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1. 发明专利

TW558674B 新穎阻體之製法有权
简体标题：新颖阻体之制法
公开(公告)号：TW558674B
公开(公告)日：2003-10-21
申请号：TW087115704
申请日：1998-09-21
申请人：克拉瑞國際股份有限公司
发明人：岡崎博 , 蓋格帕洛斯基 , 船戶覺 , 木下義章 , 山口優子(舊姓野崎)
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/039 , C08F8/00 , C08F8/14 , C08F8/18 , C08F212/14 , C08F257/02 , C08F2800/20 , C08F2810/30 , C08L25/18 , C09D125/18 , G03F7/0045 , Y10S430/119 , C08F12/14 , C08F216/125 , C08F220/14 , C08F220/06 , C08F112/14
摘要：本發明係一種製備阻體組成物之方法，其包含把具有酚式羥墓或羧基之鹼溶性聚合物，及乙烯基醚化合物和／或二烷基二碳酸酯，在觸媒存在下，於非質子性溶劑中反應，於反應溶液直接添加光酸發生劑，且必要時之其他添加劑，反應形成的阻體材料不必單離精製，即可得阻體組成物。具有酚式羥基或羧基之鹼溶性聚合物與乙烯基醚化合物反應時，觸媒可用藉光酸發生劑生成的酸同種類之酸，以非芳香族系者為佳，可利用反應停止劑停止反應。反應停止劑可用化學增幅型阻體中所用鹼。而使用二烷基二碳酸酯時，觸媒可用三乙胺，三苯基乙酸醯等鹼性觸媒，不用反應停止劑，可直接添加光酸發生劑。
由於阻體材料不必要設有單離，精製步驟，不但步驟可以簡化，發生省時，經濟效果，而且省略阻體單離，精製步驟所必要的大量有機溶劑和水，不會產生破壞環境肇因的有機廢液、廢水、容易製成KrF eximer雷射曝光用等阻體組成物。
简体摘要：本发明系一种制备阻体组成物之方法，其包含把具有酚式羟墓或羧基之碱溶性聚合物，及乙烯基醚化合物和／或二烷基二碳酸酯，在触媒存在下，于非质子性溶剂中反应，于反应溶液直接添加光酸发生剂，且必要时之其他添加剂，反应形成的阻体材料不必单离精制，即可得阻体组成物。具有酚式羟基或羧基之碱溶性聚合物与乙烯基醚化合物反应时，触媒可用藉光酸发生剂生成的酸同种类之酸，以非芳香族系者为佳，可利用反应停止剂停止反应。反应停止剂可用化学增幅型阻体中所用碱。而使用二烷基二碳酸酯时，触媒可用三乙胺，三苯基乙酸酰等碱性触媒，不用反应停止剂，可直接添加光酸发生剂。由于阻体材料不必要设有单离，精制步骤，不但步骤可以简化，发生省时，经济效果，而且省略阻体单离，精制步骤所必要的大量有机溶剂和水，不会产生破坏环境肇因的有机废液、废水、容易制成KrF eximer激光曝光用等阻体组成物。

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