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1. 发明专利

TW200742938A 防護薄膜組件及防護薄膜組件剝離裝置 PELLICLE AND PELLICLE STRIPPING DEVICE 审中-公开
简体标题：防护薄膜组件及防护薄膜组件剥离设备 PELLICLE AND PELLICLE STRIPPING DEVICE
公开(公告)号：TW200742938A
公开(公告)日：2007-11-16
申请号：TW096117213
申请日：2007-05-15
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：關原一敏 SEKIHARA, KAZUTOSHI
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：本發明提供一種防護薄膜框架,係在貼附到光罩之後,可容易地進行剝離;進一步提供一種裝置,可將光罩所貼附之防護薄膜組件加以無損傷地剝離。本發明之防護薄膜組件的特徵為:係至少一邊之邊長在300mm以上的防護薄膜組件,且於貼附在光罩2之狀態中,在防護薄膜框架1之外側全周80%以上的區域,光罩2及防護薄膜框架1二者間設有寬2mm以上、高0.5mm以上的間隙。又,本發明之防護薄膜組件剝離裝置的特徵為:包含:剝離具7,下部具有平板狀部15;及升降機構12,將該剝離具7保持與光罩2平行之狀態下,而往上方升高。並且,藉由把剝離具7之平板狀部15加以插進防護薄膜框架1及光罩2兩者的間隙,以將光罩2及防護薄膜組件二者分開。
简体摘要：本发明提供一种防护薄膜框架,系在贴附到光罩之后,可容易地进行剥离;进一步提供一种设备,可将光罩所贴附之防护薄膜组件加以无损伤地剥离。本发明之防护薄膜组件的特征为:系至少一边之边长在300mm以上的防护薄膜组件,且于贴附在光罩2之状态中,在防护薄膜框架1之外侧全周80%以上的区域,光罩2及防护薄膜框架1二者间设有宽2mm以上、高0.5mm以上的间隙。又,本发明之防护薄膜组件剥离设备的特征为:包含:剥离具7,下部具有平板状部15;及直升电梯构12,将该剥离具7保持与光罩2平行之状态下,而往上方升高。并且,借由把剥离具7之平板状部15加以插进防护薄膜框架1及光罩2两者的间隙,以将光罩2及防护薄膜组件二者分开。

2. 发明专利

TWI288728B 防護膠膜框架及利用此框架之微影用防護膠膜組件 PELLICLE-FRAME AND PELLICLE ASSEMBLY FOR PHOTOLITHOGRAPHY USING THE PELLICLE FRAME 有权
简体标题：防护胶膜框架及利用此框架之微影用防护胶膜组件 PELLICLE-FRAME AND PELLICLE ASSEMBLY FOR PHOTOLITHOGRAPHY USING THE PELLICLE FRAME
公开(公告)号：TWI288728B
公开(公告)日：2007-10-21
申请号：TW094128199
申请日：2005-08-18
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：關原一敏 SEKIHARA, KAZUTOSHI
IPC分类号： B65B , H01L
CPC分类号： G03F1/64
摘要：一種防護膠膜框架以及使用該框架之微影用防護膠膜組件，其不僅能藉由防護膠膜膜片的張力防止框架向內側彎曲，使曝光面積減少，亦能得到尺寸精確度以及對光罩之貼附位置精確度良好的防護膠膜組件。
本發明的框架，其特徵為於框體至少一對的邊，具有中央部分為朝外側凸出的圓弧形狀部分，其兩側為朝外側凹入的圓弧形狀部分，再更兩外側為直線形狀部分。再者，朝外側凹入圓弧形狀部分的半徑為朝外側凸出圓弧形狀部分的半徑的1/3以上為宜。
本發明特別適用於框架至少一對的邊長為400mm以上之大型框架。
简体摘要：一种防护胶膜框架以及使用该框架之微影用防护胶膜组件，其不仅能借由防护胶膜膜片的张力防止框架向内侧弯曲，使曝光面积减少，亦能得到尺寸精确度以及对光罩之贴附位置精确度良好的防护胶膜组件。本发明的框架，其特征为于框体至少一对的边，具有中央部分为朝外侧凸出的圆弧形状部分，其两侧为朝外侧凹入的圆弧形状部分，再更两外侧为直线形状部分。再者，朝外侧凹入圆弧形状部分的半径为朝外侧凸出圆弧形状部分的半径的1/3以上为宜。本发明特别适用于框架至少一对的边长为400mm以上之大型框架。

3. 发明专利

TW200607576A 模具式塗佈器之塗佈方法及利用此方法所製造之微影用防護膠膜組件 DIE-COATING METHOD AND PELLICLE FOR PHOTOLITHOGRAPHY MANUFACTURED BY THE SAME METHOD 审中-公开
简体标题：模具式涂布器之涂布方法及利用此方法所制造之微影用防护胶膜组件 DIE-COATING METHOD AND PELLICLE FOR PHOTOLITHOGRAPHY MANUFACTURED BY THE SAME METHOD
公开(公告)号：TW200607576A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：TW094128362
申请日：2005-08-19
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：關原一敏 SEKIHARA, KAZUTOSHI
IPC分类号： B05C
CPC分类号： G03F1/62 , B05C5/0254 , B05D1/265 , Y10T428/3154 , Y10T428/31971
摘要：本發明之目的為確立在模具式塗佈器之模具之維修．管理方式，並以低成本得到含極少異物之大型防護膠膜組件。為達成前述目的，本發明提供一種模具式塗佈器之塗佈方法，其特徵為預先令模具前端浸泡於或接觸在容器等所儲存之塗佈液體；使用時藉著向上方緩緩的升高之方式，利用塗佈液體之表面張力，在模具前端形成無液滴之狀態後，向基板上排出塗佈液體而進行塗佈。於不進行塗佈時，較佳的情況是：令模具時常浸泡於或接觸塗佈液體，同時並使通過過濾器之塗佈液體由模具前端連續或間歇的排出，且對於液中之模具進行超音波清潔。
简体摘要：本发明之目的为确立在模具式涂布器之模具之维修．管理方式，并以低成本得到含极少异物之大型防护胶膜组件。为达成前述目的，本发明提供一种模具式涂布器之涂布方法，其特征为预先令模具前端浸泡于或接触在容器等所存储之涂布液体；使用时借着向上方缓缓的升高之方式，利用涂布液体之表面张力，在模具前端形成无液滴之状态后，向基板上排出涂布液体而进行涂布。于不进行涂布时，较佳的情况是：令模具时常浸泡于或接触涂布液体，同时并使通过过滤器之涂布液体由模具前端连续或间歇的排出，且对于液中之模具进行超音波清洁。

4. 发明专利

TW200902400A 防護薄膜組件收納容器及其製造方法 PELLICLE STORAGE CONTAINER AND METHOD OF MANUFACTURING SAME 审中-公开
简体标题：防护薄膜组件收纳容器及其制造方法 PELLICLE STORAGE CONTAINER AND METHOD OF MANUFACTURING SAME
公开(公告)号：TW200902400A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW097111862
申请日：2008-04-01
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：關原一敏 SEKIHARA, KAZUTOSHI
IPC分类号： B65D , H01L
摘要：本發明之目的在提供一種乾淨且成本低廉的防護薄膜組件收納容器,其在真空成形後以適當的加工方法對外周圍進行加工,使端面沒有毛邊等瑕疵。為達到上述目的,先將樹脂片材真空成形,再切削除去片材周圍的剩餘部分,製得防護薄膜組件收納容器構件,接著,對該剩餘部分除去後的表面部分實施有機溶劑塗布等的溶解處理。便能輕易溶解除去切削加工後表面所生的毛邊,使表面平滑,而以成本低廉的方式獲得端面清潔的防護薄膜組件收納容器。
简体摘要：本发明之目的在提供一种干净且成本低廉的防护薄膜组件收纳容器,其在真空成形后以适当的加工方法对外周围进行加工,使端面没有毛边等瑕疵。为达到上述目的,先将树脂片材真空成形,再切削除去片材周围的剩余部分,制得防护薄膜组件收纳容器构件,接着,对该剩余部分除去后的表面部分实施有机溶剂涂布等的溶解处理。便能轻易溶解除去切削加工后表面所生的毛边,使表面平滑,而以成本低廉的方式获得端面清洁的防护薄膜组件收纳容器。

5. 发明专利

TW200832053A 對防護薄膜框架塗布膜接合劑之方法 METHOD OF APPLYING FILM ADHESIVE TO PELLICLE FRAME 审中-公开
简体标题：对防护薄膜框架涂布膜接合剂之方法 METHOD OF APPLYING FILM ADHESIVE TO PELLICLE FRAME
公开(公告)号：TW200832053A
公开(公告)日：2008-08-01
申请号：TW097101601
申请日：2008-01-16
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：關原一敏 SEKIHARA, KAZUTOSHI
IPC分类号： G03F
摘要：本發明提供一種外觀良好之接合劑層的形成方法,其可在寬度較大的防護薄膜框架上平均塗布適量的接合劑,而不會發生未塗布或溢出的情況。在本發明之對防護薄膜框架端面塗布膜接合劑的方法中,係以一面從吐出口連續滴下膜接合劑一面使吐出口移動的方式進行塗布,此時,將設有吐出口之構件的外徑寬度設在防護薄膜框架寬度的60~120%的範圍內。即使對於具有寬度較大之膜接合面的防護薄膜框架、長邊與短邊之膜接合面寬度不同的防護薄膜框架、甚至4角形以外的防護薄膜框架,也能平均穩定的塗布適量的接合劑,而不會發生未塗布或溢出的情況。結果,便能形成外觀良好的膜接合劑層。
简体摘要：本发明提供一种外观良好之接合剂层的形成方法,其可在宽度较大的防护薄膜框架上平均涂布适量的接合剂,而不会发生未涂布或溢出的情况。在本发明之对防护薄膜框架端面涂布膜接合剂的方法中,系以一面从吐出口连续滴下膜接合剂一面使吐出口移动的方式进行涂布,此时,将设有吐出口之构件的外径宽度设在防护薄膜框架宽度的60~120%的范围内。即使对于具有宽度较大之膜接合面的防护薄膜框架、长边与短边之膜接合面宽度不同的防护薄膜框架、甚至4角形以外的防护薄膜框架,也能平均稳定的涂布适量的接合剂,而不会发生未涂布或溢出的情况。结果,便能形成外观良好的膜接合剂层。

6. 发明专利

TW200819363A 防護薄膜組件包裝用緩衝體及包裝方法 BUFFERING MATERIAL FOR PACKAGING PELLICLE AND PACKAGING METHOD 审中-公开
简体标题：防护薄膜组件包装用缓冲体及包装方法 BUFFERING MATERIAL FOR PACKAGING PELLICLE AND PACKAGING METHOD
公开(公告)号：TW200819363A
公开(公告)日：2008-05-01
申请号：TW096139236
申请日：2007-10-19
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：關原一敏 SEKIHARA, KAZUTOSHI , 野崎聰 NOZAKI, SATOSHI
IPC分类号： B65D
摘要：本發明旨在提供一防護薄膜組件包裝用緩衝體,以及使用此緩衝體之防護薄膜組件包裝方法,係於運送防護薄膜組件的過程中,對於輸送容器所產生的各種振動、撞擊,能保護防護薄膜組件及防護薄膜組件殼體。並且藉由防止該等結構與零件產生粉塵,以保持防護薄膜組件於潔淨之狀態,且可於此狀態下安全地運送。本發明之防護薄膜組件包裝用緩衝體1於防護薄膜組件之輸送容器6內,設置凹凸部2於配置在防護薄膜組件殼體3之底面的該緩衝體1的表面,而該表面係接觸防護薄膜組件殼體3。藉由使用此緩衝體1之防護薄膜組件的包裝方法,相較於習知所用的平板狀緩衝體,可大幅提高緩衝效果。因此,能減少運送時的振動、撞擊,且可在防護薄膜組件上未附著異物而不受污染之狀態下,將其保持潔淨狀態而輸送。
简体摘要：本发明旨在提供一防护薄膜组件包装用缓冲体,以及使用此缓冲体之防护薄膜组件包装方法,系于运送防护薄膜组件的过程中,对于输送容器所产生的各种振动、撞击,能保护防护薄膜组件及防护薄膜组件壳体。并且借由防止该等结构与零件产生粉尘,以保持防护薄膜组件于洁净之状态,且可于此状态下安全地运送。本发明之防护薄膜组件包装用缓冲体1于防护薄膜组件之输送容器6内,设置凹凸部2于配置在防护薄膜组件壳体3之底面的该缓冲体1的表面,而该表面系接触防护薄膜组件壳体3。借由使用此缓冲体1之防护薄膜组件的包装方法,相较于习知所用的平板状缓冲体,可大幅提高缓冲效果。因此,能减少运送时的振动、撞击,且可在防护薄膜组件上未附着异物而不受污染之状态下,将其保持洁净状态而输送。

7. 发明专利

TWI300362B 模具式塗佈器之塗佈方法及利用此方法所製造之微影用防護膠膜組件 DIE-COATING METHOD AND PELLICLE FOR PHOTOLITHOGRAPHY MANUFACTURED BY THE SAME METHOD 有权
简体标题：模具式涂布器之涂布方法及利用此方法所制造之微影用防护胶膜组件 DIE-COATING METHOD AND PELLICLE FOR PHOTOLITHOGRAPHY MANUFACTURED BY THE SAME METHOD
公开(公告)号：TWI300362B
公开(公告)日：2008-09-01
申请号：TW094128362
申请日：2005-08-19
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：關原一敏 SEKIHARA, KAZUTOSHI
IPC分类号： B05C
CPC分类号： G03F1/62 , B05C5/0254 , B05D1/265 , Y10T428/3154 , Y10T428/31971
摘要：本發明之目的為確立在模具式塗佈器之模具之維修‧管理方
式,並以低成本得到含極少異物之大型防護膠膜組件。為達成前
述目的,本發明提供一種模具式塗佈器之塗佈方法,其特徵為
預先令模具前端浸泡於或接觸在容器等所儲存之塗佈液體;
使用時藉著向上方緩緩的升高之方式,利用塗佈液體之表面
張力,在模具前端形成無液滴之狀態後,向基板上排出塗佈液體
而進行塗佈。
於不進行塗佈時,較佳的情況是:令模具時常浸泡於或接觸
塗佈液體,同時並使通過過濾器之塗佈液體由模具前端連續或間
歇的排出,且對於液中之模具進行超音波清潔。
简体摘要：本发明之目的为确立在模具式涂布器之模具之维修‧管理方式,并以低成本得到含极少异物之大型防护胶膜组件。为达成前述目的,本发明提供一种模具式涂布器之涂布方法,其特征为预先令模具前端浸泡于或接触在容器等所存储之涂布液体; 使用时借着向上方缓缓的升高之方式,利用涂布液体之表面张力,在模具前端形成无液滴之状态后,向基板上排出涂布液体而进行涂布。于不进行涂布时,较佳的情况是:令模具时常浸泡于或接触涂布液体,同时并使通过过滤器之涂布液体由模具前端连续或间歇的排出,且对于液中之模具进行超音波清洁。

8. 发明专利

TW200821233A 防護薄膜組件收納容器 PELLICLE STORAGE CONTAINER 审中-公开
简体标题：防护薄膜组件收纳容器 PELLICLE STORAGE CONTAINER
公开(公告)号：TW200821233A
公开(公告)日：2008-05-16
申请号：TW096140952
申请日：2007-10-31
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：關原一敏 SEKIHARA, KAZUTOSHI
IPC分类号： B65D
摘要：本發明提供一種防護薄膜組件收納容器,其具有能承受保管、輸送中之外力衝擊的足夠剛性,而且能抑制蓋體掀開時的劇烈外氣捲吸,防止異物附著於防護薄膜組件。為達成上述目的,對樹脂片材進行成形以作為防護薄膜組件收納容器的蓋體1,並在該蓋體1上表面上設置肋部3,其與蓋體短邊所成角度在10�以內,而且與其他肋部不交叉。由於各肋部並未被其他肋部切斷,故能大大提高肋部3上下方向(縱方向)的剛性,並能防止因為外力所造成的蓋體變形以及防護薄膜組件的損傷。
简体摘要：本发明提供一种防护薄膜组件收纳容器,其具有能承受保管、输送中之外力冲击的足够刚性,而且能抑制盖体掀开时的剧烈外气卷吸,防止异物附着于防护薄膜组件。为达成上述目的,对树脂片材进行成形以作为防护薄膜组件收纳容器的盖体1,并在该盖体1上表面上设置肋部3,其与盖体短边所成角度在10�以内,而且与其他肋部不交叉。由于各肋部并未被其他肋部切断,故能大大提高肋部3上下方向(纵方向)的刚性,并能防止因为外力所造成的盖体变形以及防护薄膜组件的损伤。

9. 发明专利

TWI293477B 防護膠膜組件收納容器 PELLICLE STORAGE CONTAINER 有权
简体标题：防护胶膜组件收纳容器 PELLICLE STORAGE CONTAINER
公开(公告)号：TWI293477B
公开(公告)日：2008-02-11
申请号：TW095106577
申请日：2006-02-27
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：野崎聰 NOZAKI, SATOSHI , 關原一敏 SEKIHARA, KAZUTOSHI
IPC分类号： H01L , B65D
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/66 , G03F7/70741 , G03F7/70983
摘要：本發明係提供收納防護膠膜組件不會附著異物且可防止防護膠膜組件之污損而維持品質之照相平版印刷用防護膠膜組件收納容器。本發明係由用以載置防護膠膜組件之容器本體、及覆蓋防護膠膜組件且邊緣部與容器本體互相嵌合固定之蓋體所構成之防護膠膜組件收納容器，將框架保持銷插入設於防護膠膜框架外側面之孔來保持防護膠膜組件。該容器本體為樹脂、該容器本體接合著金屬構件、對保持防護膠膜組件之該框架保持銷進行定位之定位構件及組裝於容器本體之該金屬構件係以機械方式進行連結、以及保持防護膠膜組件之該框架保持銷與防護膠膜框架之接觸部設置著彈性體時為佳，此外，該容器本體及該蓋體之材質為樹脂且具有表面電阻值為1×1012Ω/□以下之防靜電性能更佳。
简体摘要：本发明系提供收纳防护胶膜组件不会附着异物且可防止防护胶膜组件之污损而维持品质之照相平版印刷用防护胶膜组件收纳容器。本发明系由用以载置防护胶膜组件之容器本体、及覆盖防护胶膜组件且边缘部与容器本体互相嵌合固定之盖体所构成之防护胶膜组件收纳容器，将框架保持销插入设于防护胶膜框架外侧面之孔来保持防护胶膜组件。该容器本体为树脂、该容器本体接合着金属构件、对保持防护胶膜组件之该框架保持销进行定位之定位构件及组装于容器本体之该金属构件系以机械方式进行链接、以及保持防护胶膜组件之该框架保持销与防护胶膜框架之接触部设置着弹性体时为佳，此外，该容器本体及该盖体之材质为树脂且具有表面电阻值为1×1012Ω/□以下之防静电性能更佳。

10. 发明专利

TW200707561A 防護膠膜之剝離方法 METHOD OF PELLICLE FILM PEELING 审中-公开
简体标题：防护胶膜之剥离方法 METHOD OF PELLICLE FILM PEELING
公开(公告)号：TW200707561A
公开(公告)日：2007-02-16
申请号：TW095115043
申请日：2006-04-27
申请人：信越化學工業股份有限公司 SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
发明人：關原一敏 SEKIHARA, KAZUTOSHI
IPC分类号： H01L
摘要：一種防護膠膜之剝離方法,於長邊為300mm以上的大型防護膠膜之製造中,能在短時間內且無損傷地將成膜於平滑基板上之防護膠膜剝離。於防護膠膜框架的長邊為300mm以上之大型防護膠膜組件之製造中,在使用剝離握柄15將成膜於平滑基板上之防護膠膜12剝離時,由兩個以上方向進行剝離。用來剝離防護膠膜的剝離工模之形狀可以為多邊形。
简体摘要：一种防护胶膜之剥离方法,于长边为300mm以上的大型防护胶膜之制造中,能在短时间内且无损伤地将成膜于平滑基板上之防护胶膜剥离。于防护胶膜框架的长边为300mm以上之大型防护胶膜组件之制造中,在使用剥离握柄15将成膜于平滑基板上之防护胶膜12剥离时,由两个以上方向进行剥离。用来剥离防护胶膜的剥离工模之形状可以为多边形。

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