比为A）过氧化氢5.0重量百分比～25.0重量百分比；B）氟化合物0.01重量百分比～1.0重量百分比；C）唑类化合物0.1重量百分比～5重量百分比；D）在一个分子内具有氮原子和羧基的水溶性化合物0.1重量百分比～5.0重量百分比；E）磷酸盐化合物0.1重量百分比～5.0重量百分比；F）多元醇类表面活性剂0.001重量百分比～5.0重量百分比；以及G）水剩余量，除了上述成分之外，上述蚀刻液组合物不包含有机酸或有机酸盐、无机酸或无机酸盐或脂环族胺。

4. 发明专利

TW201638392A 蝕刻劑組合物、液晶顯示器陣列基板製作方法和陣列基板审中-公开
简体标题：蚀刻剂组合物、液晶显示器数组基板制作方法和数组基板
公开(公告)号：TW201638392A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW105105911
申请日：2016-02-26
申请人：東友精細化工有限公司 , DONGWOO FINE-CHEM CO., LTD.
发明人：鄭敬燮 , JUNG, KYUNG SUB , 權五柄 , KWON, O BYOUNG , 金相泰 , KIM, SANG TAE , 朴鏞雲 , PARK, YONG WOON , 梁圭亨 , YANG, GYU HYUNG , 李恩遠 , LEE, EUN WON , 李智娟 , LEE, JI YEON , 崔容碩 , CHOI, YONG SUK
IPC分类号： C23F1/18 , H01L21/336 , H01L21/84 , H01L27/12 , H01L29/786 , G02F1/1368
摘要：公開了蝕刻劑組合物、用於液晶顯示器的陣列基板的製作方法和陣列基板。根據本發明，在製作陣列基板時，使銅基金屬層能夠被一步蝕刻，並且，當蝕刻厚金屬層時，即使在增加加工片材數時，也能夠控制側面蝕刻並能夠保持蝕刻速率。
简体摘要：公开了蚀刻剂组合物、用于液晶显示器的数组基板的制作方法和数组基板。根据本发明，在制作数组基板时，使铜基金属层能够被一步蚀刻，并且，当蚀刻厚金属层时，即使在增加加工片材数时，也能够控制侧面蚀刻并能够保持蚀刻速率。

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